アジア / 出願実務
特許、実用新案、意匠、商標など各知的財産権の出願手続の概要も含め、出願手続における留意事項を掲載しています。
意匠
意匠
- 2014.06.10
- ベトナムにおける意匠の新規性判断と新規性喪失の例外規定
ベトナムでは、出願した意匠が、ベトナム国内外を問わず、出願日（優先日がある場合は優先日）前の使用又は書面等により開示されている意匠と著しく異ならない場合は、新規性が否定される。但し、所定の要件を満たす場合は新規性喪失の例外規定の適用を受けることができる。
- 2014.06.06
- 台湾における先行登録権利の調査と権利侵害の回避
「台湾模倣対策マニュアル」（2013年3月、交流協会）一、（二）では、台湾における先行登録権利の調査と権利侵害の回避について説明されている。具体的には、専利権（特許権、実用新案権及び意匠権）と商標権に分けて、先行登録権利検索データベースの検索方法について説明されている。また、権利侵害回避の対応策として、譲渡やライセンスの交渉、異議申立、無効・取消審判請求等の制度や留意点について、フローチャートを用いて説明されている。
- 2014.05.30
- ベトナムにおける意匠出願の公開
ベトナムでは、日本とは異なり、意匠にも出願公開制度がある。そのため、方式要件を満たしていれば、実体審査前であっても、出願から2ヵ月後に公開される。この制度があることに伴って、出願公開後の意見の提示や仮保護の制度も存在する。
- 2014.05.27
- 中国における先使用権制度
「先使用権制度に関する調査研究報告書」（2011年3月、日本国際知的財産保護協会）III．１「１」では、中国における先使用権制度について紹介されている。中国専利法（発明、実用新案、意匠）は、特許権侵害との主張に対する抗弁として先使用権を認めている。この先使用権の成立要件、先使用権者が実施できる範囲、再実施許諾の可否及び作成日付等を証明する公証制度等について、Q&Aの形式で解説されている。
- 2014.05.07
- シンガポールにおいて意匠出願人となる者
シンガポールでは、原則として、意匠登録を受ける権利は創作者に原始的に帰属するが、雇用期間中に従業者により創作された場合等は、創作者に帰属しない旨が定められている。
- 2014.05.07
- マレーシアにおける複数意匠の一括出願
マレーシアにおいて、公序良俗に反する意匠や物品の形状若しくは輪郭の特徴であって、物品が果たすべき機能によってのみ決定づけられる意匠は登録が認められないが、同一の出願で複数の意匠を対象にできる点に特徴がある。審査は方式審査のみである。
- 2014.03.21
- 台湾における専利法の紹介
「台湾模倣対策マニュアル」（2013年3月、交流協会）一、（一）1.では、台湾専利法に関し、特許、実用新案及び意匠の各保護対象、保護を受けるための要件、出願手続及び手数料等について、表やフローチャート等を用いて詳細に説明されている。また、六には、手数料表や委任状フォーム等の添付資料も掲載されている。
- 2014.02.19
- 韓国におけるデザイン保護制度
（本記事は、2020/2/13に更新しています。） URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18280/ 「模倣対策マニュアル 韓国編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第４章では、韓国のデザイン保護制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持、デザイン無審査登録異議申立、デザイン審判手続等について紹介されている。韓国のデザイン登録出願は物品により、実体審査を経ないで登録になるものと、実体審査を経て登録になるものがある。「デジタル社会におけるデザイン保護に即した意匠制度の在り方に関する調査研究」（2012年2月、知的財産研究所）II．２．（３）では、表示器等の物品に表示された、物品の部分としての画面デザインの保護について紹介されている。
- 2014.02.18
- 台湾進出における知的財産関連の留意事項
「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」（2013年3月、交流協会）Ｂ．第三章第一節では、台湾進出おける知的財産関連の留意事項について説明されている。具体的には、特許、実用新案、意匠、商標の権利化の具体的な費用の額を示すと共に、出願手続のフローチャートを用いて知的財産権取得の際の検討事項を説明し、ライセンス契約時の留意点やロイヤリティ等にも説明している。
- 2014.02.12
- 韓国での権利取得に関しての相談サンプル
「模倣対策マニュアル 韓国編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第I編第３章≪権利の取得≫では、特許権、商標権、意匠権、ドメインネームなどの権利取得に関して、Q&A形式で紹介されている。具体的には、模倣品対策として取得すべき権利、特許、商標及び意匠の権利取得、早期の権利化（優先審査制度）、ドメインネーム、著作権等に関して解説されている。