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インドにおける知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編

1. 出願ルート
 インドでは、特許権、意匠権、商標権を取得するために、以下のルートにより出願することができる。また、特許権および商標権については、国際出願(PCT、マドリッドプロトコル)が可能である。インドには無審査で登録可能な権利、例えば、実用新案権はない。

[インドにおける出願ルート]

直接出願国際出願広域出願
特許不可
実用新案
意匠不可不可
商標不可

<諸外国・地域・機関の制度概要および法令条約等>
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html

2. 法令・制度等
(1) 主な法律

法域法律・規則(公用語)/(英語)
a: 法律・規則等の名称
b: 主な改正内容
URL:
改正年
(YYYY)
施行日
(DD/MM/
YYYY)
特許
(公用語・英語)
a: The Patents Act,1970(incorporating all amendments till 23-06-2017)
b: 各地の高等裁判所に関する記載が削除された(第2条(1)(i))。特許出願日が明確にされた(第45条)。特許登録簿への記載事項が明確にされた(第67条)。特許代理人について明確にされた(第128条)。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_113_1_The_Patents_Act_1970_-_Updated_till_23_June_2017.pdf
201723/06/2017
(日本語)
a: インド1970年特許法、2017年6月23日公布
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-tokkyo.pdf
(公用語・英語)
a: Indian Patent Act 1970, The Patents (Amendment) Act 2005
b: 拒絶理由解消期間の設定。審査請求制度の導入、既存の物質の新規な使用を不特許事由から除外。食品・薬品、医薬品分野における物質も特許の対象に。付与前および付与後異議申立制度の導入。管理官の指示や指令に対する知的財産審判委員会へ不服申立制度の導入。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_69_1_patent_2005.pdf
200504/04/2005
(日本語)
a: インド1970年特許法、インド2005年(改正)特許法
https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/6086233/www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/s_sonota/fips/mokuji.htm
(公用語・英語)
a: Patents (Amendment) Rules, 2021
b:「教育機関」が定義された(規則2)。手数料に教育機関に関する事項が追加された(規則7)。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/Patents__Amendment__Rules__2021.pdf
202121/09/2021
(日本語)
a: 改正特許規則(2021)
(なし)
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2021/in/20210930.pdf
(公用語・英語)
a: Patents (Amendment) Rules, 2020
b: 優先権書類の提出要件が改正された(規則21)。実施報告書の提出方法が改正された(規則131,Form27)
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/patents_amendment_rules_2020.pdf
202019/10/2020
(日本語)
a: 改正特許規則(2020)
(なし)
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2020/in/news_20201021.pdf
(公用語・英語)
a: Patents Amendment Rules, 2019
b: 早期審査の要件が改正された(規則24C)。書類の配達および送達方法が改正された(規則6)。スタートアップに関する手数料の手続きが変更された(規則7)。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/patents_amendment_rules_2019.pdf
201917/09/2019
(日本語)
a: 改正特許規則(2019)
(なし)
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2019/in/news_20190920.pdf
(公用語・英語)
a: Indian Patent Rules 2003, The Patents (Amendment) Rules 2017
b:「スタートアップ」が定義された。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_76_1_1_76_1_2018-01-02__2_.pdf
201701/12/2017
(日本語)
a: インド2003年特許規則、インド2017年(改正)特許規則
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-tokkyo_kisoku.pdf
(公用語・英語)
a: Indian Patent Rules 2003, The Patents (Amendment) Rules 2016
b: 拒絶理由解消期間が6か月に短縮され、最大で3か月延長できるようになった。スタートアップという出願人の区分が追加された。出願の取下げが無料となった。審査報告書が発送されていない出願を取り下げた場合に一部の審査請求料金が払い戻しされる制度が設けられた。請求項や要約書に参照番号を挿入することが必須になった。ビデオ会議で聴聞を受けることが可能になった。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_14_1_patent-rules-2006.pdf
201616/05/2016
(日本語)
a: インド特許規則2003年、インド特許規則2006年改正
https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/998256/www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/s_sonota/fips/mokuji.htm
関連記事:「インドにおける特許出願の補正の制限」(2023.01.26)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27695/

関連記事:「インドにおける特許異議申立制度-付与前異議申立と付与後異議申立」(2023.02.14)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/33767/

関連記事:「インドにおける特許の実施報告制度(2020年特許規則改正)」(2022.07.12)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/24051/

関連記事:「インド特許出願における優先権主張の手続(2020年特許規則改正)」(2022.02.17)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/22598/

関連記事:「インドにおける特許出願制度概要」(2019.06.13)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17416/

関連記事:「インドの特許関連の法律、規則、審査マニュアル」(2019/02/14)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16518/

関連記事:「インドにおける特許年金制度の概要」(2018.05.15)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15053/


意匠(公用語・英語)
a: Indian Design Act 2000
b: 意匠法1911年はインド意匠法2000年により置き換えられた。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_58_1_design_act_1_.PDF
200025/05/2000
(日本語)
a: インド意匠法2000年
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-ishou.pdf
(公用語・英語)
a: Design (Amendment) Rule 2021
b: 「スタートアップ」のカテゴリーを定義した(規則2)。諸手続き費用を改正した(規則5)。ロカルノ分類の採用を規定した(規則10)。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/The_Designs__amendment___Rules__2021.pdf
202125/01/2021
(日本語)
a: 改正意匠規則(2021)
(なし)
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2021/in/20210201.pdf
(公用語・英語)
a: Indian Design Rule 2001, The Design (Amendment) Rule 2014
b: 出願人の区分として小規模事業体が追加された。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/1_23_1_design-amendment-rules-2014.pdf
201430/12/2014
(日本語)
a: インド2001年意匠規則、インド2014年(改正)意匠規則
(なし)
(公用語・英語)
a: Indian Design Rule 2001, The Design (Amendment) Rule 2008
b: 書類を電子的に提出が可能になった。書類や図面の書式が定義された。拒絶理由解消期間の延長の規定が設けられた。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/1_26_1_design-rules-2008.pdf
200817/06/2008
(日本語)
a: インド2001年意匠規則、インド2008年(改正)意匠規則2008年改正
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-ishou_kisoku.pdf
関連記事:「日本とインドにおける意匠権の権利期間および維持に関する比較」(2023.11.14)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37673/

関連記事:「インド法における意匠保護に関する機能性と可視性の概念」(2020.10.22))
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19532/

関連記事:「インドにおける画像意匠の保護制度」(2020.10.13)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19502/

関連記事:「日本とインドにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較」(2019.10.01)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17762/

関連記事:「インドの意匠関連の法律、規則、審査マニュアル」(2019.03.21)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16711/

関連記事:「インドにおける意匠出願制度概要」(2019.06.13)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17418/

関連記事:「日本とインドの意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較」(2015.07.17)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/9269/

関連記事:「インドにおける意匠出願の補正」(2015.03.31)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8156/


商標(公用語・英語)
a: Indian Trademarks Act 1999, The Trademarks (Amendment) Act 2010
b: 商標は出願日から18か月以内に登録されなければならないこととなった。商標の公告から4か月以内に異議申立が可能となった。テキスタイル商品およびテキスタイル商標の概念が削除された。マドプロ出願が導入された。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_46_1_tmr-amendment-act-2010.pdf
201021/09/2010
(日本語)
a: インド1999年商標法、インド2010年(改正)商標法
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-shouhyou.pdf
(公用語・英語)
a: Indian Trademarks Rules 2002, The Trademarks (Amendment) Rules 2017
b: 庁費用が上がった。出願人の区分にスタートアップが追加された。電子出願が促進された。周知商標の認定手続きが導入された。早期審査請求が可能になった。音商標の登録が可能になった。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_69_1_Trade_Marks_Rules_2017.pdf
201703/06/2017
(日本語) a: インド2002年商標規則、インド2017年(改正)商標規則
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-shouhyou_kisoku.pdf
(公用語・ヒンズー語/英語)
a: Indian Trademarks Rules 2002, The Trademarks (Amendment) Rules 2013
b: 庁費用が上がった。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_58_1_tmr-amendment-rules-13september2013.pdf
201301/08/2013
(日本語)
a: インド2002年商標規則、インド2013年改正商標規則
(なし)
関連記事:「インドにおける商標異議申立制度」(2023.03.23)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/34075/

関連記事:「インドにおける商標のコンセント制度について」(2023.01.31)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27693/

関連記事:「インドにおけるブランド保護」(2021.06.22)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/20269/

関連記事:「インド商標法に基づく拒絶理由に関する調査報告書」(2021.08.24)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20765/

関連記事:「インドにおける商標制度のまとめ-実体編」(2020.06.11)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18629/

関連記事:「インドにおける商標制度のまとめ-手続編」(2020.10.08)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19497/

関連記事:「インドの商標関連の法律、規則、審査マニュアル」(2019.03.26)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16714/

関連記事:「インドにおける商標出願制度概要」(2019.07.09)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17532/

関連記事:「インドにおける悪意(Bad-faith)の商標出願に関する法制度および運用」(2019.2.7)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16493/

関連記事:「インドにおける連続(シリーズ)商標制度」(2018.09.18)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/15836/

関連記事:「インドにおける証明商標制度」(2015.11.10)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8548/


著作権法(公用語・英語)
a: Indian Copyright Act 1957, The Indian Copyright (Amendment) Act 2012
b: 「商業的貸与」が定義された。実演家の排他的権利が再定義された。録画物が定義された。著作権委員会の構成などが定義された。強制利用許諾が設定された。WCTおよびWPPTの規定に準拠した。
https://copyright.gov.in/Documents/CRACT_AMNDMNT_2012.pdf
201207/06/2012
(日本語)
a. インド1957年著作権法、インド2012年(改正)著作権法
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/copyright_201809.pdf
不正競争インドにはこの法律に相当する法律はない。

(2) 審査基準等

審査基準、ガイドライン、マニュアル等
a:審査基準等の名称
URL:
最終更新
b:(DD/MM/YYYY)
特許(公用語・英語)
a: Manual of Patent Office Practice and Procedure
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/Manual_for_Patent_Office_Practice_and_Procedure_.pdf
26/11/2019
(日本語)
a: 特許庁の特許実務及び手続の手引(インド)
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/201103_tokkyo_01.pdf(2011年修正)
https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2019/in/news_20191209.pdf(2019年改正概要)
意匠(公用語・英語)
a: Manual of Design Office Practice and Procedure
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOGuidelinesManuals/1_30_1_manual-designs-practice-and-procedure.pdf
(日本語)
a: 意匠審査の実務及び手続の手引
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/2011_ishou_01.pdf
商標(公用語・英語)
a: Manual of Trademarks Practice and Procedure (draft)
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOGuidelinesManuals/1_33_1_public-notice-11march2015.pdf
10/03/2015
(日本語)
a: 商標マニュアル(案)実務と手引き
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/manual_of_trade_marks_201503_jp.pdf

(3) 主な条約・協定(加盟状況)

条約名加盟加盟予定
(YYYY)
未加盟
(1) パリ条約
 (工業所有権の保護に関するパリ条約)

1998

(     )
(2) PCT
 (特許協力条約)

1998

(     )
(3) TRIPs
 (知的所有権の貿易関連の側面に関する協定)

1995

(     )
(4) PLT
 (特許法条約)

(     )

未加盟
(5) IPC
 (国際特許分類に関するストラスブール協定)

(     )

未加盟
(6) ハーグ協定
 (意匠の国際登録に関するハーグ協定)

(     )

未加盟
(7) ロカルノ協定
 (意匠の国際分類を定めるロカルノ協定)

2019

(     )
(8) マドリッド協定
 (標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書)

2013

(     )
(9) TLT
 (商標法条約)

(     )

未加盟
(10) STLT
 (商標法に関するシンガポール条約)

(     )

未加盟
(11) ニース協定
 (標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定)

2019

(     )
(12) ベルヌ条約
 (文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約)

1928

(     )
(13) WCT
 (著作権に関する世界知的所有権機関条約)

2018

(     )
(14) WPPT
 (実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約)

2018

(     )

3. 料金表

[特許](公用語・英語)
Title: The First Schedule Fees
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/ev/schedules/Schedule_1.pdf
[意匠] (公用語・英語)
Title: The Designs(amendment), Rules, 2021 
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/The_Designs__amendment___Rules__2021.pdf
[商標] (公用語・英語)
Title: Forms and Fees
https://ipindia.gov.in/form-and-fees-tm.htm 
関連記事:「インドにおける産業財産権権利化費用」(2019.8.8)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17617/ 

関連記事:「インドにおける特許年金制度の概要」(2018.5.15)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15053/

中国における知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編

1. 出願ルート
 中国では、専利権(特許権、実用新案権、意匠権)、商標権を取得するために、以下のルートにより出願することができる。

[中国における出願ルート]

直接出願国際出願から広域出願
特許不可
実用新案不可
意匠不可
商標不可

<諸外国の制度概要>
・一覧表URL
(特許)https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/1tokkyo.pdf
(実用新案)https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/2jitsuyou.pdf
(意匠)https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/3isyou.pdf
(商標)https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/4syouhyou.pdf
・諸外国の法令・条約等https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html
  (国・地域のリンクをクリックすると各国・地域・機関の制度概要が表示される。)

2. 法令・制度等
(1) 主な法律

法域法律・規則(公用語)/(英語)
a: 法律・規則等の名称
b: 主な改正内容
URL:
改正年
(YYYY)
施行日
(DD/MM/
YYYY)
専利(中国語)
a:中华人民共和国专利法(2020年修正)
b: 部分意匠制度の創設、新規性喪失の例外事項の追加、非特許事由の追加、意匠の国内優先権の創設、優先権書類の提出期限の緩和、意匠の存続期間の延長、発明専利権の期間の補償制度の増加、専利出願と専利権の行使において信義誠実の原則の追加、専利開放的許諾制度の創設、専利権侵害の懲罰性賠償の創設等
URL:https://www.cnipa.gov.cn/art/2020/11/23/art_97_155167.html

関連記事:「中国における過去10年間(2006年~2015年)の法改正の経緯」(2018.1.11)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/14401/

関連記事:「中国における専利行政取締りに関する法制度」(2017.12.21)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/14336/

関連記事:「中国の特許・実用新案、意匠関連の法律、規則、審査基準等」(2018.7.31)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15571/

(英語)
a: Patent Law of the People’s Republic of China (amended up to October 17, 2020)
URL: https://www.wipo.int/wipolex/en/text/585084

(日本語)
a:中華人民共和国専利法(改正)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/regulation/20210601_jp.pdf

2020

01/06/2021
(中国語)
a:中华人民共和国专利法实施细则(2010年修订)
b: 専利法改正に伴う改正。
URL:https://www.cnipa.gov.cn/art/2015/9/2/art_98_28203.html

(英語)
a: Implementing Regulations of the Patent Law of the People’s Republic of China (promulgated by Decree No. 306 of the State Council of China on June 15, 2001, and revised by the Decision of January 9, 2010, of the State Council on Amending the Implementation Regulations of the Patent Law of the People’s Republic of China)
URL:https://www.wipo.int/wipolex/en/text/182267

(日本語)
a:中華人民共和国専利法実施細則
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/admin/20100201.pdf

(2024年4月注:上記URL(日本語)は現在つながりません。下記ご参照ください。
中華人民共和国専利法実施細則(2010年2月1日改正)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/admin/20100201_rev.pdf(日本語)
中華人民共和国専利法実施細則(2024年1月20日施行)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/admin/20240120_1.pdf(日本語)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/origin/admin20240120_1.pdf(中国語))

2010

01/02/2010
商標(中国語)
a:中华人民共和国商标法(2019年修正)
b:使用目的欠如の商標出願を拒絶事由、無効事由に追加,使用目的欠如商標の代理に関する代理機構の制限,法定賠償額の引き上げ,模倣品製造用具の廃棄など。
URL:https://www.cnipa.gov.cn/art/2019/7/30/art_95_28179.html

関連記事:「中国における商標法改正」(2020.03.03)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18328/  

(英語)
a: Trademark Law of the People’s Republic of China (amended up to April 23, 2019)
URL: https://www.wipo.int/wipolex/en/text/579988

(日本語)
a:中華人民共和国商標法
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/regulation/20191101law_2_jp.pdf

関連情報:中華人民共和国商標法新旧法対照表(2019年4月23日改正 2019年11月1日施行:日本貿易振興機構(ジェトロ)北京事務所)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/regulation/20191101_jp.pdf

関連記事:「中国改正商標法及び実施条例の主な改正点」(2016.01.12)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10201/

関連記事:「中国改正商標法関連規定の主な改正点」(2016.01.19)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10203/

関連記事:「中国改正商標法について留意すべき点」(2016.02.02)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10238/

関連記事:「中国における商標法改正に伴う「馳名商標の認定と保護規定」への影響」(2015.03.11)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/8036/

関連記事:「中国改正商標法と現行制度の審査業務フローの比較および改正後の法執行の概要」(2016.01.22)
URL: https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10234/

2019

01/11/2019
(中国語)
a:中华人民共和国商标法实施条例(2014年)
b: 商標法改正に伴う改正。
URL:https://www.cnipa.gov.cn/art/2015/9/14/art_96_28188.html

(英語)
a: Regulations for the Implementation of the Trademark Law of the People’s Republic of China (promulgated by Decree No. 358 of the State Council of the People’s Republic of China on August 3, 2002; revised and promulgated by Decree No. 651 of the State Council of the People’s Republic of China on April 29, 2014) of the Trademark Law of the People’s Republic of China
URL:https://wipolex.wipo.int/zh/text/425590

(日本語)
a:中華人民共和国商標法実施条例(2013年8月30日改正) 日本貿易振興機構(ジェトロ)北京事務所)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/admin/20140501_rev.pdf

2013

01/05/2014
著作権法(中国語)
a:中华人民共和国著作权法(2020年修正)
b: 以下の6点
(1)第四条は「著作権者および著作隣接権者は著作権を行使するときは、憲法及び法律に違反してはならず、公共の利益を害してはならない。国家は法律に基づき、作品の出版、伝達に対して監督管理を行う。」と改正された。
(2)第二十八条として「著作権の中の財産権を質入する場合、質権設定者と質権者は法によって、質入登記手続きを行わなければならない」の規定が追加された。
(3)「映画著作物及び映画の制作に類似する方法によって創作された著作物」を「視聴覚著作物」に改正された。
(4)懲罰性の賠償制度が創設された。
(5)共同創作された作品の権利所属と権利行使の規則が明確された。
(6)第十六条には、「既存の著作物を翻案、翻訳、注釈、整理、編集することにより生じた著作物を使用して出版・実演、録音録画製品の作成を行う場合、当該著作物の著作権者及び原著作物の著作権者の許諾を得た上で、報酬を支払わなければならない。」の規定が追加された。
URL:https://flk.npc.gov.cn/detail2.html?ZmY4MDgwODE3NTJiN2Q0MzAxNzVlNDc2NmJhYjE1NTc%3D

(英語)
a: Copyright Law of the People’s Republic of China (amended up to November 11, 2020)
URL:https://www.wipo.int/wipolex/en/legislation/details/21065

(日本語)
a:中華人民共和国著作権法(2020年11月11日改正) 独立行政法人 日本貿易振興機構(ジェトロ)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/biz/seminar/2021/61ca6c4dedfdde2c/copyright2020.pdf

2020

01/06/2021
反不正当竞争法(中国語)
a: 中华人民共和国反不正当竞争法
b: 今回の改正は営業秘密に集中して行われていた。
(1)営業秘密の定義が改正され、「電子的手段による侵入」手段をもって権利者の営業秘密を獲得する行為が追加され、営業秘密の保護範囲が拡大された。
(2)悪意をもって営業秘密に係る侵害行為に対する懲罰的賠償が追加された。
(3)監督検査部門の違法行為に対する過料の上限が、500万元に引き上げられた。
(4)「営業秘密に係る侵害に関する民事裁判手続きにおいて、営業秘密の権利者が初歩的な証拠を提示し、主張する営業秘密に対して秘密保持措置を講じたことを証明し、且つ営業秘密が侵害されたことの適正な証明を行った場合は、侵害被疑者は権利者が出張した営業秘密が本法にいう営業秘密に属されないことを証明しなければならない。」の規定が追加された。
URL:https://flk.npc.gov.cn/detail2.html?ZmY4MDgwODE2ZjEzNWY0NjAxNmYyMTY5ZGU5YjFhY2U%3D

(英語)
a:なし

(日本語)
a:なし
※関連情報1の2017年改正法を関連情報2の新旧法対照表を用いて読み替える必要がある。

関連情報1: 中華人民共和国反不正競争法(2017年改正)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/regulation/20171104-1_2.pdf

関連情報2:不正競争防止法新旧法対照表(2019年4月23日改正) 独立行政法人 日本貿易振興機構(ジェトロ)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/regulation/20190423_jp.pdf

関連記事「中国における反不正当競争法改正」(2020.4.7)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18430/

2019

23/04/2019

(2) 審査基準等

法域審査基準、ガイドライン、マニュアル等
a:審査基準等の名称
URL:
最終更新
(DD/MM/YYYY)
専利(中国語)
a:专利审查指南2010 中华人民共和国国家知识产权局
URL:https://www.cnipa.gov.cn/art/2015/1/9/art_99_28237.html

関連情報1:国家知识产权局关于修改《专利审查指南》的公告(第391号)
URL:https://www.cnipa.gov.cn/art/2020/12/14/art_74_155606.html

関連情報2: 关于《专利审查指南》修改的公告(第328号)
URL:https://www.cnipa.gov.cn/art/2020/6/5/art_1567_93048.html

関連情報3:国家知识产权局令(74号)
URL:https://www.cnipa.gov.cn/art/2017/3/6/art_99_28208.html

(英語)
a: Guidelines for Patent Examination
URL:https://wipolex.wipo.int/en/text/298963

(日本語)
a:専利審査指南2010(2010年2月1日) 独立行政法人 日本貿易振興機構(ジェトロ)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/section/20100201.pdf

関連情報1:「専利審査指南」の改正に関する国家知識産権局の決定(局公告)第391号 独立行政法人 日本貿易振興機構(ジェトロ)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/section/20210115.pdf

関連情報2:「専利審査指南」の改正に関する国家知識産権局の決定(第74号)(2017) 独立行政法人 日本貿易振興機構(ジェトロ)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/section/20170302-1.pdf

(2024年4月注:上記URL(日本語)は現在つながりません。 下記ご参照ください。
専利審査指南(2024年1月20日施行)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/section/20240120_1.pdf(日本語)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/section/20240120_2.pdf(中国語)
関連情報1:
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/section/20210115_rev.pdf
関連情報2:
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/section/20170302-1_rev.pdf

01/02/2010



15/01/2021




01/11/2019



01/04/2017




01/02/2010



01/02/2010




15/01/2021





01/04/2017
商標(中国語)
a:商标审查审理指南(2021)
URL:https://sbj.cnipa.gov.cn/sbj/zcwj/202112/t20211203_6495.html

(日本語)
商標審査審理指南(上編) 独立行政法人 日本貿易振興機構(ジェトロ)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/section/20220101_1.pdf

商標審査審理指南(下編) 独立行政法人 日本貿易振興機構(ジェトロ)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/law/pdf/section/20220101_2.pdf

01/01/2022




01/01/2022

(3) 主な条約・協定(加盟状況)

条約名加盟加盟予定 (YYYY)未加盟
(1) パリ条約  
 (工業所有権の保護に関するパリ条約)

(     )
(2) PCT
 (特許協力条約)

(     )
(3) TRIPs
 (知的所有権の貿易関連の側面に関する協定)

(     )
(4) PLT
 (特許法条約)

(     )
(5) IPC
 (国際特許分類に関するストラスブール協定)

(     )
(6) ハーグ協定
 (意匠の国際登録に関するハーグ協定)

(     )
(7) ロカルノ協定
 (意匠の国際分類を定めるロカルノ協定)

(     )
(8) マドリッド協定
 (標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書)

(     )
(9) TLT
 (商標法条約)

(     )
(10) STLT
 (商標法に関するシンガポール条約)

(     )
(11) ニース協定
 (標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定)

(     )
(12) ベルヌ条約
 (文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約)

(     )
(13) WCT
 (著作権に関する世界知的所有権機関条約)

(     )
(14) WPPT
 (実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約)

(     )

3. 料金表

[情報1]

(中国語)
Title: 专利收费、集成电路布图设计收费标准(専利、集積回路レイアウト設計申請費用)(2019年11月22日)
URL:https://www.cnipa.gov.cn/module/download/down.jsp?i_ID=155983&colID=1518

関連情報:国家知識産権局料金一覧(2017.7.1)独立行政法人 日本貿易振興機構(ジェトロ)
URL:https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/cn/ip/gov/20170701000_1.pdf

関連記事:「中国における専利(特許、実用新案、意匠を含む)出願関連の料金表」(2022.11.17)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27104/

関連記事:「中国における追加手数料に関する運用」(2018.12.18)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/16336/

[情報2]

(中国語)
Title: 规费清单(料金表)(2023.12.05)
URL:https://sbj.cnipa.gov.cn/sbj/sbsq/sfbz/

関連記事:「中国における商標関連の料金表」(2023.10.12)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37462/

中国における仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査

「仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査研究報告書」(令和5年3月、知的財産研究教育財団 知的財産研究所) 

(目次) 
第3部.調査結果 
第1章.公開情報調査 
(仮想事例(仮想事例1(仮想空間の靴)、仮想事例2(仮想空間の椅子))を設定し、中国における仮想空間に関する知的財産について関連する法律(専利法(意匠)、商標法、著作権法、反不正競争法、専利法(特許))で保護される対象、保護が及ばない対象、権利制限/適用除外/効力が及ばないとされる範囲について、分析した結果を示している。) 

第4節.海外調査 
(3)中国 P.68 

第2章.ヒアリング調査
(仮想事例1および2に対するヒアリング項目についての中国の企業や有識者の回答を紹介している。) 

第2節.海外ヒアリング調査 
第3項 中国 P.146 
1.仮想空間を用いたビジネスの現状と展望について 
(1)仮想空間を用いて実用化している又は実用化を想定しているビジネスの内容 
(2)仮想空間を用いたビジネスを実施又は検討する際に発生した、知的財産権に関する課題
(3)仮想空間における知的財産権に関する利用規約や契約の内容 

2.仮想空間における知的財産権の保護の状況・課題・ニーズについての認識について 
①仮想事例1 
②仮想事例2-A、仮想事例2-B 
③仮想事例1、仮想事例2-A、仮想事例2-B以外のビジネス上での知的財産に関する課題および懸念事項 
④中国における法改正又はガイドライン制定等に向けた議論の内容や状況等、議論の状況についての考え 
⑤日本の現行法下でビジネスを行うと仮定した場合のビジネス上の課題や望ましい解決手段の考え方 

3.仮想空間における知的財産権に関する横断的な課題の認識について 
①プラットフォーマー等の責任について 
②越境取引における法の適用について 
③複数の仮想空間に跨った権利やライセンスの効力範囲について 

第4部.まとめ 
(中国における仮想空間に関する知的財産権について、現行の知的財産権各法で保護される対象、保護が及ばない対象の整理、および仮想空間でビジネスを行う企業や有識者等へのヒアリングを行い、法制や議論の状況についての調査結果を総括している。) 

第4章.中国 P.187 
第1節.意匠(専利法) P.187 
第2節.商標法 P.187 
第3節.著作権法 P.188 
第4節.反不正競争防止法 P.188 
第5節.専利法 P.189 

資料編 
資料III 
7.ヒアリング調査の質問票(中国企業) P.260 
8.ヒアリング調査の質問票(中国有識者) P.262 
9.ヒアリング調査の参考資料(中国企業・中国有識者) P.263 

資料IV 
7.中国企業1 P.295 
8.中国企業2 P.299 
9.中国有識者 P.303

韓国における仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査

「仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査研究報告書」(令和5年3月、知的財産研究教育財団 知的財産研究所)

(目次) 
第3部.調査結果 
第1章.公開情報調査 
(仮想事例(仮想事例1(仮想空間の靴)、仮想事例2(仮想空間の椅子))を設定し、韓国における仮想空間に関する知的財産について関連する法律(デザイン保護法、商標法、著作権法、不正競争防止法、特許法)で保護される対象、保護が及ばない対象、権利制限/適用除外/効力が及ばないとされる範囲について、分析した結果を示している。) 

第4節.海外調査 
(4)韓国 P.75 

第2章.ヒアリング調査
(仮想事例1および2に対するヒアリング項目について、韓国の企業や有識者の回答を紹介している。) 

第2節.海外ヒアリング調査 
第4項 韓国 P.160 
(1)仮想空間を用いたビジネスの現状と展望について 
(2)仮想空間における知的財産権の保護の状況・課題・ニーズについての認識について 
①仮想事例1 
②仮想事例2-A、仮想事例2-B 
③仮想事例1、仮想事例2-A、仮想事例2-B以外のビジネス上での知的財産に関する課題および懸念事項 
④韓国における法改正又はガイドライン制定等に向けた議論の内容や状況等、議論の状況についての有識者の考え 
⑤日本の現行法下でビジネスを行うと仮定した場合のビジネス上の課題や望ましい解決手段の考え方 
(3)仮想空間における知的財産権に関する横断的な課題の認識について 
①プラットフォーマー等の責任について 
②越境取引における法の適用について 
③複数の仮想空間に跨った権利やライセンスの効力範囲について 

第4部.まとめ 
(韓国における仮想空間に関する知的財産権について、現行の知的財産権各法で保護される対象、保護が及ばない対象の整理、および仮想空間でビジネスを行う企業や有識者等へのヒアリングを行い、法制や議論の状況についての調査結果を総括している。) 

第5章.韓国 
第1節.デザイン保護法 P.189 
第2節.商標法 P.190 
第3節.著作権法 P.190 
第4節.不正競争防止法 P.191 
第5節.特許法 P.191 

資料編 
資料III 
10.ヒアリング調査の質問票(韓国有識者) P.266 
11.ヒアリング調査の参考資料(韓国有識者) P.268 

資料IV 
10.韓国有識者 P.307 

インドにおける知的財産訴訟の統計データ

1. インドにおける知的財産専門部署の導入による知的財産訴訟の改革 
 2021年4月4日に施行された「2021年審判所改革(合理化および勤務条件)令」により、知的財産審判委員会(IPAB)は廃止された。IPABは、特許庁および商標登録官の決定に対する審判請求を審理するための審判機関として2003年に設立されたが、各種審判所の機能強化および合理化を目的とした広範な改革の一環として解散された。IPABの廃止および2021年審判所改革法の施行により、IPABに継続中の知的財産事件と、1999年商標法、2001年植物品種および農業者の権利保護法、1970年特許法、1957年著作権法および1999年商品の地理的表示(登録および保護)法に基づいてIPABに提起されたであろう新たな知的財産事件のすべてが、IPABの支所が所在していたデリー、ムンバイ、コルカタ、チェンナイ、アーメダバードを所管する各高等裁判所に移管されることとなった。 
 今後、新たに提起される知的財産審判事件については、対象とされる知的財産の出願された特許庁(デリー、ムンバイ、コルカタ、チェンナイ)を管轄する高等裁判所に属することとなった。これは、既存の司法システムの中で知的財産権紛争の専門的な知識を確保し、より効率的な解決を図ることを目的としている。また、2022年にデリー高等裁判所、2023年にマドラス高等裁判所(在チェンナイ)に知的財産部が設置され、最近では、コルカタ高等裁判所においても知的財産を所管するための規則案が通知されており、近いうちにコルカタ高等裁判所にも知的財産部が設置される予定である。なお、知的財産部が設置されていない高等裁判所では、通常の上訴法廷で審理される。

2. 分析方法および分析期間 
 インドの知的財産訴訟に関しては、すべての裁判所の訴訟情報を網羅した単一のデータベースが存在しないため、公開された報告書等により知的財産訴訟の進捗状況を確認するとともに、デリー高等裁判所とボンベイ最高裁判所の公式ウェブサイトで訴訟記録を調査した。両裁判所は、同国の知的財産訴訟の約85%を扱っていると推定されている。 
 なお、各裁判所の公式サイトにおける訴訟情報の公表状況は、全てのデータを考慮したものではなく、データの統計的な正確性を保証するものではない。また、複数の知的財産権が侵害されていると主張されている場合もあり、同一の訴訟が複数回計上されることによって、全体の数値が実際の件数と若干異なる場合がある。 
 データの集計期間は2014年1月から2023年12月までであるが、2021年から2023年までのデータは、デリー高等裁判所のみに関するものである。 
 また、デリー高等裁判所は、「デリー高等裁判所知的財産部門年次報告書2022-23」を公表しており、知的財産部門の導入後の訴訟動向が提供されている。 
 本稿で提供されたデータの分析は、インドにおける知的財産訴訟の成長について楽観的な見通しを与えてくれる。

3. 新たに提起された知的財産訴訟の分析 
3-1. 2014-2016年 
 2014、2015年および2016年に新たに提起された知的財産関連の訴訟件数は、以下のとおりである。

2014年2015年2016年
商標446440495
著作権141167230
特許154054
意匠301015
その他のIP209
合計634657803

 2014年、2015年、2016年には、毎年平均約697件の訴訟が提起され、そのピークは2016年であった。 
 2014年に新たに提起された知的財産に関する訴訟のうち、約7割が商標に関するもの(商標権侵害、詐称通用等)であったが、2015年には67%、2016年には62%となっている。 
 著作権および著作隣接権に関する訴訟の割合は、2014年の22%、2015年の25.4%から2016年には28.6%と大幅に増加している。 
 特許権および意匠権に関する訴訟は、商標および著作権に関する訴訟に比べて圧倒的に少ないが、2014年には7%であった特許権および意匠権に関する訴訟は、2015年には7.6%、2016年には8.6%と増加している。

3-2. 2017-2019年 
 2017、2018年および2019年に新たに提起された知的財産関連の訴訟件数は、以下のとおりである。

2017年2018年2019年
商標316598674
著作権182293368
特許5511844
設計151714
その他のIP974
合計57710331104

 毎年の訴訟件数は、2017年には若干減少したものの、2018年以降急速に増加しており、2019年の訴訟件数は、2014年の634件から1104件に増加している。 
 2017年に提起された知的財産権に関する新規訴訟のうち、商標(商標権侵害・詐称通用等)に関するものは約55%であったが、2018年には58%、2019年には61%と増加している。 
 著作権および著作隣接権に関する訴訟の比率は、2017年には31.5%、2018年には28.4%、2019年には33.3%と引き続き増加傾向にあり、特許および意匠に関する訴訟は、2017年には12%、2018年には13%と一貫して増加傾向にあったが、2019年には5.25%に減少している。

3-3. 2020-2023年 
 2020年以降に新たに提起された知的財産権に関する訴訟件数は、以下のとおりである。

2020年2021年2022年2023年
商標412379347513
著作権215164114227
特許43403855
設計14131228
その他のIP4321
合計688599514824

 毎年の訴訟件数は、2020年から2022年にかけて、世界的なCOVID-19の流行の影響もあり減少したが、2023年には若干ではあるが再び増加しており、今後さらに増加することが予想される。 
 2020年に新たに提起された知的財産権に関する訴訟のうち、商標(商標権侵害・詐称通用等)に関するものは約6割あり、2021年には63.3%、2022年には67.5%、2023年には62.2%となっている。 
 著作権および著作隣接権に係る訴訟の比率は、2020年には31.25%、2021年には27.3%、2022年には22.1%、2023年には27.5%と20~30%台で推移しているが、特許および意匠に係る訴訟の比率は、2020年以降増加傾向にあり、全知的財産訴訟のうち特許権および意匠権に係る訴訟の比率は8.3%であったが、2021年には8.8%に上昇し、2022年には更に増加して10%となり、2023年は横ばいであった。 
 上記の数字は、インドの知的財産環境が、成長過程にあり、かつイノベーションと知的資産の保護に積極的な姿勢であるというダイナミズムを示していることを表している。

4. 提起された知的財産訴訟において認められた仮差止命令の分析 
 2014年から2023年までの仮差止処分の内訳は、以下のとおりである。

仮差止処分命令(%)仮差止命令が認められなかった件数
2014年397(62.6)237
2015年334(50.8)323
2016年312(38.9)491
2017年205(35.5)372
2018年331(34.3)634
2019年306(27.7)798
2020年321(46.7)367
2021年263(23.8)841
2022年153(29.8)361
2023年314(38.1)510

 2014年に提起された知的財産訴訟のうち、裁判所が仮差止命令を発令したのは、62.6%である。 
 2015年には、判決が出るまでの間に、50.8%の事件が原告の権利を保護するために仮差止命令を発令したが、2016年には38.8%に減少し、2017年には35.5%にさらに減少し、2018年には34.3%に減少し、2019年には27.7%とさらに減少した。 
 2020年には、裁判所は46.7%の事件で仮差止命令の発令を支持しているようであるが、2021年には23.8%に、2022年には29.8%に、再び減少している。2023年には、裁判所は38%の事件で差止命令を発令した。 
 インドの裁判所は、知的財産訴訟における仮差止命令の発令には一般的に慎重であるが、権利保有者が一応の根拠に基づいて侵害を証明できる場合には、積極的かつ迅速に仮差止命令を発令し、調査活動を行う地方委員を任命する。調査活動は、当事者による調査、証拠調べ、物件への立ち入りなどの申請に基づいて、裁判所が任命した地方委員によって実施される。

5. 知的財産訴訟の最終処分の分析(2014-2023) 
 2014年から2023年までの裁判所による差止請求に対する最終処分結果を、以下に示す。

裁判所の最終処分和解/取り下げ合計
2014年217436653
2015年260424684
2016年251221472
2017年156334490
2018年149292441
2019年360204564
2020年411440851
2021年213179392
2022年11325138
2023年11473187

 インドの裁判所は、多くの事件において、早期の裁判外の和解を推奨する傾向が見られる。インドに提起された知的財産訴訟の大半は、当事者が望む場合には、調停その他の紛争解決手段に付託されている。2014年から2018年まで、処理された事件全体のおよそ2/3が和解または取り下げとなっている。2019年には、事件の和解または取下げは36%に減少したが、裁判所による事件の処理は増加しているようである。2020年から2023年にかけても同様の傾向が見られるが、事件が係属中であり、多くの事件について最終処分の結果が得られないため、データが正確でない可能性がある。
 しかし、2023年4月の「デリー高等裁判所知的財産部年次報告書2022-23」において、知的財産権問題におけるADRメカニズムの利用が極めて成功していることが報告され、統計によれば、デリー高等裁判所では斡旋・調停センター送致事件の80%から85%が解決されている。

6. まとめ 
 2005年の施策により特許訴訟が増加したが、インドにおける知的財産訴訟に関する統計データによれば、依然として商標権と著作権の行使に関しての知的財産訴訟の提起が多くを占めている。 
 裁判所はまた、長年にわたり、知的財産訴訟における紛争の早期解決のための調停手続を奨励してきており、この手続により、裁判所は、未決の訴訟の多くを解決することができている。 
 立法改革、規制調整、技術の進歩によって推進されたインドの知的財産環境のダイナミックな変化は、進化するグローバルなイノベーション環境に適応するためのインドの積極的な姿勢を示している。迅速な特許審査プログラムの実施と商標出願の合理化は、多様な産業にわたるイノベーションの育成と促進に対するインドの目指す姿勢の明確な表れである。裁判所の枠組みの中に知的財産部門(IPD)を設立することは、知的財産事件を解決する専門の手段を提供し、より強固で効率的な法的手段を確保するための重要な一歩である。インドが知的財産という複雑な分野を進み続ける中で、これらの進歩的なイニシアティブと戦略的発展は、インドを活気に満ちた包括的なイノベーション・エコシステムの育成の最前線に位置付ける。将来、インドが経済的・技術的発展をする上で、必ずや知的財産がより不可欠な役割を果たすことになるであろう。

インドネシアにおける模倣品流通動向調査

「インドネシアにおける模倣品流通動向調査」(2023年3月、日本貿易振興機構 ジャカルタ事務所)

目次

1. 目的 P.4

2. 調査結果 P.4
(ジャカルタの地区別に衣類、バッグ、装身具、化粧品、スペアパーツ、電子機器等の市場の模倣品販売の調査結果を紹介している。また、大手Eコマースプラットフォーム(Tokopedia、Shopee、LazadaおよびBukalapak)における模倣品流通の調査結果を紹介している。)

 2.1 物理的市場の調査 P.4
 2.1.2 序論 P.4
 2.1.3 業界特有の課題 P.4
 2.1.4 模倣品市場に関する情報 – 実地調査 P.5
 2.2 オンライン調査 P.20
 2.2.1 序論 P.20
 2.2.2 模倣品のオンライン市場調査 P.21

3. 最近の政策と主な法改正 P.23
(インドネシアの税関制度の概要、2018年から2023年の間の知的財産に関する法令の改正情報、2022年の知的財産権総局(DGIP)の取組みなどを紹介している。)  

 3.1 税関 P.23
 3.2 IPに関する法令 P.23
 3.2.1 オムニバス法 P.23
 3.2.3 知的財産権総局による最新情報 P.23
 3.3 インドネシアの法規制および関連するテイクダウン規定 P.25
 3.4 IPの啓蒙活動と教育プログラム P.26

4. 模倣品取り締まり機関に関する報告 P.27
(2018年から2021までの知的財産侵害事件の件数、2019年から2022年の商標侵害訴訟、著作権訴訟、特許訴訟、工業意匠訴訟の統計情報および訴訟概要(一部案件)を紹介している。)  

 4.1. 模倣品取り締まりの関連機関およびそれぞれの管轄と権限 P.27
 4.2. 過去5年の模倣品事件 P.28

5. インドネシアの市場における模倣品の実態に関する報告 P.34
(インドネシアの主要港湾の位置、入港船舶数、取り扱う貨物の内容や量などを紹介している。また、中国税関が公表した2016年から2021年までの模倣品差押え件数やインドネシア国内での模倣品の組立ての実態を説明している。INTAの2019年報告書によるインドネシアの模倣品の消費者についての分析した内容を解説している。)  

 5.1 模倣品の流通 P.34
 5.2.2 税関チェックポイントでの模倣品の流通量 P.35
 5.2 インドネシアにおける模造製品の製造と組立て P.37
 5.3 模倣品の消費 P.37

6. インドネシアにおける企業の模倣品対策に関する報告 P.38
(インドネシアにおける模倣品対策(刑事訴訟、民事訴訟、交渉、模倣品防止戦略)について解説している。また、模倣品対策を積極的に実施している企業4社の事例を紹介している。)

 6.1 模倣品が発見された際の対策、対策に要する時間とコスト、対策の成否の理由を説明する。また、模倣品が流通している場合の企業に対する助言も紹介する。 P.38

付属書1B:著作権刑事訴訟のフローチャート P.42
付属書1A:商標刑事訴訟のフローチャート P.43

 6.2 オンラインの模倣品対策を含め、模倣品対策を積極的に実施している日本、欧州、米国の企業の事例 P.44
付属書 P.45
A. DGIP との会議
B. インドネシア国家警察との会議
C. DGCE との会議

香港における意匠公報の調べ方

1.検索画面へのアクセス
(1) 香港知的財産局(Hong Kong Intellectual Property Department)の検索サイト(Online Search System、https://esearch.ipd.gov.hk/nis-pos-view/#/?lang=en)にアクセスすると、図1の画面が表示される。画面上部で使用言語(繁體中文or简体中文or ENGLISH)を変更できる。本記事では、英語サイトの使用方法を説明する。

図1:Online Search Systemトップ画面

(2) 図1の画面中、赤線で囲まれている「Search for Designs」をクリックすると、図2の画面が表示される。画面下部の「私は人間です」の欄の□をクリックすると、図3の画面が表示される。

図2:Notice to Usersの画面

図3:画像質問画面例

(3) 図3画面に表示される写真(写真はその都度変更)を指示に従って選択し、「check」ボタンを押し、写真の画面が消えたら、図2の画面が再度表示されるので、画面下部「Accept」ボタンをクリックする。

図4a:Design Search画面

2.検索方法
 図4aの示す「Design Search」のトップ画面では、画面上部赤線で囲ってある部分に「Quick Search(簡易検索)」、「Advanced Search(詳細検索)」、「Records Extract List」、の切り替えタブがある。

2-1. Quick Search(簡易検索)
 Quick Searchタブに表示される項目は、以下のとおり。
・Status of Registration(登録状況):プルダウンメニューでステータスを選択できる。
 〇Ceased(権利喪失)
 〇Expired(権利満了)
 〇Registered(登録)
 〇Removed(取下げ)
 〇Revoked(取消し)
 〇Surrendered(放棄)
・Article(物品名称)
・Address for Service(代理人住所)
・Date of Entry in the Register(香港知的財産権局への登録情報記録日):数字入力(DD-MM-YYYY)またはカレンダーから日付を選択できる。
・Registration No.(登録番号)
・Registered Owner’s Name(権利者名)
・Class and Sub-class No.(ロカルノ分類およびサブクラス番号)
・Filing Date/Date of Registration(出願日/登録日):数字入力(DD-MM-YYYY)またはカレンダーから日付を選択できる。

図4b:Design Search(More search criteria)画面

「More search criteria(その他の検索条件)」(図4b参照)
・Priority Date(優先権主張日):数字入力(DD-MM-YYYY)またはカレンダーから日付を選択できる。
・Priority Number(優先権主張番号)
・Previous Registration Number(for Association)(先の登録番号(複合))
・Earlier Registration Number(for Division)(最先の登録番号(分割))
・UK Registration Date(英国登録日):数字入力(DD-MM-YYYY)またはカレンダーから日付を選択できる。
・UK Registration Number(英国登録番号)
・Licensee/Mortgagee’s name(実施権者/抵当権者名)

 検索条件を設定し、「Search」ボタンをクリックすると、検索結果が表示される(図5)。確認したい案件をクリックすると案件の詳細情報が表示される(図6a~図6c)。

図5:検索結果画面

図6a:案件の詳細情報

図6b:案件の詳細情報

図6c:案件の詳細情報(Renewal Details(更新情報詳細))

 図6aの画面上部の赤い丸で囲った箇所をクリックすると、公報のPDFを、操作している機器(PC等)に保存することができる。

2-2. Advanced Search(詳細検索)

図7:Design Search画面(Advanced Search)

 検索項目は、「Quick Search」と同一である。「Quick Search」は検索語の前方一致あるいは後方一致検索の際に使用するトランケーション記号(ワイルドカード)の可否のみだが、「Advanced Search」ではドロップダウンリストで以下の検索条件を設定できる(図7)。

・is(同じ):要求された文字と同じ単語を含む結果を検索する。例:“Bottle”、“bottle”
・contains(含む):テキスト文字列内の位置に関係なく、要求された文字を含む結果を検索する。例:“Bottle”、“bottle”、“bottles”および“A bottle opener”
・does not contain(含まない):要求されたテキスト文字列を含まない結果を検索する。
・starts with(始まる):要求された文字で始まる単語を含むレコードを検索する。例:“Bottle of perfume”や“Bottle with cap”
・ends with(終わる):要求された文字で終わる単語を含むレコードを検索する。例:“Perfume bottle”や“A Bottle”
・is between(~の間):指定された範囲に対応するレコードを検索する。
・exists(存在する):選択した基準を含むレコードを検索する。
・does not exist(存在しない):選択した基準を含まないレコードを検索する。

 検索条件を設定し、「Search」ボタンをクリックすると検索結果が表示される。

2-3. Extract List(抽出リスト)

 検索結果に表示されている各案件のリストにおいて、確認したい案件の□にチェックを入れて(図8の赤線で囲んである部分)、画面上部にある★(星)マーク(緑線で囲んである部分)をクリックすると図9のような確認メッセージ(「Add to extract list」)が表示される。

図8:検索結果画面

図9:「Extract List」への案件追加の確認メッセージ画面

 図9のメッセージ画面の「OK」ボタンをクリックすると「Extract List」に案件が追加され、図10の「Records Extract List」タブを選択すると、図11の画面が表示される。

図10:Records Extract Listタブ

図11:Records Extract List詳細画面

タイにおける知的財産関連機関・サイト

(1) 立法機関
・タイ国民議会(National Assembly)
 https://web.parliament.go.th/view/7/nationalassembly/TH-TH

 タイ王国の立法府であって、上院の元老院(250議席)と、下院の人民代表院(500議席)とから構成される二院制を採用している。人民代表院は、元老院よりも優越的権限が付与されており、人民代表院の議長が国会議長を務める。具体的には、法案および予算の先議権を有すること、タイ国王によって任命されたタイ首相を承認すること、首相および閣僚の不信任決議を可決すること等の優越的権限が付与されている。

(2) 行政機関
・タイ知的財産局(Department of Intellectual Property:DIP)
 https://www.ipthailand.go.th/th/home.html

 商務省管轄の組織であって、知的財産権の保護および侵害の抑制のための措置の実行、知的財産権の管理システムの構築、ならびに知的財産権の啓発活動等を目的として設立された。具体的な業務としては、特許法(発明特許、発明小特許、意匠)、商標法、著作権法、地理的表示(GI)およびその他の関連法律に基づいた知的財産権の保護・活用、知的財産の保護のためのシステム開発、知的財産に関する他国組織との連携および協力関係の構築が挙げられる。近年、知的財産局は、システム開発に注力しており、2020年2月よりオンラインによる著作権登録システムの運用を開始、2022年12月より商標の画像検索システムの運用を開始している。

※1:著作権登録システムhttps://copyright.ipthailand.go.th/
※2:商標の画像検索システムhttps://search.ipthailand.go.th/

・タイ経済警察(Economic Crime Suppression Division:ECD)
 http://www.royalthaipolice.go.th/

 タイ警察(Thai Royal Police)の中央捜査局下に設立された、知的財産を含む経済犯罪に対応するための特別組織であり、経済犯罪制圧部とも称される。タイ国内において、損害金額が比較的小規模である知的財産権侵害について、権利者からの情報、要請または職権に基づき摘発(レイド、差押え)を行う(タイ国内全体における事件を取り扱う)。著作権については、権利者の訴えがない限り逮捕は行わない。特許権については、権利者からの訴えとそれを証明する材料の提出に基づき、裁判所の令状を取得の上で摘発を行う。

・タイ特別捜査局(Department of Special Investigation:DSI)
 https://www.dsi.go.th/

 法務省の下に設立された、特別技能を持つ専門家から構成される特別な捜査機関である。捜査対象となる事案としては、複雑で、緻密かつ入念な捜査や情報収集が必要とされる刑事事件、公序良俗や道徳、国家の治安、国際関係等に深刻に抵触する刑事事件、そのほか同捜査機関自らが捜査を請け負うべきと判断する事件などが挙げられている。

・タイ税関(Customs)
 https://www.customs.go.th/

 財務省の下に設立され、知的財産に関する業務として知的財産権の執行および国境における模倣品の取り締まりを行う政府組織である。タイ税関は、タイ関税法、タイ輸出入法、商標法および著作権法等に基づいて、裁判所の命令によることなく職権または権利者からの要請に基づき、商標と著作権に係る知的財産侵害物品を差し止め、没収、処分することができる。

・タイデジタル経済社会省(Ministry of Digital Economy and Society:MDES)
 https://www.mdes.go.th/

 経済および社会に対するデジタル開発に関する国家戦略、計画、統計および法令を提案、監視、規制、評価することが主要な任務とされる。デジタル経済社会省の大臣は、コンピュータ犯罪法に基づき、知的財産法により刑事犯罪を構成するコンピュータ・データの拡散中止の要求、または、コンピュータ・システムからの削除の要求を裁判所に申請するための承諾を与える任務を担っている。デジタル経済社会省は、知的財産局と連携して、オンライン上で販売される知的財産権の侵害品を監視する。

(3) 司法機関
・タイ知的財産・国際取引中央裁判所(The Central Intellectual Property and International Trade Court)
 https://ipitc.coj.go.th/th/page/item/index/id/500

 知的財産専門の裁判所として設置された第一審裁判所であって、知的財産および国際取引に関する民事・刑事事件を担当する。知財保護と国際取引の公正を保つことを設立目的とし、発明創出や国際取引、技術導入の機能を果たしている。裁判は、2名の専門判事(Career Judge)と1名の賛助判事(Assist judge)によって行われ、賛助判事は、知的財産や国際取引のエキスパートであって、大学教授や医師、エンジニアなどの有識者が担う。

・タイ専門事案控訴裁判所(Court of Appeal for Specialized Cases:CASC)
 https://appealsc.coj.go.th/th/page/item/index/id/1

 2016年10月に設立された、タイ知的財産・国際取引中央裁判所(CIPITC)の控訴審を専門に取り扱うための裁判所であって、専門事案を判断可能な裁判官のみで構成されている。当裁判所が設置される以前は、CIPITCの判決に不服がある場合に最高裁判所へ控訴していたが、2016年10月より、当裁判所へ控訴することとなり、民事・刑事ともに3審制度を採用することとなった。

(4)その他知的財産関係機関
・国立知的財産権行使センター(National Intellectual Property Rights Centre of Enforcement:NICE)
 ウェブサイトなし

 全政府の省庁間において協力体制を図り、高度な協力を要する事件の取り扱いまたは重大な犯罪、組織犯罪の防止を強化することを目的として2014年5月に設立された。インターネット詐欺、模倣品のオンライン販売および直接販売など、最近多発している犯罪に注力している。

・著作権保護センター(New Copyright Protection Centre)
 ウェブサイトなし

 インターネット上の著作権侵害等オンラインによる知的財産権侵害行為への対応強化を目的として、タイ政府によって2018年12月に設立された。国家放送通信委員会に本部を設置し、国家警察庁との連携を通じて、オンラインによる著作権侵害等への迅速な対応を行う。同センターが、権利者より申立てを受けた場合には、警察当局の調査員と国家放送通信委員会が連携して申立ての妥当性を確認しあい、デジタル経済社会省による協力の下、違法サイトのブロック等の対抗措置を速やかに行う。

・IP IDE Center(IP Innovation Driven Enterprise Center)
 https://www.sciencepark.or.th/index.php/th/innovation-update/open-ip-ide-center-2017/

 タイ知的財産局によって開設された、オンサイトのアドバイザリーサービスセンターである。具体的には、情報サービスと技術動向の分析、ベンチャー企業を革新主導型企業に導くためのアドバイス、知的財産の管理に関するガイダンス、企業への国際的な知財産保護のための誘致サービスを提供しているほか、知的財産に関する学習ツールを提供している。そのほか、知的財産に関する取引を扱っているオンラインプラットフォーム「IP Mart」も提供している(https://ipmart.ipthailand.go.th/)。

・日本貿易振興機構(ジェトロ)バンコク事務所 知的財産部
 https://www.jetro.go.jp/world/asia/th/ip.html

 アセアン10か国、特にメコン地域(タイ、ベトナム、カンボジア、ラオスおよびミャンマー)を対象国として、日系企業等の知的財産に関する業務をサポートする業務を行っている。具体的な業務としては、アセアンにおける「知的財産制度・模倣品対策に関する情報の調査およびその広報」、「知的財産に関する法律的な助言」、「知的財産に関する研修・セミナー」、「東南アジア知財ネットワーク(SEAIPJ)の事務局」および「現地政府当局へのロビーイング活動」を行っている。

・タイ知的財産振興協会(Intellectual Property Promotion Association of Thailand:IPPAT)
 http://www.ippat.org/

 知的財産に関する代理人のサポート、知的財産権の保護や保護手段の研究、ならびに知的財産に関する知識の普及を目的として設立された団体である。会員は、主に弁護士で構成されており、タイの知的財産法を対象として活動し、また会員を対象として知的財産法および条約の改正や審査マニュアル等に関するセミナーを開催している。

韓国における包袋入手手順について

(1) 韓国特許庁の電子出願ポータルサイト「특허로(特許路)」(www.patent.go.kr)へアクセスする。

 トップページ(図1)の「증명서발급신청(証明書発給申請)」のアイコンをクリックする。

※1)共同認証書:インターネット上のあらゆる電子取引において個人を証明する電子証明書のことを意味する。身元の確認や電子文書の偽造・変造を防ぐことができる。2020年12月10日、電子署名法改正により既存の「公認認証書」が廃止され、民間認証書が導入されるに伴い、名称が「共同認証書」と変更された。認証書の発給は、韓国の金融機関および認証機関で申請できる。

図1 「특허로(特許路)」トップページ

(2) 「증명서발급신청(証明書発給申請)」の画面で、左から4番目のタブ「서류등・초본교부신청(서류사본)(書類謄・抄本交付申請(書類写本))」をクリックすると図2の画面が表示される。

図2 「서류등・초본교부신청(서류사본)(書類謄・抄本交付申請(書類写本))」をクリックした画面

서류등・초본교부신청(서류사본)(書類謄・抄本交付申請(書類写本))」のメニュー(図3)は、左から(i)거절서류철(拒絶書類)、(ii)등록서류철(登録書類)、(iii)심판서류철(審判書類)、(iv)PCT서류철(PCT書類)、(v)출원서류철(出願書類)、(vi)반도체서류철(半導体書類)となっており、それぞれ閲覧申請できる書類は以下の表の通りである。なお、図3にある赤色の(i)から(vi)の表示は、本稿作成者が説明の便宜上付したものである。また、画面の表示は変わる可能性があるが、サイト上で右クリックし、「日本語に翻訳」を選択することで内容が確認できる。

図3 「서류등・초본교부신청(서류사본)(書類謄・抄本交付申請(書類写本))」のメニュー((ⅰ)거절서류철(拒絶書類)が黒く表示(選択)されている)

(ⅰ)거절서류철
(拒絶書類)
出願書、優先審査決定書、意見提出通知書、意見書、書誌事項補正書、拒絶決定書等
(ⅱ)등록서류철
(登録書類)
出願書、優先権主張証明書類提出書、電子文書添付書類提出書、出願審査請求書、意見提出通知書、明細書等補正書、意見書、登録決定書等
(ⅲ)심판서류철
(審判書類)
拒絶決定不服審判請求書、審判番号及び審判官指定通知書、審査官意見要請書、審査官意見書、審理終結予定時期通知書、審判官変更通知書、審理終結通知書、審決謄本送達書、審決通知、拒絶決定不服に対する審決等
(ⅳ)PCT서류철
(PCT書類)
特許法第203条の規定による書面、登録決定書等
※オンラインの受領は不可
(ⅴ)출원서류철
(出願書類)
出願書、出願審査請求書、明細書等補正書、書誌事項補正書等
(ⅵ)반도체서류철복사신청
(半導体書類)
半導体集積回路配置設計に関する書類(ただし、半導体集積回路配置設計に関する書類の閲覧は手数料500ウォンを納付しなければならず、図面の閲覧はできるが、図面のコピー申請はできない。)

表1 「서류등・초본교부신청(서류사본)(書類謄・抄本交付申請(書類写本))」において閲覧できる書類

 上記6つのメニュー(i)~(vi)のいずれかをクリックすると、それぞれの申込方法、受領方法、サービス内容および手数料等の詳細情報がメニュー下に表示される。例えば、(i)「거절서류철(拒絶書類)」をクリックして表示される詳細情報を図4に示す。図5は表示された詳細情報の日本語翻訳である(詳細情報が日本語で表示されるわけではない)。

図4 「거절서류철(拒絶書類)」に関する詳細情報

図5 「거절서류철(拒絶書類)」に関する詳細情報の日本語翻訳

(3) 発給申請したい書類のメニューボタンをクリックし、右下の「발급신청(発給申請)」ボタン(例えば、「거절서류철(拒絶書類)」の「발급신청(発給申請)」ボタン)をクリックすると、下記のログイン画面(図6)が表示される。

ここでは、「共同認証書」でのログイン方法を紹介する。

(4) ログイン画面の一番左にある「공동인증서로 로그인(共同認証書でログイン)」ボタンをクリックする。

図6 「발급신청(発給申請)」のログインページ

(5) 共同認証書選択のポップアップ画面(図7)が表示されるので、①認証書パスワードの入力を行い、②「확인(確認)」ボタンをクリックする。

図7 認証書選択のポップアップ

(6) ログインすると「서류등초본교부신청(書類謄抄本交付申請)」のページ(図8)に移動するので、申請に必要な項目を入力する。

図8 「서류등초본교부신청(書類謄抄本交付申請)」ページ

 項目は、以下のとおりである。
(a) 대리인 번호(代理人番号)※2
(b) 성명(氏名)
(c) 전화번호(電話番号)
(d) 포괄의임등록번호(包括委任登録番号)
(e) 사건의종류(事件の種類)※3
(f) 출원번호(出願番号)
(g) 신청서류(申請書類)※4
(h) 신청부수(申請部数)
(i) 수취방법(受取方法)※5

このうち、(a)、(d)を除く項目が入力必須である。

なお、下向き角  が表示されている入力ボックスはプルダウンメニューから選択できる。

必要項目すべてを入力・選択し、画面右下の「신청(申請)」ボタンをクリックすると、申請完了となる。

オンライン受領を選択すれば、即時に書類が発行されるが、発行された書類を閲覧・印刷するためには、事前に通知書閲覧機プログラムをダウンロードしておく必要がある。

※2 代理人でない自然人の特許顧客番号でも可能である。

※3「사건의종류(事件の種類)」に関する検索の解説

(e)「사건의종류(事件の種類)」の入力ボックスは「출원번호(出願番号)」がデフォルトで選択されており、プルダウンメニュー(図9)で「PCT출원번호(PCT出願番号)」、「등록번호(登録番号)」、「심판(취소신청)번호(審判(取消申請)番号)」、「국제상표등록출원(国際商標登録出願)」、「국제상표출원(国際商標出願)」、「국제디자인등록출원(国際デザイン登録出願)」に変更することができる。

図9 (e)사건의종류(事件の種類)のプルダウンメニュー

※4「신청서류(申請書類)」に関する検索の解説
(f)出願番号等を入力した後に、(g)欄の右にある「찾아보기(索引)」もしくは「상세찾아보기(詳細参照)」をクリックする。そうすると、図10の画面のように、照会した案件の関連書類の項目リストが表示されるので、書類名の左側にあるチェックボックスに必要書類のチェックを入れ、「추가(追加)」ボタンをクリックすれば、(g)の欄に選択した書類が記載される(図11)。

図10 「찾아보기(索引)」(左)と「상세찾아보기(右)をクリックして表示される画面

図11 書類名が追加された(g)신청서류(申請書類)の画面

※5「수취방법(受取方法)」に関する検索の解説

(i)「수취방법(受取方法)」のプルダウンメニュー(図12)は、「온라인수령(オンライン受領)」、「우편수령(郵便受領)」、「방문수령(서울)(訪問受領(ソウル))」、「방문수령(대전)(訪問受領(大田))」から選ぶことができる。

図12 (i)수취방법(受取方法)のプルダウンメニュー

【留意事項】
 包袋情報を申請するためには事前に特許顧客番号を取得する必要があるが、外国人や外国法人については、韓国に住所(外国人登録番号)または事業所(法人登録番号や事業者登録番号)がない場合には、韓国の代理人に閲覧申請を依頼しなければならない。また、共同認証書の発給を受ける必要があるが、発給機関ごとに共同認証書発行可否の基準が若干異なる。
 通知書閲覧機プログラムのインストールや手続の煩雑さ等から、外国人・外国法人が包袋情報を入手する際は、現地代理人に依頼するのが一般的である。なお、韓国人であればログインの必要なしに閲覧人の個人情報(住民登録番号等)を提供することで包袋を入手することができる。

ベトナムにおける知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編

1.出願ルート
 ベトナムでは、発明特許権、実用新案特許権、意匠権、商標権を取得するために、以下のルートにより出願することができる。また、意匠を除いて国際出願(PCT、マドリッドプロトコル)ができる。

[ベトナムにおける出願ルート]

直接出願 国際出願 広域出願
特許 不可
実用新案 不可
意匠 不可 不可
商標 不可

<諸外国の制度概要>
 ・一覧表URL
(特許)https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/1tokkyo.pdf
(実用新案)https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/2jitsuyou.pdf
(意匠)https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/3isyou.pdf

(商標)https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/4syouhyou.pdf
 ・諸外国の法令・条約等URL https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html
  (国等のリンクをクリックすると各国等の制度概要や法令情報が日本語で表示される。)

2.法令・制度等

(1) 主な法律

法域 法律・規則(公用語)/(英語)
a: 法律・規則等の名称
b: 主な改正内容
URL:
改正年
(YYYY)
施行日
(DD/MM/YYYY)
知的財産法 (公用語)
a: Luật số 50/2005/QH11, LUẬT SỞ HỮU TRÍ TUỆ
(日本語)
a: 知的財産法第50/2005/QH11号b: 知的財産に関して規定する法律。2009年に一部の条文が改正された(改正法の施行は2010年)

https://ipvietnam.gov.vn/documents/20182/626826/5.1.+Luat+So+huu+tri+tue+2005.pdf/5a8cbdf8-c7c1-457e-b9db-b5a696a76ed7


2005

01/07/2006
(英語)
a: Law No. 50/2005/QH11 of November 29, 2005, on Intellectual Property

https://wipolex.wipo.int/en/text/274445

(公用語)
a: Luật số 36/2009/QH12, LUẬT SỬA ĐỔI, BỔ SUNG MỘT SỐ ĐIỀU CỦA LUẬT SỞ HỮU TRÍ TUỆ
(日本語)
a: 法律番号36/2009/QH12、知的財産法の一部の条項を修正および補足する法律
b:侵害行為に対する行政措置に関し、警告書の送付を要件としていた条文を削除し(211条)、従来は「消費者または社会に損害を与える侵害行為」と規定していた条文を「著作権者、権利者、消費者、または社会に損害を与える侵害行為」と改正し(211条)、製品に貼付する侵害商標ラベルを所持しているだけでも行政措置の対象とし(211条)、行政措置の罰金額の規定(改正前は損害額と同額もしくは最大損害額の5倍まで)を削除した(214条4項)。

http://ipvietnam.gov.vn/documents/20182/626826/5.2.+Luat+So+huu+tri+tue+sua+doi.pdf/a268a18f-eb19-4884-892e-eeae913d7d47


2009

01/01/2010
(英語)
a: Law No. 36/2009/QH12 of June 19, 2009, amending and supplementing a Number of Articles of the Law on Intellectual Property

https://wipolex.wipo.int/en/text/182541

(公用語)
a: Luật sửa đổi, bổ sung một số điều của Luật Kinh doanh bảo hiểm, Luật Sở hữu trí tuệ (Luật số: 42/2019/QH14)
(日本語)
a: 保険事業に関する法律および知的財産に関する法律の多数の条項を改正および補足する法律(法律番号:42/2019/QH14)

b: 電子出願が導入され、特許の新規性喪失の例外が拡充され、知的財産権のライセンス契約(ただし、商標ライセンス契約以外)は登録した場合にのみ第三者対抗要件を得ることが規定された。

https://www.ipvietnam.gov.vn/documents/20195/702193/Luat+42+sdbs+Luat+KDBH+Luat+SHTT.pdf/0a48805e-0b44-40d8-9ea7-7bcc3a5a5faa

2019

14/01/2019
(知財に関してのみ)
(公用語)
a: Luật sửa đổi, bổ sung một số điều của Luật Sở hữu trí tuệ(Luật số: 07/2022/QH15)
(日本語)
a: 知的財産法の多数の条項を改正および補足する法律(法律番号:07/2022/QH15)

b: 知的財産法の改正法。特許については、ベトナム国内発明の第一国出願義務の明確化、サポート要件や実施可能要件の明文化等が、意匠については、出願公開の繰延べ請求期間の設定等が、商標については、音商標の導入、拒絶理由の追加、周知商標の定義の明確化等が新たに規定された。

https://ipvietnam.gov.vn/documents/20195/1326404/Luat+sua+doi%2C+bo+sung+mot+so+dieu+cua+Luat+So+huu+tri+tue.pdf/e4fc7dc2-2e7b-4a6a-99d6-7a9ae7caf90f
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2022

01/01/2023
(日本語)
a: 知的財産法
b: 知的財産法第50/2005/QH11号(2006年7月1日施行)に法律第36/2009/QH12号(2010年1月1日施行)、法律第42/2019/QH14号(2019年11月1日施行)、法律第07/2022/QH15号(2023年1月1日施行)の改正を反映した内容である。

https://www.jica.go.jp/Resource/project/vietnam/059/materials/lqgpft0000005lvu-att/intellectual_property_law_2022.pdf

関連記事:「ベトナムにおける政府による知的財産に関する各種優遇・支援制度」(2019.8.15)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/17629/

関連記事:「ベトナムにおける特許・実用新案出願制度概要」(2019.6.27)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17469/

関連記事:「ベトナムにおける意匠出願制度概要」(2019.6.27)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17471/

関連記事:「ベトナムにおける商標出願制度概要」(2018.10.26)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17473/

関連記事:「ベトナムにおける医薬用途発明の保護制度」(2018.8.16)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15660/

産業財産に関する政令 (公用語)
a: Nghị định số 103/2006/NĐ-CP ngày 22 tháng 09 năm 2006 của Chính phủ quy định chi tiết và hướng dẫn thi hành một số điều của Luật Sở hữu trí tuệ về sở hữu công nghiệp

b: 工業所有権に関する細則を定めるとともに、知的財産法の一部条項の施行細則を規定する政令

http://ipvietnam.gov.vn/documents/20182/627934/6.1.+Ngh%E1%BB%8B+%C4%91%E1%BB%8Bnh+s%E1%BB%91+103.2006.ND.CP.doc/3b6d0268-9aea-4a4e-b1cc-16d79e0d2a55
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2006

21/10/2006
(英語)
a: Decree No. 103/2006/ND-CP of September 22, 2006, detailing and guiding the Implementation of a Number of Articles of the Law on Intellectual Property regarding Industrial Property

https://wipolex.wipo.int/en/text/131859

(日本語)
a: 産業財産に関する知的財産法の細則及び施行ガイドラインの政令103号(2006年10月21日施行)

http://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/1022116/www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/s_sonota/fips/mokuji.htm

(公用語)
a: Nghị định số 122/2010/NĐ-CP ngày 31 tháng 12 năm 2010 của Chính phủ sửa đổi, bổ sung một số điều của Nghị định số 103/2006/NĐ-CP quy định chi tiết và hướng dẫn thi hành một số điều của Luật Sở hữu trí tuệ về sở hữu công nghiệp.
(日本語)
a: 政府決議122/2010/ NĐ-CP(2010年12月31日公布)
b. 政府決議103/2006/NĐ-CPの一部改正。秘密特許制度、特許の第一国出願義務に関する規定が追加された。

http://ipvietnam.gov.vn/documents/20182/627934/6.2.+Ngh%E1%BB%8B+%C4%91%E1%BB%8Bnh+s%E1%BB%91+122.2010.ND.CP.doc/4b906bbd-c78c-46b6-836f-c95660573bf3
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2010

20/2/2011
(英語)
a: Decree No. 122/2010/ND-CP of December 31, 2010, amending and supplementing a Number of Articles of the Decree No. 103/2006/ND-CP of September 22, 2006, detailing and guiding a Number of Articles of the Law on Intellectual Property regarding Industrial Property

https://wipolex.wipo.int/en/text/330661

(公用語)
a: Nghị định số 65/2023/NĐ-CP ngày 23/8/2023 của Chính phủ quy định chi tiết một số điều và biện pháp thi hành Luật Sở hữu trí tuệ về sở hữu công nghiệp, bảo vệ quyền sở hữu công nghiệp, quyền đối với giống cây trồng và quản lý nhà nước về sở hữu trí tuệ.

(日本語)
a:政府決議65/2023/NĐ-CP(2023年8月23日施行)

b: 産業財産権、産業財産権の保護、植物品種の権利、知的財産の国家管理に関する知的財産法を実施するための条項と措置を詳述している。

https://thuvienphapluat.vn/van-ban/So-huu-tri-tue/Nghi-dinh-65-2023-ND-CP-huong-dan-Luat-So-huu-tri-tue-so-huu-cong-nghiep-576846.aspx

https://ipvietnam.gov.vn/documents/20195/1560614/65_2023_ND-CP_23082023-signed.pdf/2f15e2bf-068d-4cc7-abe7-c1007b270693
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2023

23/8/2023
(英語)
a: Decree No. 65/2023/ND-CP of August 23, 2023, details a number of articles and measures to implement the Law on Intellectual Property on industrial property, protection of industrial property rights, rights to plant varieties and state management of intellectual property

https://thuvienphapluat.vn/van-ban/So-huu-tri-tue/Nghi-dinh-65-2023-ND-CP-huong-dan-Luat-So-huu-tri-tue-so-huu-cong-nghiep-576846.aspx


関連記事:「ベトナムにおける知的財産権侵害事案の刑罰制度およびその運用」(2018.2.1)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/14459/

関連記事:「ベトナムの模倣被害に対する措置および対策」(2017.11.16)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/14253/

関連記事:「ベトナムにおける営業秘密ならびに職務発明、職務著作および職務意匠の保護」(2017.3.14)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/13240/

産業財産に関する省令 (公用語)
a: No.01/2007/TT-BKHCN, Thông tư Hướng dẫn thi hành Nghị định số 103/2006/NĐ-CP ngày 22 tháng 9 năm 2006 của Chính phủ quy định chi tiết và hướng dẫn thi hành một số điều luật của Luật Sở hữu trí tuệ về sở hữu công nghiệp

b. 政府決議103/2006/NĐ-CPの詳細規定を定める科学技術省令

https://www.most.gov.vn/Images/Attachments/03169353e61e41efaa0bac4ce58fc659-01.2007.TT.BKHCN%20ve%20Luat%20SHTT.doc
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2007

01/03/2007
(英語)
a: Circular No. 01/2007/TT-BKHCN of February 14, 2007, guiding the Implementation of the Government’s Decree No. 103/2006/ND-CP of September 22, 2006, detailing and guiding the Implementation of a Number of Articles of the Law on Intellectual Property regarding Industrial Property

https://wipolex.wipo.int/en/text/131995

(日本語)
a: 産業財産権に関する知的財産法の一部条項を詳細に規定し、その施行ガイドラインを提供する政府の2006年9月22日付政令第103/2006/ND-CP号の施行ガイドラインを提供する省令第01/2007/TT-BKHCN号

https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/vietnam-sangyou_syourei.pdf

(公用語)
a: Thông tư 13/2010/TT-BKHCN sửa đổi quy định của Thông tư 17/2009/TT-BKHCN và 01/2007/TT-BKHCN do Bộ Khoa học và Công nghệ ban hành

b. 政府決議103/2006/NĐ-CPの詳細規定を定める科学技術省令01/2007/TT-BKHCNを改正する省令

http://congbao.chinhphu.vn/noi-dung-van-ban-so-13-2010-tt-bkhcn-725


2010

13/09/2010
(公用語)
a: Thông tư số 18/2011/TT-BKHCN ngày 22 năm 7 năm 2011 của Bộ Khoa học và Công nghệ sửa đổi, bổ sung một số quy định của Thông tư số 01/2007/TT-BKHCN ngày 14/02/2007, được sửa đổi, bổ sung theo Thông tư số 13/2010/TT-BKHCN ngày 31/7/2010 và Thông tư số 01/2008/TT-BKHCN ngày 25/02/2008, được sửa đổi, bổ sung theo Thông tư số 04/2009/TT-BKHCN ngày 27/3/2009

b. 政府決議103/2006/NĐ-CPの詳細規定を定める科学技術省令01/2007/TT-BKHCNを改正する省令

http://congbao.chinhphu.vn/noi-dung-van-ban-so-18-2011-tt-bkhcn-2435

2011

05/09/2011
(英語)
a: Circular No. 18/2011/TT-BKHCN of July 22, 2011, amending and supplementing some provisions of Circular No. 01/2007/TTBKHCN of February 14, 2007, as amended and supplemented by Circular No. 13/2010/TTBKHCN of July 31, 2010, and Circular No. 01/2008/TT-BKHCN of February 25, 2008, as amended and supplemented by Circular No. 04/2009/TT-BKHCN of March 27, 2009

https://wipolex.wipo.int/en/text/330755

(公用語)
a: Thông tư số 05/2013/TT-BKHCN sửa đổi, bổ sung một số điều của Thông tư số 01/2007/TT-BKHCN ngày 14/02/2007 hướng dẫn thi hành Nghị định số 103/2006/NĐ-CP quy định chi tiết một số điều của Luật sở hữu trí tuệ về sở hữu công nghiệp, được sửa đổi, bổ sung theo Thông tư số 13/2010/TT-BKHCN ngày 30//7/2010 và Thông tư số 18/2011/TT-BKHCN ngày 22/7/2011.

b. 政府決議103/2006/NĐ-CPの詳細規定を定める科学技術省令01/2007/TT-BKHCNを改正する省令

http://congbao.chinhphu.vn/noi-dung-van-ban-so-05-2013-tt-bkhcn-3311


2013

06/04/2013
(公用語)
a: Thông tư số 05/2013/TT-BKHCN ngày 20/02/2013 sửa đổi, bổ sung một số điều của Thông tư số 01/2007/TT-BKHCN ngày 14/02/2007 hướng dẫn thi hành nghị định số 103/2006/NĐ-CP quy định chi tiết một số điều của luật sở hữu trí tuệ về sở hữu công nghiệp, được sửa đổi, bổ sung theo thông tư số 13/2010/TT-BKHCN ngày 30/7/2010 và Thông tư số 18/2011/TT-BKHCN ngày 22/7/2011

b. Circular No.05/2013/TT-BKHCN 2013年2月20日、政府決議103/2006/NĐ-CPの詳細規定を定める科学技術省令01/2007/TT-BKHCNを一部改正する省令

https://wipolex.wipo.int/en/text/446618


2013

20/02/2013
(公用語)
a: Thông tư số 16/2016/TT-BKHCN ngày 30 năm 06 năm 2016 của Bộ Khoa học và Công nghệ sửa đổi, bổ sung một số điều của Thông tư số 01/2007/TT-BKHCN ngày 14 tháng 02 năm 2007 hướng dẫn thi hành Nghị định số 103/2006/NĐ-CP ngày 22 tháng 9 năm 2006 của Chính phủ quy định chi tiết và hướng dẫn thi hành một số điều của Luật Sở hữu trí tuệ về sở hữu công nghiệp, được sửa đổi, bổ sung theo Thông tư số 13/2010/TT-BKHCN ngày 30 tháng 7 năm 2010, Thông tư số 18/2011/TT-BKHCN ngày 22 tháng 7 năm 2011 và Thông tư số 05/2013/TT-BKHCN ngày 20 tháng 02 năm 2013

b. 政府決議103/2006/NĐ-CPの詳細規定を定める科学技術省令01/2007/TT-BKHCNを改正する省令

http://congbao.chinhphu.vn/noi-dung-van-ban-so-16-2016-tt-bkhcn-25022?cbid=19735


2016

15/01/2018
(英語)
a: Circular No. 16/2016/TT-BKHCN of June 30, 2016, amending and supplementing a number of Articles of Circular No. 01/2007/TT-BKHCN of February 14, 2007

https://wipolex.wipo.int/en/text/466093

a: Số: 07/VBHN-BKHCN
THÔNG TƯ HƯỚNG DẪN THI HÀNH NGHỊ ĐỊNH SỐ 103/2006/NĐ-CP NGÀY 22 THÁNG 9 NĂM 2006 CỦA CHÍNH PHỦ QUY ĐỊNH CHI TIẾT VÀ HƯỚNG DẪN THI HÀNH MỘT SỐ ĐIỀU CỦA LUẬT SỞ HỮU TRÍ TUỆ VỀ SỞ HỮU CÔNG NGHIỆP

b. 政府決議103/2006/NĐ-CPの詳細規定を定める科学技術省令01/2007/TT-BKHCN(2010, 2011, 2013, 2016の改正省令を反映した合冊版)

https://thuvienphapluat.vn/van-ban/So-huu-tri-tue/Van-ban-hop-nhat-07-VBHN-BKHCN-2017-huong-dan-Nghi-dinh-103-2006-ND-CP-So-huu-tri-tue-385941.aspx


2010
2011
2013
2016

15/01/2018
(2016年改正の施行日)
関連記事:「ベトナムにおける第一国出願制度」(2019.8.15)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17627/

関連記事:「ベトナムの特許・実用新案関連の法律、規則、審査基準等」(2021.5.11)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19844/

関連記事:「ベトナムの意匠関連の法律、規則、審査基準等」(2019.2.21)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16559/

関連記事:「ベトナムにおける特許年金制度の概要」(2018.10.11)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15961/

関連記事:「ベトナムにおける寄託微生物関連発明に関する実務」(2018.8.16)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15662/

関連記事:「ベトナムにおける特許権の共有と共同出願」(2018.3.27)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/14742/

関連記事:「ベトナムにおけるマドリッド協定議定書の基礎商標の同一性の認証」(2017.6.1)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/13766/

関連記事:「ベトナムにおける共同開発契約」(2017.3.9)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13234/

関連記事:「ベトナムにおける技術ライセンス契約」(2017.3.6)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13228/

関連記事:「ベトナムにおいて技術検証(PoC)契約書モデルを使用する際の注意事項」(2023.5.30)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/34527/

関連記事:「ベトナムにおける特許ライセンス契約の基礎および留意事項」(2016.6.30)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/12211/

関連記事:「ベトナムにおける商標ライセンス契約の留意点」(2016.6.22)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/11810/

関連記事:「ベトナムにおける遺伝資源の利用と特許制度」(2016.4.27)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/11881/

著作権 (公用語)
a: Nghị định số 22/2018/NĐ-CP ngày 23 tháng 02 năm 2018 của Chính phủ quy định chi tiết một số điều và biện pháp thi hành Luật sở hữu trí tuệ năm 2005 và Luật sửa đổi, bổ sung một số điều của Luật sở hữu trí tuệ năm 2009 về quyền tác giả, quyền liên quan

http://ipvietnam.gov.vn/documents/20182/627934/6.5.+Ngh%E1%BB%8B+%C4%91%E1%BB%8Bn+s%E1%BB%91+22_2018_ND-CP.doc/c2d4e695-6e87-4e80-9f3f-12d234882a09
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2018

10/04/2018
(英語)
a: Decree No. 22/2018/ND-CP of February 23, 2013, on Guidelines for Certain Number of Articles of the Intellectual Property Law and Law on Amendments to the Intellectual Property Law 2009 in Terms of Copyright and Related Rights

https://wipolex.wipo.int/en/text/472667

(公用語)
a: Nghị định số 17/2023/NĐ-CP của Chính phủ: Quy định chi tiết một số điều và biện pháp thi hành Luật Sở hữu trí tuệ về quyền tác giả, quyền liên quan

b: 著作権および著作隣接権によって保護される作品の種類、侵害とみなされない作品利用の例外、保護登録の指示、集団代表組織、コンサルティングおよびサービス組織の活動、侵害の検査および処理、輸出入商品の管理、仲介サービス提供者の責任について規定している

https://thuvienphapluat.vn/van-ban/So-huu-tri-tue/Nghi-dinh-17-2023-ND-CP-huong-dan-Luat-So-huu-tri-tue-ve-quyen-tac-gia-quyen-lien-quan-565147.aspx

https://datafiles.chinhphu.vn/cpp/files/vbpq/2023/5/17-cp.signed.pdf
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2023

26/4/2023
関連記事:「ベトナムにおいて商標権・意匠権侵害を主張された場合の対抗措置」(2015.5.22)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/8622/

不正競争 (公用語)
a: Luật 23/2018/QH14, Luật Cạnh tranh

b: 旧競争法27/2004/QH11は新法となるLuật 23/2018/QH14の施行日に失効した。

http://congbao.chinhphu.vn/noi-dung-van-ban-so-23-2018-qh14-26888


2018

01/07/2019
関連記事:「ベトナムにおける物品デザインの商標的保護」(2018.9.20)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15847/

関連記事:「ベトナムにおける「.vn」ドメイン名紛争の解決」(2015.3.31)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/8508/

(2) 審査基準等

法域 法律・規則(公用語)/(英語)
a: 法律・規則等の名称
b: 主な改正内容
URL:
改正年
(YYYY)
施行日
(DD/MM/YYYY)
特許 (公用語)
a: QUY CHẾ THẨM ĐỊNH ĐƠN ĐĂNG KÝ SÁNG CHẾ

b:特許に関する審査基準
https://www.ipvietnam.gov.vn/documents/20182/856300/QUY+CHE+SANG+CHE.pdf/c459ef94-79f2-4057-be88-0b2ebebd1400


2010

31/03/2010
(日本語)
a: ベトナム特許出願審査基準
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/vietnam-tokkyo-shinsa-kijun.pdf

(公用語)
a: QUYẾT ĐINH Ban hành Phụ Lục I bổ sung vậo Quy chệ thâm định đon đãng ký sáng chệ được ban hành kém theo Quyết số 487/QĐ-SHTT ngày 31/3/2010 của Cục trưởng Cục Sở hữu trí tuệ, được sửa đổi, bổ sung theo Quyết định số 5196/QĐ-SHTT ngày 31/12/2020

b: 2010年3月31日発行の特許に関する審査基準を補足(付属書I) コンピュータプログラムに関連する特許としてクレームされた主題を認定するためのガイドライン

https://ipvietnam.gov.vn/documents/20182/856300/PHU+LUC+I+QUY+CHE.pdf/63955d4e-f820-46c9-891a-f2476b72ac5b
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2021

31/12/2021
(英語)
a: Annex I
GUIDELINES FOR DETERMINING THE ELIGIBILITY FOR PATENTPROTECTION OF CLAIMED SUBJECT MATTER OF COMPUTERPROGRAM RELATED INVENTIONS

https://www.jica.go.jp/Resource/project/english/vietnam/059/materials/fp4rrb000000t60p-att/materials_03_01.pdf

(公用語)
a: QUYẾT ĐINH Ban hành Phụ Lục I bổ sung vậo Quy chệ thâm định đon đãng ký sáng chệ được ban hành kém theo Quyết số 487/QĐ-SHTT ngày 31/3/2010 của Cục trưởng Cục Sở hữu trí tuệ, được sửa đổi, bổ sung theo Quyết định số 5196/QĐ-SHTT ngày 31/12/2020 và Quyết định số 6193/QĐ-SHTT ngày 31/12/2021

b: 2010年3月31日発行の特許に関する審査基準を修正または補足(付属書II)

https://www.ipvietnam.gov.vn/documents/20195/1473438/20230405112446119.pdf/70d00c6f-8078-4f56-9825-07ed4a827691


2021

03/04/2023
意匠 (公用語)
a: QUYẾT ĐINH Vế việc ban hành Quy chế thẩm định đơn đăng ký kiểu dáng công nghiệp

b: 意匠に関する審査基準

https://www.ipvietnam.gov.vn/documents/20182/856300/Quy+ch%E1%BA%BF+KDCN+2022+-+b%E1%BA%A3n+nh%E1%BA%B9.pdf/72dadac7-dc16-422a-bde0-a50578b65b80

2022

12/5/2022
地理的表示 (公用語)
a: QUYẾT ĐINH Ban hành Quy chế Thẩm định đơn đăng ký chỉ dẫn địa lý

b: 地理的表示に関する審査基準

https://www.ipvietnam.gov.vn/documents/20195/1413131/Quy+ch%E1%BA%BF+CD%C4%90L+%28ban+h%C3%A0nh+theo+QDD_Q%C4%90-SHTT+ng%C3%A0y+31-12-2021%29.pdf/5181b9df-83ee-4947-97d7-38e2496504c4


2021

31/12/2021
関連記事:「ベトナムにおける商標審査基準関連資料」(2016.3.1)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10292/

関連記事:「ベトナムにおける特許審査基準関連資料」(2016.1.29)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10250/

(3) 主な条約・協定(加盟状況)

条約名 加盟 加盟予定
(YYYY)
未加盟
(1) パリ条約
   (工業所有権の保護に関するパリ条約)

(    )
(2) PCT
   (特許協力条約)

(    )
(3) TRIPs
   (知的所有権の貿易関連の側面に関する協定)

(    )
(4) PLT
   (特許法条約)

(    )
(5) IPC
   (国際特許分類に関するストラスブール協定)

(    )
(6) ハーグ協定
   (意匠の国際登録に関するハーグ協定)
(7) ロカルノ協定
   (意匠の国際分類を定めるロカルノ協定)

(    )
(8) マドリッド協定
   (標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書)

(    )
(9) TLT
   (商標法条約)

(    )
(10) STLT
   (商標法に関するシンガポール条約)

(    )
(11) ニース協定
   (標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定)

(    )
(12) ベルヌ条約
   (文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約)

(    )
(13) WCT
   (著作権に関する世界知的所有権機関条約)

(    )
(14) WPPT
   (実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約)

(    )

関連記事:「ベトナムにおけるパリ条約ルートおよびPCTルートの特許出願の差異」(2015.3.31)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8518/

3. 料金表

[情報1]
(公用語)
Title: THỦ TỤC ĐĂNG KÝ SC/GPHI (4. Phí, lệ phí đăng ký sáng chế/giải pháp hữu ích)
https://www.ipvietnam.gov.vn/vi_VN/web/guest/sang-che-gphi

(英語)
Title: REGISTRATION PROCEDURE FOR PATENTS (4. Fees and charges for invention or utility solution registration)
https://www.ipvietnam.gov.vn/en_US/web/english/patents


[情報2]
(公用語)
Title: THỦ TỤC ĐĂNG KÝ KIỂU DÁNG CÔNG NGHIỆP (4. Phí, lệ phí đăng ký kiểu dáng công nghiệp)
https://www.ipvietnam.gov.vn/vi_VN/web/guest/kieu-dang-cong-nghiep

(英語)
Title: REGISTRATION PROCEDURE FOR INDUSTRIAL DESIGNS (4. Fees and charges for industrial design registration)
https://www.ipvietnam.gov.vn/en_US/web/english/industrial-designs


[情報3]
(公用語)
Title: THỦ TỤC ĐĂNG KÝ NHÃN HIỆU (4. Phí, lệ phí đăng ký nhãn hiệu)
https://www.ipvietnam.gov.vn/nhan-hieu

(英語)
Title: REGISTRATION PROCEDURE FOR TRADEMARKS (4. Fees and charges for trademark registration)
https://www.ipvietnam.gov.vn/en_US/web/english/trademarks