台湾意匠審査基準の改訂ポイント（後編）

■概要

台湾知的財産局は、科学技術の進歩を踏まえ、デジタルイノベーション経済の発展を推進するとともに、近年の台湾の意匠（中国語「設計専利」）制度を改めて見直し、2020年9月29日に「専利審査基準-第三篇設計専利実体審査」の一部の改訂案を公告し、同年11月1日より施行した。本稿では前編、後編に分けで審査基準の改正ポイントについて解説する。
後編では、明細書と図面の開示要件を緩和、分割出願に対する制限の緩和について説明する。
　前編：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/21973/

■詳細及び留意点

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■本文書の作成者

聖島国際特許法律事務所　弁理士　洪　雅芬

■協力

日本国際知的財産保護協会

■本文書の作成時期

2021.10.26

■関連キーワード

分割出願   専利   審査基準   部分意匠   図面   実施可能要件   実務者向け   開示要件   TW-co-2300   TW:台湾   TW-co-2900