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シンガポールにおける特許出願手続

2013年09月06日

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■概要
「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第1章1.1.3、1.1.4では、特許出願手続及び審査、申請料、更新等について解説されている。
■詳細及び留意点

【詳細】

 模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)(2012年3月、日本貿易振興機構)第1章1.1.3、1.1.4

 

(目次)

第1章 シンガポールにおける知的財産権の取得

1.1 特許権の確保

1.1.3 特許出願手続 p.7

    概観 p.7

    シンガポール国外での特許出願―秘密取扱許可(セキュリティークリアラン    ス)の取得 p.7

    出願 p.8

    シンガポール国内特許申請手続 p.8

    PCTでのシンガポール国内移行特許出願 p.10

1.1.4 シンガポールにおける調査および審査 p.12

    オプションA 独立調査および/または審査 p.12

    オプションB 対応出願(corresponding application)の調査報告書または     国際調査報告書に基づく審査 p.12

    オプションC 対応出願の特許査定・付与への依拠 p.13

    オプションD 特許性に関する国際予備報告書(IPRP)への依拠 p.14

    シンガポール国内特許申請における調査・審査に関するタイムライン p.15

    PCT国内移行段階出願における調査・審査に関するタイムライン p.16

    補足情報 p.17

    特許審査ハイウェイ(PPH) p. 17

    シンガポール出願結果の対応する日本出願への利用 p.17

    日本出願結果の対応するシンガポール出願への利用 p.17

    特許付与 p.18

    更新 p.19

    回復手続 p.19

    特許回復の効果 p.19

    特許期間の延長 p.20

    *不当な遅延の意味 p.21

    対応する出願における不当な遅延 p.21

    販売承認までの過程において時間を要したことによる薬品特許活用機会の   不当な短縮 p.21

    特許付与後の調査および審査 p.22

    特許付与後の補正 p.22

■ソース
・模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)(2012年3月、日本貿易振興機構)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/jpowp/wp-content/uploads/2013/09/1a888e0d4e8da846dd617f27ccbf9614.pdf
■本文書の作成者
一般財団法人比較法研究センター 清水利明
■本文書の作成時期
2013.07.19
■関連キーワード
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