アジア / アーカイブ
既に内容を更新した記事があるものの、過去の情報として参照できる記事を掲載しています。
意匠
意匠
- 2017.06.22
- シンガポールにおける意匠の公開延期請求について
（本記事は、2019/9/5に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17676/ シンガポールにおいては、意匠は、登録意匠法または著作権法によって保護される。意匠を登録意匠法により保護するために出願すると、その意匠は登録により公開されるが、出願日から18か月間にわたって登録意匠の公開を延期するよう請求することが可能である。また意匠を美術著作物として著作権法で保護する場合、当該意匠が産業利用されない限り、これを秘密に保つことができる。
- 2016.02.19
- インドネシアにおける商標権の権利行使と模倣意匠への対応
（本記事は、2021/6/24に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/20281/ インドネシアにおける知的財産権侵害や模倣品被害において商標権や意匠権が問題となることが多い。先願主義を採用するインドネシアでは他者に先駆けた権利確保が重要であるが、権利確保した後、侵害者に対して権利行使する際に留意しなければならない事項も少なくない。以下、インドネシアにおける商標権に基づく権利行使の検討、商標権が侵害された場合に権利行使前に準備すること、差止請求や損害賠償請求した場合のリスク、不使用に基づく商標取消を回避する手段、盗用（模倣）意匠出願に対する対策について紹介する。
- 2016.02.02
- 台湾における特許関連番号フォーマット
（本記事は、2022/11/3に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/26927/ 台湾における特許関連の公報等に用いられる出願番号および公開番号には年度が含まれているが、出願番号には台湾暦が用いられ、公開番号には西暦が用いられており、注意が必要である。台湾暦に1911を加えると西暦年となり、逆に、西暦から1911を引くと台湾暦になる。なお、登録番号には年度は含まれない。台湾における各種番号フォーマットおよび欧州特許庁が提供するEspacenetでの番号フォーマットを紹介する。
- 2015.10.30
- 日本と台湾における意匠の新規性喪失の例外に関する比較
（本記事は、2019/1/24に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16450/ 台湾での意匠出願の新規性喪失の例外規定の適用要件には、出願人自らの刊行物による公知が含まれている。日本と同様に、意匠が公知となった日から6ヶ月以内に出願しなければならない。新規性喪失の例外規定を適用しても、新規性を喪失した日に出願日が遡及するわけではない。つまり、新規性喪失の例外の適用を受けて意匠出願をしても、第三者が同じ技術を当該出願前に公知にしていれば、その意匠出願は新規性がないとして拒絶される。また、第三者が同じ意匠を先に意匠出願している場合も、先願主義に従い、後の意匠出願は拒絶される。新規性喪失の例外の適用を受けられる場合でも、このようなリスクを避けるため、できるだけ早く出願する必要がある。
- 2015.10.02
- 日本とシンガポールにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較
（本記事は、2019/10/10に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17783/ シンガポールにおける意匠出願の新規性喪失の例外規定の適用要件は、意匠法第8条に規定されている。日本の規定とは異なっており、意匠登録を受ける権利を有する者の行為に基づいた公開に対しての例外規定は適用されない。ただし、国際的な博覧会での展示に関しては、開催後6ヵ月以内に出願することを条件として、新規性喪失の例外を主張することが可能である。
- 2015.08.07
- 日本と韓国における意匠の新規性喪失の例外に関する比較
（本記事は、2019/10/12に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17764/ 韓国における意匠の新規性喪失の例外規定の要件は、日本と類似している。例えば、公知日から6ヶ月以内に出願する時期的要件や、公開を証明する書類の提出に関する要件が韓国にも存在する。
- 2015.07.24
- 日本とインドにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較
（本記事は、2019/10/1更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17762/ インドでは、中央政府に承認された展示会での開示や意匠権者の意に反する開示について、新規性喪失の例外が認められている。展示会での開示に関しては、開示日から6ヶ月以内に意匠出願する必要がある。
- 2015.07.21
- インドネシアにおける意匠および商標の冒認出願対策
（本記事は、2018/8/23に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/15675/ インドネシアでは、利害関係人であれば、冒認意匠や冒認商標の出願に対して、当該出願の公開後3ヶ月以内に、異議を申し立てることができる。冒認意匠や冒認商標の出願がすでに登録されている場合には、その登録の取り消しを求める訴訟を商務裁判所に提訴することが可能である。冒認意匠や冒認商標の出願を監視する民間会社もインドネシアには存在するが、製品に登録意匠、登録商標といった登録表示を付すことで、潜在的な侵害者に対して警告することになり有効である。 本稿では、インドネシアにおける意匠および商標の冒認出願対策について、Tilleke & Gibbins International Ltd. インドネシア・オフィス代表 Somboon Earterasarun氏が解説している。
- 2015.07.07
- タイにおける知的財産行政を巡る現状や展望
（本記事は、2018/8/28に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/15679/ タイ知的財産協会（Intellectual Property Association of Thailand:IPAT）の検討委員会は、2014年11月5日、知的財産局（Department of Intellectual Property : DIP）新長官と会合を持ち、DIPの主要局員を交え、「タイにおける知的財産行政を巡る現状や展望」を主題とするミーティングを実施し、特許の審査期間短縮、マドリッドプロトコルへの加盟に関わる法案などの商標関連の重要法案等について議論を交わした。その内容を紹介する。 本稿では、タイにおける知的財産行政を巡る現状や展望について、Rouse & Co. International (Thailand) Ltd. エグゼクティブ Prasit Siricheepchaiyan氏が解説している。
- 2015.06.26
- 日本と中国における意匠の新規性喪失の例外に関する比較
（本記事は、2019/1/24に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16447/ 日本および中国いずれにおいても意匠の新規性喪失の例外規定は存在し、ともに例外が認められる期間は6ヶ月間である。ただし日本においては、意匠登録を受ける権利を有する者（創作者または承継人）の行為に基づく公知行為自体は限定されていないのに対し、中国においては公知行為自体に限定が設けられている。