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シンガポールの特許の審査基準へのアクセス方法
2013年11月12日
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シンガポールにおける特許の審査基準は、シンガポール知財庁（IPOS）のウェブサイトで英語版が閲覧可能である。ウェブサイトも英語で運営されている。■詳細及び留意点
【詳細】
シンガポールにおける特許の審査基準（Guide on Patentability Issues arising during Search and Examination（検索及び審査において生じる特許性の問題に関するガイド））は、シンガポール知財庁（IPOS）のウェブサイトで閲覧が可能である。ここではIPOSウェブサイト上での特許の審査基準の閲覧の仕方を紹介する。
(1) http://www.ipos.gov.sg/ にアクセスし、上部のバーの左から3つ目「About IP（知財について）」にポインタをあてると、プルダウンメニューが表示される。
IPOSトップ画面
(2) プルダウンメニュー一番上の「What is Intellectual Property and what are the different types?（知的財産及びその様々な種類とは？）」をクリックすると次の画面があらわれる。
「What is Intellectual Property and what are the different types?（知的財産及びその様々な種類とは？）」のページ
(3) 上記(2)の画面で「What is a patent?（特許とは？）」をクリックするとさらに詳細な項目が表示されるので、「Patent resources（特許資料）」を選択する。
「Patent resources（特許資料）」を選択
(4) すると、次のような画面が表示される。
「Patent resources（特許資料）」のページ
「Patent resources（特許資料）」のページには、下記のものが掲載されている。
- Patents Infopack（特許についての資料）
- Guide on Patentability Issues arising during Search and Examination（検索及び審査において生じる特許性の問題に関するガイド）
- IPOS’ Guide To The 2008 Patents Amendments（2008年特許法改正のガイド）
- Guide on the 2007 Patents Amendments Relating To Patent Filing（特許出願に関する2007年特許法改正についてのガイド）
- Guide on the 2007 Patents Amendments Relating To Priority Claims（優先権主張に関する2007年特許法改正についてのガイド）
- License of Right (LOR)（ライセンス・オブ・ライトについて）
上記画面において「Guide on Patentability Issues arising during Search and Examination（検索及び審査において生じる特許性の問題に関するガイド）」をクリックすればPDF形式で閲覧できる（印刷・ファイル保存が可能）。
「Guide on Patentability Issues arising during Search and Examination（検索及び審査において生じる特許性の問題に関するガイド）」の表紙
■ソース
・シンガポール知財庁（IPOS）ウェブサイトhttp://www.ipos.gov.sg/
■本文書の作成者
一般財団比較法研究センター 不藤真麻■本文書の作成時期
2013.09.03