アジア / アーカイブ
既に内容を更新した記事があるものの、過去の情報として参照できる記事を掲載しています。
商標
商標
- 2012.07.31
- （韓国）特許/実用新案/商標/意匠の公報の調べ方の概要―韓国特許技術情報センター（KIPRIS）
（本記事は、2017/9/7に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/14021/ 韓国の特許等（特許/実用新案/商標/意匠）公報を調べられるサイトとして、特許技術情報センター（KIPRIS）が提供するウェブサイトがある。誰でも無料でアクセス可能である。
- 2012.07.31
- 韓国における商標出願制度概要
（本記事は、2018/10/25に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/16045/ 韓国商標出願制度の概要 出願手続きは、主に出願、方式審査、実体審査、出願公告、登録査定の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に何度でも更新可能である。
- 2012.07.30
- 中国の知的財産関連機関・サイト
（本記事は、2017/9/12、2020/6/18に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/14023/（2017/9/12） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18767/（2020/6/18） 中国の知的財産と関連する公的機関について、各機関の説明とサイトのURLを示す。知的財産に関する各種情報や法律・規則・ガイドラインに関する情報を入手することができる。
- 2012.07.30
- 中国知財侵害の民事訴訟制度概要
（本記事は、2017/7/27に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/13942/ 知財権侵害行為に対し、権利者又は利害関係者は裁判所（中国語「人民法院」）に提訴することができる。裁判所は提訴事件を受けた後、7日以内に立件するか否かを決定する。立件した後、合議廷を設置して開廷審理を行なうが、開廷審理を経て、和解が成立しない場合、判決を言い渡して審理を終結する。 裁判所の一審判決に不服がある場合、上訴期間以内に上級裁判所に上訴を提出することができる。二審終審制である。 なお、渉外民事訴訟の場合、管轄、期限などの各方面で特別な規定があり、注意が必要である。
- 2012.07.30
- 中国における不服系行政訴訟制度概要
（本記事は、2022/2/10に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/22297/ 中国における不服系行政訴訟の流れ 中国特許庁などの行政機関からの決定または審決に不服の場合、その通知を受領した日から3ヶ月以内に裁判所に提訴することができる。 裁判所は提訴後7日以内に当該提訴を受理するか（立件）するか否かを決定する（行政訴訟法第42条）。立件した後、開廷審理を経て、審理を終結した後、判決を言渡す。 裁判所の一審判決に不服がある場合、上訴期間以内に上級裁判所に上訴を提出することができる（行政訴訟法第58条）。二審終審制である。 専利（特許、実用新案、意匠）及び商標に関する審決不服訴訟の第一審は北京市第一中級人民法院であり、第二審は北京市高級人民法院である。
- 2012.07.30
- 韓国の知的財産関連機関・サイト
（本記事は、2020/6/2に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/18615/ 韓国の知的財産と関連する公的機関について、各機関の説明とサイトのURLを示す。知的財産に関する各種情報や法律・規則・ガイドラインに関する情報を入手することができる。
- 2012.07.30
- 中国における商標出願制度概要
（本記事は、2020/4/16に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18449/ 中国における商標出願の流れ 出願は、国家工商行政管理局に属する商標局に対して行い、出願手続きは、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)実体審査、(4)出願公告、(5)登録公告の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に何度でも更新可能である。