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シンガポールにおける特許出願制度概要

2019年07月25日

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■概要
シンガポールにおける主な特許出願手続は、出願、出願日の通知、方式審査、出願公開、調査および審査、特許付与の通知、特許付与、特許証の発行および公告の手順で進められる。調査および審査では、シンガポール知的財産庁が調査および実体審査を行うオプション、対応外国出願の調査結果を用いて実体審査を行うオプション、対応外国出願の調査結果および審査結果を用いて補充審査を行うオプションが選択可能である。特許権の存続期間は、出願日から20年である。
■詳細及び留意点

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■本文書の作成者
オンダ国際特許事務所 弁理士 金森晃宏
■協力
日本国際知的財産保護協会
■本文書の作成時期

2018.09.28

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