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■ 全2件中、12件目を表示しています。

  • 2020.05.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    日本とシンガポールの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)の応答期間が設定されている日本とは異なり、シンガポールにおいては、審査請求のオプションによって応答期間が異なり、シンガポール知的財産庁(IPOS)に審査を請求するオプションの場合は5か月、シンガポール知的財産庁に補充審査を請求するオプションの場合は3か月である。なお、2017年10月30日付けで改正された特許法により、2020年1月1日以降の出願から補充審査は利用できなくなる。また、日本と異なり、シンガポールにおいては応答期間の延長ができない。

  • 2019.11.07

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    日本とシンガポールの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)の応答期間が設定されている日本とは異なり、シンガポールにおいては、審査請求のオプションによって応答期間が異なり、シンガポール知的財産庁(IPOS)に審査を請求するオプションの場合は5か月、シンガポール知的財産庁に補充審査を請求するオプションの場合は3か月である。また、日本と異なり、シンガポールにおいては応答期間の延長ができない。