ホーム サイト内検索

■ 全1件中、1件目を表示しています。

  • 2022.01.25

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 意匠

    台湾意匠審査基準の改訂ポイント(後編)

    台湾知的財産局は、科学技術の進歩を踏まえ、デジタルイノベーション経済の発展を推進するとともに、近年の台湾の意匠(中国語「設計専利」)制度を改めて見直し、2020年9月29日に「専利審査基準-第三篇設計専利実体審査」の一部の改訂案を公告し、同年11月1日より施行した。本稿では前編、後編に分けで審査基準の改正ポイントについて解説する。
    後編では、明細書と図面の開示要件を緩和、分割出願に対する制限の緩和について説明する。
     前編:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/21973/