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エジプトにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアル

2017年11月30日

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■概要
「中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」(平成29年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部Lでは、エジプトにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルについて、出願制度の概要や審査の実態が、特許、実用新案、意匠、商標の権利種別毎に条文やフローチャートを交えて説明されている。なお、審査基準・審査マニュアルは特にない。
■詳細及び留意点

 「中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」(平成29年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部L

 

(目次)

第2部 調査研究結果

 L エジプト P.459

  1 概要及び基礎情報 P.459

  2 特許 P.469

  3 実用新案 P.481

  4 意匠 P.485

  5 商標 P.494

 

 N 総括表 P.509

■ソース
中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」(平成29年3月、日本国際知的財産保護協会)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/jpowp/wp-content/uploads/2017/11/d63aa1c4c9e6d00e3f67b7e60ce19108.pdf
■本文書の作成者
日本技術貿易株式会社
■本文書の作成時期

2017.09.22

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