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台湾意匠審査基準の改訂ポイント(前編)

2022年01月25日

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■概要
台湾知的財産局は、科学技術の進歩を踏まえ、デジタルイノベーション経済の発展を推進するとともに、近年の台湾の意匠(中国語(台湾語)「設計専利」)制度を改めて見直し、2020年9月29日に「専利審査基準-第三篇設計専利実体審査」の一部の改訂案を公告し、同年11月1日より施行した。本稿では前編、後編に分けで審査基準の改正ポイントについて解説する。
前編では、画像デザインに関する基準の改訂、建築物と室内デザインを意匠登録の保護対象とすることの明文化について説明する。
 後編:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/21976/
■詳細及び留意点

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■本文書の作成者
聖島国際特許法律事務所 弁理士 洪 雅芬
■協力
日本国際知的財産保護協会
■本文書の作成時期
2021.10.26
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