アジア / 法令等
特許、実用新案、意匠、商標など各知的財産権の法令等へのリンクを掲載しています。
特許・実用新案
特許・実用新案
- 2020.03.24
- 日本と台湾における特許分割出願に関する時期的要件の比較
日本および台湾においては、それぞれ所定の期間、特許出願について分割出願を行うことができる。台湾においては、原出願の特許査定書の送達日から30日以内、または、原出願の再審査の査定前に分割出願を行うことができる。なお、2019年11月1日施行予定の改正専利法により特許査定後の分割出願の可能な期間が特許査定書の送達日から3か月になることが公表されている。
- 2020.03.24
- マレーシアにおける修正実体審査請求
マレーシア特許出願における修正実体審査請求について紹介する。同一の発明について、米国や日本等で既に特許権を取得している場合には、通常の実体審査に代えて修正実体審査を請求することができる。修正実体審査の請求を行った場合、進歩性等の要件については審査されない。 さらに、マレーシア知的財産公社（マレーシア特許庁）と日本特許庁との間で2014年10月1日から試行が開始された特許審査ハイウェイ（PPH）について紹介し、PPHと修正実体審査請求との違いについても説明する。
- 2020.03.19
- 台湾専利法における誤訳対応
台湾専利法における誤訳対応は、出願係属中は補正手続で、権利成立後は訂正手続で対応する。補正および訂正のいずれも、出願時の書類の開示範囲を超えてはならないとされ、外国語書面による出願の場合、出願時の当該書面の開示範囲を超えないことが求められる。
- 2020.03.17
- 中国における特許出願制度概要
（2021年4月13日訂正： 本記事のソースにおいて「特許庁委託事業 外国産業財産権侵害対策等支援事業」のURLを記載しておりましたが、リンク切れとなっていたため、URLを修正いたしました。 ） 中国特許出願の流れ 特許の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)実体審査、(5)登録・公告の手順で進められる。特許権の存続期間は出願日から20年。
- 2020.03.12
- 韓国における模倣に対する刑事的救済
「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第III編 模倣に対する救済」「第4章 模倣に対する刑事的救済」では、韓国における模倣に対する刑事的救済について紹介されている。
- 2020.03.12
- 韓国における模倣対策マニュアル（付録1から5）
「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「付録1から5」では、韓国における各管轄官庁／担当機関へのリンク、日韓知的財産関連分野の差異点対照表、特許料・登録料・維持年金、商標権申告書様式等について紹介されている。
- 2020.03.12
- 韓国における模倣に対する民事的救済
「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第III編 模倣に対する救済」「第3章 模倣に対する民事的救済」では、韓国における模倣に対する民事的救済について紹介されている。
- 2020.03.10
- 韓国における模倣に対する行政的救済
「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第III編 模倣に対する救済」「第2章 模倣に対する行政的救済」では、韓国における模倣に対する行政的救済が紹介されている。
- 2020.03.03
- カンボジアにおける知的財産権の行使
「カンボジアにおける模倣品流通実態についての調査」（2017年9月、日本貿易振興機構(JETRO) バンコク事務所 知的財産部）第3章では、カンボジアにおける知的財産権の行使について紹介されている。
- 2020.02.27
- カンボジアにおける模倣品の定義
「カンボジアにおける模倣品流通実態についての調査」（2017年9月、日本貿易振興機構(JETRO) バンコク事務所 知的財産部）第1章では、カンボジアにおける知的財産権を侵害する製品の定義について紹介されている。