アジア / 出願実務
中国における画像意匠の保護制度
2025年01月07日
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中国における画像意匠の保護制度について、平面パターンとグラフィカルユーザインターフェース（GUI）に分けて解説する。平面パターンは中国専利法第2条の規定に基づき意匠専利として出願できる。また、2024年1月20日に施行された、改正「専利審査指南」（2023）において、GUIの審査内容が第1部分第3章第4.5節に記載されており、新たに追加された部分意匠制度の内容（審査指南第1部分第3章4.4）と合わせて、GUIに係る意匠の審査ルールが整備された。■詳細及び留意点
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■本文書の作成者
北京銀龍知識産権代理有限公司 機械意匠部 意匠グループリーダー 周 恺■協力
日本国際知的財産保護協会■本文書の作成時期
2024.9.18