国別・地域別情報

アジア / 出願実務


特許、実用新案、意匠、商標など各知的財産権の出願手続の概要も含め、出願手続における留意事項を掲載しています。


その他

その他

2013.09.27
ラオスにおける産業財産権制度

ラオス産業財産権制度ミニガイド(2011年1月、発明推進協会)では、ラオスにおける特許、小特許、意匠、商標の各制度の概要について紹介されている。

2013.09.27
タイにおける産業財産権制度

タイ産業財産権制度ミニガイド(2012年12月、発明推進協会)では、タイにおける特許、意匠及び商標の各出願制度全般について紹介されている。タイはパリ条約、PCT、WIPO設立条約、世界貿易機構(WTO)に加盟している。タイ在外者は現地弁理士を代理人として選任し、出願はタイ語で行わなければならない。同ミニガイドでは、特許、小特許(実用新案)、意匠、商標の各出願に必要な書類、特許・登録要件、出願費用などについて説明し、出願手続きのフローチャートも記載されている。

2013.09.27
フィリピンにおける産業財産権制度

フィリピン産業財産権制度ミニガイド(2012年1月、発明推進協会)では、フィリピンにおける特許、意匠及び商標の各出願制度全般について紹介されている。フィリピンはパリ条約、PCT、WIPO設立条約、微生物の寄託の国際承認に関するブダペスト条約(Budapest treaty)、Trips協定に加盟している。フィリピン在外者は現地弁理士を代理人として選任し、出願は英語かフィリピン語で行わなければならない。同ミニガイドでは、特許、実用新案、意匠、商標の各出願に必要な書類、特許(登録)要件、出願費用などについて説明されている。

2013.09.27
インドネシアにおける産業財産権制度

インドネシア産業財産権制度ミニガイド(2012年1月、発明推進協会)では、インドネシアにおける特許、意匠及び商標の各出願制度全般について紹介されている。インドネシアはパリ条約、PCT、WIPO設立条約、Trips協定に加盟しており、インドネシア在外者は現地弁理士を代理人として選任し、出願はインドネシア語で行わなければならない。同ミニガイドでは、特許、意匠、商標の各出願に必要な書類、特許・登録要件、出願費用などについて、出願手続きのフローチャートを用いて説明されている。

2013.09.24
タイにおける知的財産制度

本コンテンツは、2008年3月時点の情報に基づくものである。 模倣対策マニュアル タイ編(2008年3月、日本貿易振興機構)では、タイにおける知的財産権制度全般について紹介されている。具体的には、特許、小特許、意匠、商標の出願制度及び権利侵害に対する救済をはじめ、著作権法、種苗法、半導体集積回路の回路図保護法、地理的表示保護法、営業秘密法、伝統医薬及び知識の保護と促進に関する法律、薬事法、ライセンス及び先使用等について説明されている。

2013.09.24
フィリピンにおける知的財産制度

本コンテンツは、2010年3月時点の情報に基づくものである。 模倣対策マニュアル フィリピン編(2010年3月、日本貿易振興機構)では、フィリピンにおける知的財産制度全般について紹介されている。具体的には、商標、特許、実用新案、意匠、著作権、営業秘密、植物品種、商号、地理的表示、半導体集積回路の保護制度を始め、知的財産権侵害に対する刑事訴訟、民事訴訟、行政措置、税関措置等について説明されている。

2013.09.24
インドネシアにおける知的財産制度

本コンテンツは、2008年3月時点の情報に基づくものである。 模倣対策マニュアル インドネシア編(2008年3月、日本貿易振興機構)では、インドネシアにおける知的財産制度全般について紹介されている。特許、意匠、商標については、出願手続きのフローチャート、出願登録件数の表やグラフを用いた詳細な説明がなされ、著作権、集積回路配置、植物新品種、不正競争防止法についての概要も述べられている。また、模倣品対応、刑事措置、民事対応、水際取締、ライセンシングなどにも言及されている。

2013.09.20
インドにおける知的財産制度

本コンテンツは、2008年3月時点の情報に基づくものである。 模倣対策マニュアル インド編(2008年3月、日本貿易振興機構)では、インドにおける知的財産権制度全般について紹介されている。具体的には、特許、意匠、商標、著作権の権利取得及び権利行使、更には、詐称通用、技術移転及びロイヤリティーの支払い並びに営業秘密等について、説明されている。

2013.09.20
ベトナムにおける半導体集積回路の回路配置の保護について

「模倣対策マニュアル ベトナム編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II章A.II第7節4は、ベトナムにおける半導体集積回路の回路配置の保護について解説している。ベトナム知的財産法によると、「半導体集積回路の回路配置」(以下「回路配置」という)とは、半導体集積回路における素子とその相互接続の立体的配置をいい、回路配置が独創性及び商業的新規性を有する場合に保護を受けることができる。半導体集積回路により実行される原則、プロセス等は回路配置として保護されない。回路配置の出願は方式審査のみで、実体審査はない。回路配置の保護期間は、出願日若しくは世界のいずれかの場所における回路配置の最初の商業利用の日から10年間、又は回路配置の創出日から15年間のいずれか早い方となる。登録の一連の流れをまとめた「回路配置登録手続フローチャート」が掲載されている(p.161)。

2013.09.20
ベトナムにおける著作権及び著作隣接権の保護について

「模倣対策マニュアル ベトナム編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II章A.II第4節は、ベトナムの著作権及び著作隣接権の保護について解説している。著作権の保護要件として独創性と有形の表現媒体への固定が求められ、固定の時点から著作権が自動的に発生する。ベトナムの著作権は人的権利(著作者人格権)と財産的権利(経済権)で構成される。著作権の保護期間は最初の公開から75年であるが、完成日から25年以内に公開されなかった映画著作物、写真著作物及び応用芸術著作物に関しては、著作物が固定された日から100年である。また、著作隣接権として、実演家の権利、ディスク等の製作者の権利、テレビ等の放送事業者の権利が認められている。なお、著作権登録制度があり、著作権登録証書は著作権の有効性及び記載された事実の一応の証拠になる。