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2019.10.17
シンガポールの庁指令に対する応答期間（2022年5月24日訂正：
本記事のソース「Examination Guidelines for Patent Applications at IPOS」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）シンガポールにおける特許出願の調査および審査の流れは、パリ条約に基づく出願または特許協力条約（PCT）に基づく国際出願の国内移行出願のいずれを選択するかにより大きく異なる。また、発行される庁指令および通知は、出願形式や、選択した調査および審査の種類により異なる。庁指令または通知に対する応答期間は、庁から発行される書面に記載されている。庁書面によっては、応答期間の延長が認められない場合もあり、そのような応答期間については、特に注意を払う必要がある。
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2019.10.17
シンガポールにおける特許出願の補正の制限（2022年5月27日訂正：
本記事のソース「Examination Guidelines for Patent Applications at IPOS」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）シンガポール特許出願およびシンガポール特許に対する補正の時期的要件および実体的要件を説明する。特に、特許付与前と特許付与後における、補正の制限の違いを示す。その他、新規事項の追加に関する判断基準、補正に対する異議、等についても説明する。
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2016.06.07
シンガポールの庁指令に対する応答期間（本記事は、2019/10/17に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17826/シンガポールにおける特許出願の調査および審査の流れは、パリ条約に基づく出願または特許協力条約（PCT）に基づく国際出願の国内移行出願のいずれを選択するかにより大きく異なる。また、発行される庁指令および通知は、出願形式および／または選択した調査および審査の種類により異なる。庁指令または通知に対する応答期間は、庁から発行される書面に記載されている。庁書面によっては、応答期間の延長が認められない場合もあり、そのような応答期間ついては、特に注意を払う必要がある。
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2016.06.01
シンガポールにおける特許出願の補正の制限（本記事は、2019/10/17に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17824/シンガポール特許出願およびシンガポール特許に対する補正の時期的要件および実体的要件を説明する。特に、特許付与前と特許付与後における、補正の制限の違いを示す。その他、新規事項の追加に関する判断基準、補正に対する異議、等についても説明する。
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2016.02.09
シンガポールにおける特許審査基準関連資料「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」（平成27年3月、日本国際知的財産保護協会）第Ⅲ部1では、シンガポールにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。
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2013.09.06
シンガポールにおける特許出願手続「模倣対策マニュアル シンガポール編（簡易版）」（2012年3月、日本貿易振興機構）第１章1.1.3、1.1.4では、特許出願手続及び審査、申請料、更新等について解説されている。