国別・地域別情報

アジア / 制度動向


法改正に関する情報など各国・地方の制度に関する動向について掲載しています。


特許・実用新案

特許・実用新案

2023.12.19
ベトナムにおけるコンピュータプログラム関連発明の特許審査ガイドラインの改正

日本国際協力機構(JICA)との協力による特許審査能力強化プロジェクトの一環として、ベトナム国家知的財産庁は、2010年に、附属書の形でベトナム特許審査ガイドラインを補足する、コンピュータプログラムに関連する発明の審査に関する具体的な規則を作成した。さらに、2021年の附属書Iに続き、2023年4月3日に附属書IIを発行し、開示の充足性の評価、請求項の特徴の特定、新規性および進歩性の評価に関するガイドラインを提供し、コンピュータプログラム関連発明に関して2010年ガイドラインの第5.7項および第3章の適用を容易にする道を開いた。本稿では、附属書IIの発行に至るまでの経緯とその内容について解説する。

2023.11.02
ベトナムにおける特許制度のまとめ-実体編

ベトナムにおける特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

2023.09.26
中国における特許制度のまとめ-実体編

中国における特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

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意匠

2023.08.29
中国における知的財産権侵害関連裁判マニュアル

「知的財産権侵害関連裁判マニュアル」(2023年3月、日本貿易振興機構北京事務所(知的財産権部))では、中国における知的財産権関連訴訟の手続や留意事項等について紹介している。

2023.08.24
台湾における知的財産保護マニュアル

「台湾知的財産保護マニュアル(旧 台湾模倣対策マニュアル)」(2022年3月、日本台湾交流協会)では、台湾の知的財産制度および模倣対策について紹介している。

2022.06.23
タイ、ベトナム、インドネシア、シンガポール、マレーシアの意匠制度比較

タイ、ベトナム、インドネシア、シンガポール、マレーシアの意匠に関する制度情報を比較一覧する。

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商標

2024.10.31
韓国における商標出願制度概要

韓国の商標出願手続は、主に出願、方式審査、実体審査、出願公告、登録査定の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に継続して更新可能である。

2023.10.10
インドにおける商標制度のまとめ-実体編

インドにおける商標制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

2023.08.29
中国における知的財産権侵害関連裁判マニュアル

「知的財産権侵害関連裁判マニュアル」(2023年3月、日本貿易振興機構北京事務所(知的財産権部))では、中国における知的財産権関連訴訟の手続や留意事項等について紹介している。

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その他

2024.01.23
台湾における公平交易法改正

台湾では、「公平交易法」改正案が2015年1月22日に可決され、第10条および第11条の条文が公布の30日後から施行されるのを除き、その他の条文は公布日(2015年2月4日)から施行された。さらに、2017年に第11条の条文が改正され、同年6月14日に公布された。

2023.08.29
中国における知的財産権侵害関連裁判マニュアル

「知的財産権侵害関連裁判マニュアル」(2023年3月、日本貿易振興機構北京事務所(知的財産権部))では、中国における知的財産権関連訴訟の手続や留意事項等について紹介している。

2023.08.24
台湾における知的財産保護マニュアル

「台湾知的財産保護マニュアル(旧 台湾模倣対策マニュアル)」(2022年3月、日本台湾交流協会)では、台湾の知的財産制度および模倣対策について紹介している。

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