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メキシコにおける特許・実用新案出願制度概要

2019年10月24日

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  • 特許・実用新案

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■概要
特許の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)実体審査、(5)登録の手順で進められる。実用新案もほぼ同様であるが、進歩性を求められず、また、出願公開はされずに登録後に公告となる。特許および実用新案の存続期間はそれぞれ出願から20年および10年である。特許および実用新案とも審査請求制度は採用されておらず、出願全数が審査される。
■詳細及び留意点

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■本文書の作成者
Licks特許法律事務所 ブラジル弁護士 カラペト・ホベルト
■協力
日本国際知的財産保護協会
■本文書の作成時期
2019.02.02
■関連キーワード
手続   審査   特許   実用新案   入門者向け   MX-am-2001   MX:メキシコ   出願制度   MX-an-2001  

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