アジア / アーカイブ
既に内容を更新した記事があるものの、過去の情報として参照できる記事を掲載しています。
意匠
意匠
- 2017.07.27
- 中国における専利権侵害訴訟手続の概要
（本記事は、2024/4/2に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/38480/ 専利権（特許、実用新案、意匠を含む）が侵害された場合、権利者が取りうる法的手段として、人民法院に専利権侵害訴訟を提起する司法ルートによる保護と、地方知的財産権局へ紛争の処理を申し立てる行政ルートによる保護が存在する。司法ルートによる保護は、一つの訴訟手続において差止請求と損害賠償の双方を請求することができ、かつ終局的な解決手段であるため、かなり頻繁に利用されており、訴訟件数は毎年増加している。そこで本稿では、専利権侵害訴訟手続の概要について紹介する。
- 2017.07.27
- 韓国における関連意匠制度
（本記事は、2023/3/23に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/34077/ 関連意匠制度（韓国語「関連デザイン制度」）とは、意匠権者または意匠登録出願人が自己の登録意匠または出願した意匠（基本意匠）とのみ類似した意匠に係り、その基本意匠の意匠登録出願日から1年以内に意匠登録出願された場合に限って関連意匠として意匠登録を受けることができる制度である。 従前は類似意匠制度を採択していたが、意匠法の全面改正（2013年5月28日改正、2014年7月1日施行）によって関連意匠制度を新たに導入した。 関連意匠は、類似意匠とは異なって独自の効力範囲を有し、基本意匠権が消滅しても消滅せず、独自の権利として存続する。 ただし、存続期間は基本意匠の意匠権存続期間満了日となる。基本意匠権の存続期間は、意匠登録日より発生し、出願日から20年までである
- 2017.07.04
- 韓国におけるデザイン登録における機能性および視認性
（本記事は、2021/6/1に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20058/ 韓国において、物品の機能を確保するために不可欠な形状のみからなったデザインはデザイン登録を受けることができない。つまり、機能的な形状はデザイン登録の対象ではないと考えられている。また、デザインの視認性に関して、視認を通じて美感を起こさせることを要件としており、肉眼で識別できることを原則としている。
- 2017.06.27
- 中国の意匠特許における機能性および視認性
（本記事は、2021/5/20に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19889/ 中国では現在、どの程度の機能性が存在すれば意匠特許保護の範囲から除外されるのかをめぐる論争が特許実務者の間で展開されており、その基準はまだ確立されていない。意匠特許保護の範囲の判断にあたって意匠の視認性をどの程度考慮すべきかについても、専利法および同法施行規則には明示規定が存在しない。ただし、機能性と比較した場合、意匠特許における視認性の問題は、中国の特許実務家の中では機能性の問題よりもはるかに統一的なやり方で処理されている。
- 2017.06.22
- シンガポールにおける意匠の公開延期請求について
（本記事は、2019/9/5に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17676/ シンガポールにおいては、意匠は、登録意匠法または著作権法によって保護される。意匠を登録意匠法により保護するために出願すると、その意匠は登録により公開されるが、出願日から18か月間にわたって登録意匠の公開を延期するよう請求することが可能である。また意匠を美術著作物として著作権法で保護する場合、当該意匠が産業利用されない限り、これを秘密に保つことができる。
- 2016.02.19
- インドネシアにおける商標権の権利行使と模倣意匠への対応
（本記事は、2021/6/24に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/20281/ インドネシアにおける知的財産権侵害や模倣品被害において商標権や意匠権が問題となることが多い。先願主義を採用するインドネシアでは他者に先駆けた権利確保が重要であるが、権利確保した後、侵害者に対して権利行使する際に留意しなければならない事項も少なくない。以下、インドネシアにおける商標権に基づく権利行使の検討、商標権が侵害された場合に権利行使前に準備すること、差止請求や損害賠償請求した場合のリスク、不使用に基づく商標取消を回避する手段、盗用（模倣）意匠出願に対する対策について紹介する。
- 2016.02.02
- 台湾における特許関連番号フォーマット
（本記事は、2022/11/3に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/26927/ 台湾における特許関連の公報等に用いられる出願番号および公開番号には年度が含まれているが、出願番号には台湾暦が用いられ、公開番号には西暦が用いられており、注意が必要である。台湾暦に1911を加えると西暦年となり、逆に、西暦から1911を引くと台湾暦になる。なお、登録番号には年度は含まれない。台湾における各種番号フォーマットおよび欧州特許庁が提供するEspacenetでの番号フォーマットを紹介する。
- 2015.10.30
- 日本と台湾における意匠の新規性喪失の例外に関する比較
（本記事は、2019/1/24に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16450/ 台湾での意匠出願の新規性喪失の例外規定の適用要件には、出願人自らの刊行物による公知が含まれている。日本と同様に、意匠が公知となった日から6ヶ月以内に出願しなければならない。新規性喪失の例外規定を適用しても、新規性を喪失した日に出願日が遡及するわけではない。つまり、新規性喪失の例外の適用を受けて意匠出願をしても、第三者が同じ技術を当該出願前に公知にしていれば、その意匠出願は新規性がないとして拒絶される。また、第三者が同じ意匠を先に意匠出願している場合も、先願主義に従い、後の意匠出願は拒絶される。新規性喪失の例外の適用を受けられる場合でも、このようなリスクを避けるため、できるだけ早く出願する必要がある。
- 2015.10.02
- 日本とシンガポールにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較
（本記事は、2019/10/10に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17783/ シンガポールにおける意匠出願の新規性喪失の例外規定の適用要件は、意匠法第8条に規定されている。日本の規定とは異なっており、意匠登録を受ける権利を有する者の行為に基づいた公開に対しての例外規定は適用されない。ただし、国際的な博覧会での展示に関しては、開催後6ヵ月以内に出願することを条件として、新規性喪失の例外を主張することが可能である。
- 2015.08.07
- 日本と韓国における意匠の新規性喪失の例外に関する比較
（本記事は、2019/10/12に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17764/ 韓国における意匠の新規性喪失の例外規定の要件は、日本と類似している。例えば、公知日から6ヶ月以内に出願する時期的要件や、公開を証明する書類の提出に関する要件が韓国にも存在する。