- 新興国等知財情報データバンク 公式サイト - https://www.globalipdb.inpit.go.jp -

エジプトにおける知的財産権関連制度の概要

2016年03月08日

  • アフリカ
  • 出願実務
  • 審判・訴訟実務
  • 特許・実用新案
  • 意匠
  • 商標

印刷する

■概要
「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、実用新案、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。
■詳細及び留意点

【詳細】

 アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(2)

 

(目次)

3 各調査対象国の知的財産権関連制度

 3-2 各主要対象国の知的財産権関連制度の概要

  (2) エジプト P.22

(添付資料1) アフリカ諸国の産業財産権法一覧

(添付資料2) 各調査対象国の知的財産関連制度(国内法制及び条約)

(添付資料3) 主要対象国の知的財産関連制度(国内法制及び条約)

(添付資料4) 主要対象国の知財庁等のURL等

■ソース
アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)
http://www.globalipdb.inpit.go.jp/jpowp/wp-content/uploads/2015/11/196859e4aba06607a24fad1d541aeb6a.pdf
■本文書の作成者
日本技術貿易株式会社
■本文書の作成時期
2015.11.17
■関連キーワード
EG-am-2001   EG-am-2200   EG-am-2400   EG-am-3300   EG-am-3400   EG-bm-2001   EG-bm-3300   EG-bm-3400   EG-cm-2001   EG-cm-2200   EG-cm-2400   EG-dm-2001   EG-dm-2200   EG-dm-2400   EG-dm-3300   EG-dm-3400   EG:エジプト   入門者向け   公告   出願   出願公開   取消   商標   存続期間   実体審査   実用新案   審査   意匠   新規性   更新   無効   特許   特許要件   産業上利用可能   異議申立   登録要件   知的財産権関連制度   補正  

Copyright National center for industrial property information and training (INPIT). All rights reserved.