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■ 全12件中、110件目を表示しています。

  • 2023.08.24

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 制度動向
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    • 商標
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    台湾における知的財産保護マニュアル

    「台湾知的財産保護マニュアル(旧 台湾模倣対策マニュアル)」(2022年3月、日本台湾交流協会)では、台湾の知的財産制度および模倣対策について紹介している。

  • 2022.11.24

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    台湾における意匠出願制度概要

    意匠(中国語「設計專利」)出願手続は、一般的に、方式審査、実体審査、登録査定、公告の順で進められる。

  • 2021.10.07

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    台湾における修理部品・消耗品に関する知財保護戦略

    「台湾における修理部品・消耗品に関する知財保護戦略」(2020年3月、日本台湾交流協会)では、台湾の半導体、自動車、民生品、医療機器業界における修理部品および消耗品に関する知財保護戦略を紹介している。具体的には、修理品・消耗品に関連する法令や判例を紹介している。また、権利侵害を受けた場合の救済手段や業界別の課題に対する戦略を紹介している。

  • 2021.09.21

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    台湾における意匠保護の戦略

    「台湾模倣対策マニュアル(台湾における意匠保護の戦略)」(2019年3月、日本台湾交流協会)では、台湾における意匠の保護(出願から権利化)から活用について、より実務的な視点で調査した内容を紹介している。また、2013年に導入された部分意匠、画像意匠、関連意匠および組物意匠等の新しい意匠制度を反映させ、商標の保護の可能性を含め権利化の実務や警告を受領した場合や模倣品の対処法についても解説している。

  • 2020.08.11

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    台湾における専利法の一部改正

    台湾専利法(日本の特許法、実用新案法、意匠法に相当)は、1949年に施行されて以来、業界の要求、国際規範との調和などに応じて、13回の改正がなされた。
    2019年11月1日に最新の改正法が施行された。主な改正点5点について旧法(2017年1月18日に改正された専利法)と比較し解説する。

  • 2020.08.11

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    台湾における画像意匠の保護制度

    台湾における画像意匠の制度は、2013年1月1日に施行された改正専利法(特許法、実用新案法および意匠法を含む)で初めて導入された。同法第121条2項の「物品に応用されるコンピューターアイコン(Icons)およびグラフィカルユーザインターフェイス(Graphical User Interface:GUI)も本法により意匠登録出願をすることができる」との規定により、電子機器やコンピューター、通信機器などの使用と操作に用いられるコンピューターアイコンまたはグラフィカルユーザインターフェイスの意匠の登録出願、すなわち「画像意匠登録出願」をすることが可能となった。

  • 2020.07.28

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    台湾における専利法に基づく優先権主張の手続(国際優先権および国内優先権)

    台湾において専利法(日本における特許法、実用新案法および意匠法に相当)に基づき優先権を主張しようとする者は、出願と同時に、優先権主張の申告をし、優先権の基礎となる出願を受理した国、出願日および出願番号を願書に記載しなければならない。また、最先の優先日から16か月以内(意匠の場合は10か月以内)に優先権証明書を提出しなければならない。願書において申告をせず、または期限内に優先権証明書を提出しなかった場合は、優先権を主張しなかったものと見なされる。

  • 2018.10.11

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    台湾における特許年金制度の概要

    台湾における専利権(特許権、実用新案権、意匠権)のうち、特許権の権利期間は、出願日から20年である。年金は出願が特許査定を受けてから発生し、審査に係属している間は発生しない。出願が特許査定を受けると、特許を登録するための手続として初回の年金の納付が求められる。2回目以降の年金納付期限日の起算日は公告応当日である。実用新案権の権利期間は出願日から10年である。権利期間の延長制度は存在しない。意匠権の権利期間は出願日から12年である。

  • 2015.02.09

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    台湾における知的財産権の概要

    「台湾における先使用権と公証制度 中国出願との差異を事例としての台湾出願のポイント」(2014年3月、公益財団法人交流協会)A.第一章では、台湾における知的財産権の概要について、知的財産権の概要と制限、専利権の概要、専利法上の先使用権、商標権の概要、商標法上の先使用権、商標法の先使用権事例の分析、商標法および分析事例から見た商標の先使用権に関する留意事項が説明されている。

  • 2014.09.19

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    • 意匠

    台湾における意匠の表現に関する制度・運用

    「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部では、台湾における意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、台湾の意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠の表現例等について、海外アンケートと海外ヒアリングの結果と共に紹介されている。