アジア / 出願実務
特許、実用新案、意匠、商標など各知的財産権の出願手続の概要も含め、出願手続における留意事項を掲載しています。
特許・実用新案
特許・実用新案
- 2025.01.14
- 日本とインドにおける特許出願書類の比較
主に日本で出願された特許出願を優先権の基礎としてインドに特許出願する際に、必要となる出願書類についてまとめた。日本とインドにおける特許出願について、出願書類と手続言語についての規定および優先権主張に関する要件を比較した。
- 2025.01.07
- 日本と中国における特許出願書類の比較
主に日本で出願された特許出願を優先権の基礎として中国に特許出願する際に、必要となる出願書類についてまとめた。日本と中国における特許出願について、出願書類と手続言語についての規定および優先権主張に関する要件を比較した。
- 2024.12.26
- 中国における外国優先権を主張する権利の回復請求
外国で出願した発明等について、外国での最初の出願日から起算される所定期間内に中国で特許出願または実用新案出願をする場合、その外国が中国と締結した協定または共同で加盟している国際条約に、もしくは優先権を相互に認める原則に準拠して、出願人は優先権（外国優先権）を享受することができる。優先権主張は、専利法第29条、第30条、専利法実施細則第34条から第37条、専利審査指南の関連規定、およびパリ条約の関連規定に合致していなければならず、審査の結果、規定に合致していないと判断された場合には優先権を主張していないものとみなされる。しかし、優先権を主張していないとみなされた場合でも、所定の要件を満たせば、優先権主張の回復を請求することができる。本稿は、2023年の専利法実施細則の改正によって、新たに設けられた優先権主張の回復に関する規定を踏まえて、特許および実用新案について解説する。
意匠
- 2025.01.14
- 日本とインドネシアにおける意匠権の権利期間および維持に関する比較
日本における意匠権の権利期間は、出願日から最長25年をもって終了する。一方、インドネシアにおける意匠権の権利期間は、出願日から最長10年をもって終了する。
- 2025.01.07
- 中国における画像意匠の保護制度
中国における画像意匠の保護制度について、平面パターンとグラフィカルユーザインターフェース（GUI）に分けて解説する。平面パターンは中国専利法第2条の規定に基づき意匠専利として出願できる。また、2024年1月20日に施行された、改正「専利審査指南」（2023）において、GUIの審査内容が第1部分第3章第4.5節に記載されており、新たに追加された部分意匠制度の内容（審査指南第1部分第3章4.4）と合わせて、GUIに係る意匠の審査ルールが整備された。
- 2024.12.26
- 中国における意匠の優先権主張について
中国における意匠の優先権主張について、2021年6月1日に施行された第4回改正専利法の第29条第2項に規定が追加され、国内優先権の主張が可能となった。具体的には、「出願人は発明または実用新案を中国で最初に専利出願した日から12か月以内に、または意匠を中国で最初に意匠出願した日から6か月以内に国務院専利行政部門に同一の主題について専利出願するときは、優先権を享受することができる。」と定められている。中国では、第4次改正で新たな専利法が施行され、2024年1月20日より同専利法に適合した新たな専利法実施細則（以下「実施細則」という。）および専利審査指南（以下「審査指南」という。）が施行された。本稿では、これら最新の専利法、実施細則および審査指南に基づき、中国意匠出願の優先権主張に関する制度および手続を説明する。
商標
- 2024.12.24
- インドにおける「商標の使用」と使用証拠
インドでは、商標法第2条(2)(c)において、「商標の使用」が定義されており、商品または役務上での物理的な使用に加えて、商品が市場に存在することを前提とした請求書、カタログおよび商品資料等における使用も、「商標の使用」とみなされる。なお、広告の中での使用が「商標の使用」とみなされるには、少なくとも販売の申出が行われていることを条件とする。「商標の使用」に関する使用証拠は、一般的に、権限を有する者が署名する宣誓供述書に使用証拠を添付して提出する。商標の識別性が低くなるほど、強力な使用証拠が求められる。商標規則25において、使用中の商標の出願時には「商標の使用」について所定の陳述が求められている。
- 2024.12.19
- 中国における商標の調べ方—中国商標網ウェブサイト
中国の商標情報を取得するのに有用な検索サービスとして、国家知識産権局商標局（以下、「中国商標局」という）が提供するウェブサイト「中国商標網」がある。誰でも無料でアクセス可能であり、(1) 類似商標の検索、(2) 商標の総合検索、(3) 商標の経過情報検索、(4) 商標公告の検索、(5) 商品／役務表示の検索ができる。本稿では、これを利用した中国商標の検索方法を紹介する。 （＊なお、中国商標網は、アクセスが不安定なため、つながりにくいことがある。また、初めて利用する際には、ユーザー登録が必要となる。）
- 2024.10.31
- 韓国における商標出願制度概要
韓国の商標出願手続は、主に出願、方式審査、実体審査、出願公告、登録査定の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に継続して更新可能である。
その他
- 2023.08.24
- 台湾における知的財産保護マニュアル
「台湾知的財産保護マニュアル（旧 台湾模倣対策マニュアル）」（2022年3月、日本台湾交流協会）では、台湾の知的財産制度および模倣対策について紹介している。
- 2023.08.24
- 台湾における知財活動に有用なツール・支援策
「台湾における知財活動に有用なツール・支援策」（2022年3月、日本台湾交流協会）では、台湾において知的財産支援に携わっている機関の概要を紹介している。また、同機関が行っている知的財産支援の形式および内容を解説している。
- 2022.10.06
- マレーシアにおける商標の審判等手続に関する調査
「マレーシアにおける知的財産の審判等手続に関する調査」（2021年3月、日本貿易振興機構(JETRO)シンガポール事務所知的財産部）では、マレーシアにおける特許、意匠、商標の出願および審判等の手続について紹介している。本稿では、審理機関と紛争解決手段、商標に関する出願手続、審査概要、異議申立、無効または取消し手続ならびに統計情報および判例を紹介している。