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シンガポールの特許の審査基準へのアクセス方法

2013年11月12日

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■概要
シンガポールにおける特許の審査基準は、シンガポール知財庁(IPOS)のウェブサイトで英語版が閲覧可能である。ウェブサイトも英語で運営されている。
■詳細及び留意点

【詳細】

 シンガポールにおける特許の審査基準(Guide on Patentability Issues arising during Search and Examination(検索及び審査において生じる特許性の問題に関するガイド))は、シンガポール知財庁(IPOS)のウェブサイトで閲覧が可能である。ここではIPOSウェブサイト上での特許の審査基準の閲覧の仕方を紹介する。

 

(1) http://www.ipos.gov.sg/ にアクセスし、上部のバーの左から3つ目「About IP(知財について)」にポインタをあてると、プルダウンメニューが表示される。

IPOSトップ画面

IPOSトップ画面

 

(2) プルダウンメニュー一番上の「What is Intellectual Property and what are the different types?(知的財産及びその様々な種類とは?)」をクリックすると次の画面があらわれる。

「What is Intellectual Property and what are the different types?(知的財産及びその様々な種類とは?)」のページ

「What is Intellectual Property and what are the different types?(知的財産及びその様々な種類とは?)」のページ

 

(3) 上記(2)の画面で「What is a patent?(特許とは?)」をクリックするとさらに詳細な項目が表示されるので、「Patent resources(特許資料)」を選択する。

「Patent resources(特許資料)」を選択

「Patent resources(特許資料)」を選択

 

(4) すると、次のような画面が表示される。

「Patent resources(特許資料)」のページ

「Patent resources(特許資料)」のページ

 

 「Patent resources(特許資料)」のページには、下記のものが掲載されている。

 

  • Patents Infopack(特許についての資料)
  • Guide on Patentability Issues arising during Search and Examination(検索及び審査において生じる特許性の問題に関するガイド)
  • IPOS’ Guide To The 2008 Patents Amendments(2008年特許法改正のガイド)
  • Guide on the 2007 Patents Amendments Relating To Patent Filing(特許出願に関する2007年特許法改正についてのガイド)
  • Guide on the 2007 Patents Amendments Relating To Priority Claims(優先権主張に関する2007年特許法改正についてのガイド)
  • License of Right (LOR)(ライセンス・オブ・ライトについて)

                                                  
 上記画面において「Guide on Patentability Issues arising during Search and Examination(検索及び審査において生じる特許性の問題に関するガイド)」をクリックすればPDF形式で閲覧できる(印刷・ファイル保存が可能)。

「Guide on Patentability Issues arising during Search and Examination(検索及び審査において生じる特許性の問題に関するガイド)」の表紙

「Guide on Patentability Issues arising during Search and Examination(検索及び審査において生じる特許性の問題に関するガイド)」の表紙

 

■ソース
・シンガポール知財庁(IPOS)ウェブサイト
http://www.ipos.gov.sg/
■本文書の作成者
一般財団比較法研究センター 不藤真麻
■本文書の作成時期
2013.09.03
■関連キーワード
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