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インドにおける知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編

1. 出願ルート
 インドでは、特許権、意匠権、商標権を取得するために、以下のルートにより出願することができる。また、特許権および商標権については、国際出願(PCT、マドリッドプロトコル)が可能である。インドには無審査で登録可能な権利、例えば、実用新案権はない。

[インドにおける出願ルート]

直接出願国際出願広域出願
特許不可
実用新案
意匠不可不可
商標不可

<諸外国・地域・機関の制度概要および法令条約等>
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html

2. 法令・制度等
(1) 主な法律

法域法律・規則(公用語)/(英語)
a: 法律・規則等の名称
b: 主な改正内容
URL:
改正年
(YYYY)
施行日
(DD/MM/
YYYY)
特許
(公用語・英語)
a: The Patents Act,1970(incorporating all amendments till 23-06-2017)
b: 各地の高等裁判所に関する記載が削除された(第2条(1)(i))。特許出願日が明確にされた(第45条)。特許登録簿への記載事項が明確にされた(第67条)。特許代理人について明確にされた(第128条)。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_113_1_The_Patents_Act_1970_-_Updated_till_23_June_2017.pdf
201723/06/2017
(日本語)
a: インド1970年特許法、2017年6月23日公布
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-tokkyo.pdf
(公用語・英語)
a: Indian Patent Act 1970, The Patents (Amendment) Act 2005
b: 拒絶理由解消期間の設定。審査請求制度の導入、既存の物質の新規な使用を不特許事由から除外。食品・薬品、医薬品分野における物質も特許の対象に。付与前および付与後異議申立制度の導入。管理官の指示や指令に対する知的財産審判委員会へ不服申立制度の導入。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_69_1_patent_2005.pdf
200504/04/2005
(日本語)
a: インド1970年特許法、インド2005年(改正)特許法
https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/6086233/www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/s_sonota/fips/mokuji.htm
(公用語・英語)
a: Patents (Amendment) Rules, 2021
b:「教育機関」が定義された(規則2)。手数料に教育機関に関する事項が追加された(規則7)。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/Patents__Amendment__Rules__2021.pdf
202121/09/2021
(日本語)
a: 改正特許規則(2021)
(なし)
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2021/in/20210930.pdf
(公用語・英語)
a: Patents (Amendment) Rules, 2020
b: 優先権書類の提出要件が改正された(規則21)。実施報告書の提出方法が改正された(規則131,Form27)
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/patents_amendment_rules_2020.pdf
202019/10/2020
(日本語)
a: 改正特許規則(2020)
(なし)
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2020/in/news_20201021.pdf
(公用語・英語)
a: Patents Amendment Rules, 2019
b: 早期審査の要件が改正された(規則24C)。書類の配達および送達方法が改正された(規則6)。スタートアップに関する手数料の手続きが変更された(規則7)。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/patents_amendment_rules_2019.pdf
201917/09/2019
(日本語)
a: 改正特許規則(2019)
(なし)
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2019/in/news_20190920.pdf
(公用語・英語)
a: Indian Patent Rules 2003, The Patents (Amendment) Rules 2017
b:「スタートアップ」が定義された。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_76_1_1_76_1_2018-01-02__2_.pdf
201701/12/2017
(日本語)
a: インド2003年特許規則、インド2017年(改正)特許規則
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-tokkyo_kisoku.pdf
(公用語・英語)
a: Indian Patent Rules 2003, The Patents (Amendment) Rules 2016
b: 拒絶理由解消期間が6か月に短縮され、最大で3か月延長できるようになった。スタートアップという出願人の区分が追加された。出願の取下げが無料となった。審査報告書が発送されていない出願を取り下げた場合に一部の審査請求料金が払い戻しされる制度が設けられた。請求項や要約書に参照番号を挿入することが必須になった。ビデオ会議で聴聞を受けることが可能になった。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_14_1_patent-rules-2006.pdf
201616/05/2016
(日本語)
a: インド特許規則2003年、インド特許規則2006年改正
https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/998256/www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/s_sonota/fips/mokuji.htm
関連記事:「インドにおける特許出願の補正の制限」(2023.01.26)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27695/

関連記事:「インドにおける特許異議申立制度-付与前異議申立と付与後異議申立」(2023.02.14)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/33767/

関連記事:「インドにおける特許の実施報告制度(2020年特許規則改正)」(2022.07.12)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/24051/

関連記事:「インド特許出願における優先権主張の手続(2020年特許規則改正)」(2022.02.17)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/22598/

関連記事:「インドにおける特許出願制度概要」(2019.06.13)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17416/

関連記事:「インドの特許関連の法律、規則、審査マニュアル」(2019/02/14)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16518/

関連記事:「インドにおける特許年金制度の概要」(2018.05.15)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15053/


意匠(公用語・英語)
a: Indian Design Act 2000
b: 意匠法1911年はインド意匠法2000年により置き換えられた。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_58_1_design_act_1_.PDF
200025/05/2000
(日本語)
a: インド意匠法2000年
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-ishou.pdf
(公用語・英語)
a: Design (Amendment) Rule 2021
b: 「スタートアップ」のカテゴリーを定義した(規則2)。諸手続き費用を改正した(規則5)。ロカルノ分類の採用を規定した(規則10)。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/The_Designs__amendment___Rules__2021.pdf
202125/01/2021
(日本語)
a: 改正意匠規則(2021)
(なし)
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2021/in/20210201.pdf
(公用語・英語)
a: Indian Design Rule 2001, The Design (Amendment) Rule 2014
b: 出願人の区分として小規模事業体が追加された。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/1_23_1_design-amendment-rules-2014.pdf
201430/12/2014
(日本語)
a: インド2001年意匠規則、インド2014年(改正)意匠規則
(なし)
(公用語・英語)
a: Indian Design Rule 2001, The Design (Amendment) Rule 2008
b: 書類を電子的に提出が可能になった。書類や図面の書式が定義された。拒絶理由解消期間の延長の規定が設けられた。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/1_26_1_design-rules-2008.pdf
200817/06/2008
(日本語)
a: インド2001年意匠規則、インド2008年(改正)意匠規則2008年改正
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-ishou_kisoku.pdf
関連記事:「日本とインドにおける意匠権の権利期間および維持に関する比較」(2023.11.14)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37673/

関連記事:「インド法における意匠保護に関する機能性と可視性の概念」(2020.10.22))
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19532/

関連記事:「インドにおける画像意匠の保護制度」(2020.10.13)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19502/

関連記事:「日本とインドにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較」(2019.10.01)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17762/

関連記事:「インドの意匠関連の法律、規則、審査マニュアル」(2019.03.21)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16711/

関連記事:「インドにおける意匠出願制度概要」(2019.06.13)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17418/

関連記事:「日本とインドの意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較」(2015.07.17)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/9269/

関連記事:「インドにおける意匠出願の補正」(2015.03.31)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8156/


商標(公用語・英語)
a: Indian Trademarks Act 1999, The Trademarks (Amendment) Act 2010
b: 商標は出願日から18か月以内に登録されなければならないこととなった。商標の公告から4か月以内に異議申立が可能となった。テキスタイル商品およびテキスタイル商標の概念が削除された。マドプロ出願が導入された。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_46_1_tmr-amendment-act-2010.pdf
201021/09/2010
(日本語)
a: インド1999年商標法、インド2010年(改正)商標法
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-shouhyou.pdf
(公用語・英語)
a: Indian Trademarks Rules 2002, The Trademarks (Amendment) Rules 2017
b: 庁費用が上がった。出願人の区分にスタートアップが追加された。電子出願が促進された。周知商標の認定手続きが導入された。早期審査請求が可能になった。音商標の登録が可能になった。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_69_1_Trade_Marks_Rules_2017.pdf
201703/06/2017
(日本語) a: インド2002年商標規則、インド2017年(改正)商標規則
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-shouhyou_kisoku.pdf
(公用語・ヒンズー語/英語)
a: Indian Trademarks Rules 2002, The Trademarks (Amendment) Rules 2013
b: 庁費用が上がった。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_58_1_tmr-amendment-rules-13september2013.pdf
201301/08/2013
(日本語)
a: インド2002年商標規則、インド2013年改正商標規則
(なし)
関連記事:「インドにおける商標異議申立制度」(2023.03.23)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/34075/

関連記事:「インドにおける商標のコンセント制度について」(2023.01.31)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27693/

関連記事:「インドにおけるブランド保護」(2021.06.22)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/20269/

関連記事:「インド商標法に基づく拒絶理由に関する調査報告書」(2021.08.24)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20765/

関連記事:「インドにおける商標制度のまとめ-実体編」(2020.06.11)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18629/

関連記事:「インドにおける商標制度のまとめ-手続編」(2020.10.08)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19497/

関連記事:「インドの商標関連の法律、規則、審査マニュアル」(2019.03.26)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16714/

関連記事:「インドにおける商標出願制度概要」(2019.07.09)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17532/

関連記事:「インドにおける悪意(Bad-faith)の商標出願に関する法制度および運用」(2019.2.7)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16493/

関連記事:「インドにおける連続(シリーズ)商標制度」(2018.09.18)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/15836/

関連記事:「インドにおける証明商標制度」(2015.11.10)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8548/


著作権法(公用語・英語)
a: Indian Copyright Act 1957, The Indian Copyright (Amendment) Act 2012
b: 「商業的貸与」が定義された。実演家の排他的権利が再定義された。録画物が定義された。著作権委員会の構成などが定義された。強制利用許諾が設定された。WCTおよびWPPTの規定に準拠した。
https://copyright.gov.in/Documents/CRACT_AMNDMNT_2012.pdf
201207/06/2012
(日本語)
a. インド1957年著作権法、インド2012年(改正)著作権法
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/copyright_201809.pdf
不正競争インドにはこの法律に相当する法律はない。

(2) 審査基準等

審査基準、ガイドライン、マニュアル等
a:審査基準等の名称
URL:
最終更新
b:(DD/MM/YYYY)
特許(公用語・英語)
a: Manual of Patent Office Practice and Procedure
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/Manual_for_Patent_Office_Practice_and_Procedure_.pdf
26/11/2019
(日本語)
a: 特許庁の特許実務及び手続の手引(インド)
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/201103_tokkyo_01.pdf(2011年修正)
https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2019/in/news_20191209.pdf(2019年改正概要)
意匠(公用語・英語)
a: Manual of Design Office Practice and Procedure
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOGuidelinesManuals/1_30_1_manual-designs-practice-and-procedure.pdf
(日本語)
a: 意匠審査の実務及び手続の手引
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/2011_ishou_01.pdf
商標(公用語・英語)
a: Manual of Trademarks Practice and Procedure (draft)
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOGuidelinesManuals/1_33_1_public-notice-11march2015.pdf
10/03/2015
(日本語)
a: 商標マニュアル(案)実務と手引き
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/manual_of_trade_marks_201503_jp.pdf

(3) 主な条約・協定(加盟状況)

条約名加盟加盟予定
(YYYY)
未加盟
(1) パリ条約
 (工業所有権の保護に関するパリ条約)

1998

(     )
(2) PCT
 (特許協力条約)

1998

(     )
(3) TRIPs
 (知的所有権の貿易関連の側面に関する協定)

1995

(     )
(4) PLT
 (特許法条約)

(     )

未加盟
(5) IPC
 (国際特許分類に関するストラスブール協定)

(     )

未加盟
(6) ハーグ協定
 (意匠の国際登録に関するハーグ協定)

(     )

未加盟
(7) ロカルノ協定
 (意匠の国際分類を定めるロカルノ協定)

2019

(     )
(8) マドリッド協定
 (標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書)

2013

(     )
(9) TLT
 (商標法条約)

(     )

未加盟
(10) STLT
 (商標法に関するシンガポール条約)

(     )

未加盟
(11) ニース協定
 (標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定)

2019

(     )
(12) ベルヌ条約
 (文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約)

1928

(     )
(13) WCT
 (著作権に関する世界知的所有権機関条約)

2018

(     )
(14) WPPT
 (実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約)

2018

(     )

3. 料金表

[特許](公用語・英語)
Title: The First Schedule Fees
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/ev/schedules/Schedule_1.pdf
[意匠] (公用語・英語)
Title: The Designs(amendment), Rules, 2021 
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/The_Designs__amendment___Rules__2021.pdf
[商標] (公用語・英語)
Title: Forms and Fees
https://ipindia.gov.in/form-and-fees-tm.htm 
関連記事:「インドにおける産業財産権権利化費用」(2019.8.8)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17617/ 

関連記事:「インドにおける特許年金制度の概要」(2018.5.15)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15053/

ブラジルにおいてOIモデル契約書ver2.0秘密保持契約書(新素材編、AI編)を活用するに際しての留意点

記事本文はこちらをご覧ください。

ベトナムにおいてOIモデル契約書ver2.0ライセンス契約書(新素材編)、利用契約書(AI編)を活用するに際しての留意点

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マレーシアにおいてOIモデル契約書ver2.0共同研究開発契約書(新素材編、AI編)を活用するに際しての留意点

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マレーシアにおいてOIモデル契約書ver2.0ライセンス契約書(新素材編)、利用契約書(AI編)を活用するに際しての留意点

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韓国におけるロイヤルティ送金に関する法制度と実務運用の概要

1. ロイヤルティ送金に関する法制度
(1) ロイヤルティ送金に関する法規定は、外国為替取引法と外国為替取引規程等の適用を受ける。

(2) ロイヤルティに関する課税は、法人税法、所得税法、地方税法、および付加価値税法等で定めている。

(3) 日本と韓国の間には、「大韓民国と日本国間の所得に対する租税の二重課税の回避と脱税防止のための協約」(以下「韓日租税協約」という。)※1により、制限税率が適用される。

※1 韓国での名称。日本においては「韓国との租税(所得)条約(所得に対する租税に関する二重課税の回避及び脱税の防止のための日本国と大韓民国との間の条約)」という。

2. ロイヤルティ送金に伴う課税
(1) ライセンサーが個人であれば所得税法が適用され、法人であれば法人税法が適用される。外国法人の使用料所得に対する基本税率は20%である(法人税法第93条第8号、第98条第1項第6号)。

(2) しかし、日韓の間には、韓日租税協約が優先し韓日租税協約第12条第1項によると、一方の締約国で発生し、他方の締約国の居住者に支給される使用料に対しては、同他方の締約国で課税することができる。
 しかし、そのような使用料は、使用料が発生する締約国でも同締約国の法により課税され得る。ただし、使用料の収益的所有者が、他方の締約国の居住者である場合、そのような付加される租税は、使用料総額の10%を超過することはできないと規定している(韓日租税協約第12条第2項)。

(3) 上記において「使用料」(ロイヤルティ)とは、ソフトウェア、映画フィルムおよびラジオとテレビ放送用フィルムやテープを含む文学的、芸術的または学術的作品に関する著作権、特許権、商標権、意匠、実用新案、図面、秘密公式や工程の使用、または使用権、産業的・商業的または学術的装備の使用、または使用権、産業的・商業的または学術的経験に関する情報の対価として受ける全ての種類の支給金をいう。
 上記のいずれかに該当する権利、資産または情報を国内で使用したり、その対価を国内で支給したりする場合、その対価およびその権利等を譲渡することにより発生する所得を国内源泉使用料の所得と定めている(法人税法第93条第8号ハ)。

3. ロイヤルティの送金手続きおよび様式
3-1送金(支払い)等の認可基準
(1) 1件当たり米ドル5千ドルを超える支給等をしようとする場合、外国為替銀行の長に、支給等の事由と金額を立証する書類を提出しなければならない(外国為替取引規程第4-2条第1項)。

(2) 国内居住者は、年間累計金額が米ドル10万ドル以内である場合、別途の証憑書類なしに支給等ができるようになった。なお、2023年7月4日以前は年間で米ドル5万ドルだった(外国為替取引規程第4-3条第1項第1号及び同項第2号)。

(3) 支払等をしようとする者は、当該支払等をするに先立ち、当該支払等またはその原因となる取引、行為が法、令、この規程および他法令等により申告等をしなければならない場合には、その申告等を先に行わなければならない(外国為替取引規程第4-2条第2項)。

(4) 支給等をしようとする者は、第1項による支給等の証憑書類を、電子的方法を通じて提出することができる(外国為替取引規程第4-2条第6項)。

(5) 条約および一般に承認された国際法規と国内法令に反する行為に関する支給等をしてはならない(外国為替取引規程第4-1条第2項)。

3-2租税条約上の制限税率を受けるための証憑書類
(1) 外国法人に対する租税条約上の制限税率適用のための源泉徴収手続の特例規程に基づき、法人税法第98条の6第1項により制限税率の適用を受けようとする国内源泉所得の実質帰属者は、企画財政部令で定める国内源泉所得の制限税率適用申請書※2を該当国内源泉所得の支給を受ける前までに源泉徴収の義務者に提出しなければならない(法人税法施行令第138条の7第1項)。

※2 国内源泉所得制限税率適用申請書(外国法人用)(法人税法施行規則/別紙第72号の2書式)
https://www.law.go.kr/LSW/flDownload.do?gubun=&flSeq=129921229

(2) 外国法人に対する租税条約上の制限税率適用のための源泉徴収手続の特例規程に基づき、法人税法第93条による国内源泉所得の実質帰属者である外国法人が租税条約による制限税率の適用を受けようとする場合には、大統領令で定めるところにより制限税率適用申請書および国内源泉所得の実質帰属者であることを証明する書類を第98条第1項による源泉徴収義務者に提出しなければならない(法人税法第98条の6第1項)。

3-3外国為替取引の秘密保障 
 外国為替取引法による許可、認可、登録、申告、報告、通報、仲介、中継、集中、交換等の業務に従事する者は、その業務に関して知り得た情報を「金融実名取引および秘密保障に関する法律」第4条において定める場合を除いては、この法で定める用途ではない用途で使用したり、他人に漏洩したりしてはならないと規定している(外国為替取引法第22条)。

4. 日本企業が円滑に手続きを踏むための注意点
 韓国企業が日本等の外国にロイヤルティ送金を行うことにおいて、送金前に納付しなければならない税金の源泉徴収関連法規等を綿密に調べなければならない。そうしなければ、その後に税務調査を受けることになり、各本税および加算税まで負担することになる等の問題が発生する可能性がある。実務的には税務関連の専門家の意見を聞くことが必要であると思われる。

中国における仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査

「仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査研究報告書」(令和5年3月、知的財産研究教育財団 知的財産研究所) 

(目次) 
第3部.調査結果 
第1章.公開情報調査 
(仮想事例(仮想事例1(仮想空間の靴)、仮想事例2(仮想空間の椅子))を設定し、中国における仮想空間に関する知的財産について関連する法律(専利法(意匠)、商標法、著作権法、反不正競争法、専利法(特許))で保護される対象、保護が及ばない対象、権利制限/適用除外/効力が及ばないとされる範囲について、分析した結果を示している。) 

第4節.海外調査 
(3)中国 P.68 

第2章.ヒアリング調査
(仮想事例1および2に対するヒアリング項目についての中国の企業や有識者の回答を紹介している。) 

第2節.海外ヒアリング調査 
第3項 中国 P.146 
1.仮想空間を用いたビジネスの現状と展望について 
(1)仮想空間を用いて実用化している又は実用化を想定しているビジネスの内容 
(2)仮想空間を用いたビジネスを実施又は検討する際に発生した、知的財産権に関する課題
(3)仮想空間における知的財産権に関する利用規約や契約の内容 

2.仮想空間における知的財産権の保護の状況・課題・ニーズについての認識について 
①仮想事例1 
②仮想事例2-A、仮想事例2-B 
③仮想事例1、仮想事例2-A、仮想事例2-B以外のビジネス上での知的財産に関する課題および懸念事項 
④中国における法改正又はガイドライン制定等に向けた議論の内容や状況等、議論の状況についての考え 
⑤日本の現行法下でビジネスを行うと仮定した場合のビジネス上の課題や望ましい解決手段の考え方 

3.仮想空間における知的財産権に関する横断的な課題の認識について 
①プラットフォーマー等の責任について 
②越境取引における法の適用について 
③複数の仮想空間に跨った権利やライセンスの効力範囲について 

第4部.まとめ 
(中国における仮想空間に関する知的財産権について、現行の知的財産権各法で保護される対象、保護が及ばない対象の整理、および仮想空間でビジネスを行う企業や有識者等へのヒアリングを行い、法制や議論の状況についての調査結果を総括している。) 

第4章.中国 P.187 
第1節.意匠(専利法) P.187 
第2節.商標法 P.187 
第3節.著作権法 P.188 
第4節.反不正競争防止法 P.188 
第5節.専利法 P.189 

資料編 
資料III 
7.ヒアリング調査の質問票(中国企業) P.260 
8.ヒアリング調査の質問票(中国有識者) P.262 
9.ヒアリング調査の参考資料(中国企業・中国有識者) P.263 

資料IV 
7.中国企業1 P.295 
8.中国企業2 P.299 
9.中国有識者 P.303

韓国における仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査

「仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査研究報告書」(令和5年3月、知的財産研究教育財団 知的財産研究所)

(目次) 
第3部.調査結果 
第1章.公開情報調査 
(仮想事例(仮想事例1(仮想空間の靴)、仮想事例2(仮想空間の椅子))を設定し、韓国における仮想空間に関する知的財産について関連する法律(デザイン保護法、商標法、著作権法、不正競争防止法、特許法)で保護される対象、保護が及ばない対象、権利制限/適用除外/効力が及ばないとされる範囲について、分析した結果を示している。) 

第4節.海外調査 
(4)韓国 P.75 

第2章.ヒアリング調査
(仮想事例1および2に対するヒアリング項目について、韓国の企業や有識者の回答を紹介している。) 

第2節.海外ヒアリング調査 
第4項 韓国 P.160 
(1)仮想空間を用いたビジネスの現状と展望について 
(2)仮想空間における知的財産権の保護の状況・課題・ニーズについての認識について 
①仮想事例1 
②仮想事例2-A、仮想事例2-B 
③仮想事例1、仮想事例2-A、仮想事例2-B以外のビジネス上での知的財産に関する課題および懸念事項 
④韓国における法改正又はガイドライン制定等に向けた議論の内容や状況等、議論の状況についての有識者の考え 
⑤日本の現行法下でビジネスを行うと仮定した場合のビジネス上の課題や望ましい解決手段の考え方 
(3)仮想空間における知的財産権に関する横断的な課題の認識について 
①プラットフォーマー等の責任について 
②越境取引における法の適用について 
③複数の仮想空間に跨った権利やライセンスの効力範囲について 

第4部.まとめ 
(韓国における仮想空間に関する知的財産権について、現行の知的財産権各法で保護される対象、保護が及ばない対象の整理、および仮想空間でビジネスを行う企業や有識者等へのヒアリングを行い、法制や議論の状況についての調査結果を総括している。) 

第5章.韓国 
第1節.デザイン保護法 P.189 
第2節.商標法 P.190 
第3節.著作権法 P.190 
第4節.不正競争防止法 P.191 
第5節.特許法 P.191 

資料編 
資料III 
10.ヒアリング調査の質問票(韓国有識者) P.266 
11.ヒアリング調査の参考資料(韓国有識者) P.268 

資料IV 
10.韓国有識者 P.307 

インドにおける知的財産訴訟の統計データ

1. インドにおける知的財産専門部署の導入による知的財産訴訟の改革 
 2021年4月4日に施行された「2021年審判所改革(合理化および勤務条件)令」により、知的財産審判委員会(IPAB)は廃止された。IPABは、特許庁および商標登録官の決定に対する審判請求を審理するための審判機関として2003年に設立されたが、各種審判所の機能強化および合理化を目的とした広範な改革の一環として解散された。IPABの廃止および2021年審判所改革法の施行により、IPABに継続中の知的財産事件と、1999年商標法、2001年植物品種および農業者の権利保護法、1970年特許法、1957年著作権法および1999年商品の地理的表示(登録および保護)法に基づいてIPABに提起されたであろう新たな知的財産事件のすべてが、IPABの支所が所在していたデリー、ムンバイ、コルカタ、チェンナイ、アーメダバードを所管する各高等裁判所に移管されることとなった。 
 今後、新たに提起される知的財産審判事件については、対象とされる知的財産の出願された特許庁(デリー、ムンバイ、コルカタ、チェンナイ)を管轄する高等裁判所に属することとなった。これは、既存の司法システムの中で知的財産権紛争の専門的な知識を確保し、より効率的な解決を図ることを目的としている。また、2022年にデリー高等裁判所、2023年にマドラス高等裁判所(在チェンナイ)に知的財産部が設置され、最近では、コルカタ高等裁判所においても知的財産を所管するための規則案が通知されており、近いうちにコルカタ高等裁判所にも知的財産部が設置される予定である。なお、知的財産部が設置されていない高等裁判所では、通常の上訴法廷で審理される。

2. 分析方法および分析期間 
 インドの知的財産訴訟に関しては、すべての裁判所の訴訟情報を網羅した単一のデータベースが存在しないため、公開された報告書等により知的財産訴訟の進捗状況を確認するとともに、デリー高等裁判所とボンベイ最高裁判所の公式ウェブサイトで訴訟記録を調査した。両裁判所は、同国の知的財産訴訟の約85%を扱っていると推定されている。 
 なお、各裁判所の公式サイトにおける訴訟情報の公表状況は、全てのデータを考慮したものではなく、データの統計的な正確性を保証するものではない。また、複数の知的財産権が侵害されていると主張されている場合もあり、同一の訴訟が複数回計上されることによって、全体の数値が実際の件数と若干異なる場合がある。 
 データの集計期間は2014年1月から2023年12月までであるが、2021年から2023年までのデータは、デリー高等裁判所のみに関するものである。 
 また、デリー高等裁判所は、「デリー高等裁判所知的財産部門年次報告書2022-23」を公表しており、知的財産部門の導入後の訴訟動向が提供されている。 
 本稿で提供されたデータの分析は、インドにおける知的財産訴訟の成長について楽観的な見通しを与えてくれる。

3. 新たに提起された知的財産訴訟の分析 
3-1. 2014-2016年 
 2014、2015年および2016年に新たに提起された知的財産関連の訴訟件数は、以下のとおりである。

2014年2015年2016年
商標446440495
著作権141167230
特許154054
意匠301015
その他のIP209
合計634657803

 2014年、2015年、2016年には、毎年平均約697件の訴訟が提起され、そのピークは2016年であった。 
 2014年に新たに提起された知的財産に関する訴訟のうち、約7割が商標に関するもの(商標権侵害、詐称通用等)であったが、2015年には67%、2016年には62%となっている。 
 著作権および著作隣接権に関する訴訟の割合は、2014年の22%、2015年の25.4%から2016年には28.6%と大幅に増加している。 
 特許権および意匠権に関する訴訟は、商標および著作権に関する訴訟に比べて圧倒的に少ないが、2014年には7%であった特許権および意匠権に関する訴訟は、2015年には7.6%、2016年には8.6%と増加している。

3-2. 2017-2019年 
 2017、2018年および2019年に新たに提起された知的財産関連の訴訟件数は、以下のとおりである。

2017年2018年2019年
商標316598674
著作権182293368
特許5511844
設計151714
その他のIP974
合計57710331104

 毎年の訴訟件数は、2017年には若干減少したものの、2018年以降急速に増加しており、2019年の訴訟件数は、2014年の634件から1104件に増加している。 
 2017年に提起された知的財産権に関する新規訴訟のうち、商標(商標権侵害・詐称通用等)に関するものは約55%であったが、2018年には58%、2019年には61%と増加している。 
 著作権および著作隣接権に関する訴訟の比率は、2017年には31.5%、2018年には28.4%、2019年には33.3%と引き続き増加傾向にあり、特許および意匠に関する訴訟は、2017年には12%、2018年には13%と一貫して増加傾向にあったが、2019年には5.25%に減少している。

3-3. 2020-2023年 
 2020年以降に新たに提起された知的財産権に関する訴訟件数は、以下のとおりである。

2020年2021年2022年2023年
商標412379347513
著作権215164114227
特許43403855
設計14131228
その他のIP4321
合計688599514824

 毎年の訴訟件数は、2020年から2022年にかけて、世界的なCOVID-19の流行の影響もあり減少したが、2023年には若干ではあるが再び増加しており、今後さらに増加することが予想される。 
 2020年に新たに提起された知的財産権に関する訴訟のうち、商標(商標権侵害・詐称通用等)に関するものは約6割あり、2021年には63.3%、2022年には67.5%、2023年には62.2%となっている。 
 著作権および著作隣接権に係る訴訟の比率は、2020年には31.25%、2021年には27.3%、2022年には22.1%、2023年には27.5%と20~30%台で推移しているが、特許および意匠に係る訴訟の比率は、2020年以降増加傾向にあり、全知的財産訴訟のうち特許権および意匠権に係る訴訟の比率は8.3%であったが、2021年には8.8%に上昇し、2022年には更に増加して10%となり、2023年は横ばいであった。 
 上記の数字は、インドの知的財産環境が、成長過程にあり、かつイノベーションと知的資産の保護に積極的な姿勢であるというダイナミズムを示していることを表している。

4. 提起された知的財産訴訟において認められた仮差止命令の分析 
 2014年から2023年までの仮差止処分の内訳は、以下のとおりである。

仮差止処分命令(%)仮差止命令が認められなかった件数
2014年397(62.6)237
2015年334(50.8)323
2016年312(38.9)491
2017年205(35.5)372
2018年331(34.3)634
2019年306(27.7)798
2020年321(46.7)367
2021年263(23.8)841
2022年153(29.8)361
2023年314(38.1)510

 2014年に提起された知的財産訴訟のうち、裁判所が仮差止命令を発令したのは、62.6%である。 
 2015年には、判決が出るまでの間に、50.8%の事件が原告の権利を保護するために仮差止命令を発令したが、2016年には38.8%に減少し、2017年には35.5%にさらに減少し、2018年には34.3%に減少し、2019年には27.7%とさらに減少した。 
 2020年には、裁判所は46.7%の事件で仮差止命令の発令を支持しているようであるが、2021年には23.8%に、2022年には29.8%に、再び減少している。2023年には、裁判所は38%の事件で差止命令を発令した。 
 インドの裁判所は、知的財産訴訟における仮差止命令の発令には一般的に慎重であるが、権利保有者が一応の根拠に基づいて侵害を証明できる場合には、積極的かつ迅速に仮差止命令を発令し、調査活動を行う地方委員を任命する。調査活動は、当事者による調査、証拠調べ、物件への立ち入りなどの申請に基づいて、裁判所が任命した地方委員によって実施される。

5. 知的財産訴訟の最終処分の分析(2014-2023) 
 2014年から2023年までの裁判所による差止請求に対する最終処分結果を、以下に示す。

裁判所の最終処分和解/取り下げ合計
2014年217436653
2015年260424684
2016年251221472
2017年156334490
2018年149292441
2019年360204564
2020年411440851
2021年213179392
2022年11325138
2023年11473187

 インドの裁判所は、多くの事件において、早期の裁判外の和解を推奨する傾向が見られる。インドに提起された知的財産訴訟の大半は、当事者が望む場合には、調停その他の紛争解決手段に付託されている。2014年から2018年まで、処理された事件全体のおよそ2/3が和解または取り下げとなっている。2019年には、事件の和解または取下げは36%に減少したが、裁判所による事件の処理は増加しているようである。2020年から2023年にかけても同様の傾向が見られるが、事件が係属中であり、多くの事件について最終処分の結果が得られないため、データが正確でない可能性がある。
 しかし、2023年4月の「デリー高等裁判所知的財産部年次報告書2022-23」において、知的財産権問題におけるADRメカニズムの利用が極めて成功していることが報告され、統計によれば、デリー高等裁判所では斡旋・調停センター送致事件の80%から85%が解決されている。

6. まとめ 
 2005年の施策により特許訴訟が増加したが、インドにおける知的財産訴訟に関する統計データによれば、依然として商標権と著作権の行使に関しての知的財産訴訟の提起が多くを占めている。 
 裁判所はまた、長年にわたり、知的財産訴訟における紛争の早期解決のための調停手続を奨励してきており、この手続により、裁判所は、未決の訴訟の多くを解決することができている。 
 立法改革、規制調整、技術の進歩によって推進されたインドの知的財産環境のダイナミックな変化は、進化するグローバルなイノベーション環境に適応するためのインドの積極的な姿勢を示している。迅速な特許審査プログラムの実施と商標出願の合理化は、多様な産業にわたるイノベーションの育成と促進に対するインドの目指す姿勢の明確な表れである。裁判所の枠組みの中に知的財産部門(IPD)を設立することは、知的財産事件を解決する専門の手段を提供し、より強固で効率的な法的手段を確保するための重要な一歩である。インドが知的財産という複雑な分野を進み続ける中で、これらの進歩的なイニシアティブと戦略的発展は、インドを活気に満ちた包括的なイノベーション・エコシステムの育成の最前線に位置付ける。将来、インドが経済的・技術的発展をする上で、必ずや知的財産がより不可欠な役割を果たすことになるであろう。

インドネシアにおける模倣品流通動向調査

「インドネシアにおける模倣品流通動向調査」(2023年3月、日本貿易振興機構 ジャカルタ事務所)

目次

1. 目的 P.4

2. 調査結果 P.4
(ジャカルタの地区別に衣類、バッグ、装身具、化粧品、スペアパーツ、電子機器等の市場の模倣品販売の調査結果を紹介している。また、大手Eコマースプラットフォーム(Tokopedia、Shopee、LazadaおよびBukalapak)における模倣品流通の調査結果を紹介している。)

 2.1 物理的市場の調査 P.4
 2.1.2 序論 P.4
 2.1.3 業界特有の課題 P.4
 2.1.4 模倣品市場に関する情報 – 実地調査 P.5
 2.2 オンライン調査 P.20
 2.2.1 序論 P.20
 2.2.2 模倣品のオンライン市場調査 P.21

3. 最近の政策と主な法改正 P.23
(インドネシアの税関制度の概要、2018年から2023年の間の知的財産に関する法令の改正情報、2022年の知的財産権総局(DGIP)の取組みなどを紹介している。)  

 3.1 税関 P.23
 3.2 IPに関する法令 P.23
 3.2.1 オムニバス法 P.23
 3.2.3 知的財産権総局による最新情報 P.23
 3.3 インドネシアの法規制および関連するテイクダウン規定 P.25
 3.4 IPの啓蒙活動と教育プログラム P.26

4. 模倣品取り締まり機関に関する報告 P.27
(2018年から2021までの知的財産侵害事件の件数、2019年から2022年の商標侵害訴訟、著作権訴訟、特許訴訟、工業意匠訴訟の統計情報および訴訟概要(一部案件)を紹介している。)  

 4.1. 模倣品取り締まりの関連機関およびそれぞれの管轄と権限 P.27
 4.2. 過去5年の模倣品事件 P.28

5. インドネシアの市場における模倣品の実態に関する報告 P.34
(インドネシアの主要港湾の位置、入港船舶数、取り扱う貨物の内容や量などを紹介している。また、中国税関が公表した2016年から2021年までの模倣品差押え件数やインドネシア国内での模倣品の組立ての実態を説明している。INTAの2019年報告書によるインドネシアの模倣品の消費者についての分析した内容を解説している。)  

 5.1 模倣品の流通 P.34
 5.2.2 税関チェックポイントでの模倣品の流通量 P.35
 5.2 インドネシアにおける模造製品の製造と組立て P.37
 5.3 模倣品の消費 P.37

6. インドネシアにおける企業の模倣品対策に関する報告 P.38
(インドネシアにおける模倣品対策(刑事訴訟、民事訴訟、交渉、模倣品防止戦略)について解説している。また、模倣品対策を積極的に実施している企業4社の事例を紹介している。)

 6.1 模倣品が発見された際の対策、対策に要する時間とコスト、対策の成否の理由を説明する。また、模倣品が流通している場合の企業に対する助言も紹介する。 P.38

付属書1B:著作権刑事訴訟のフローチャート P.42
付属書1A:商標刑事訴訟のフローチャート P.43

 6.2 オンラインの模倣品対策を含め、模倣品対策を積極的に実施している日本、欧州、米国の企業の事例 P.44
付属書 P.45
A. DGIP との会議
B. インドネシア国家警察との会議
C. DGCE との会議