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2019.07.30
シンガポールにおける意匠登録出願制度概要シンガポールにおける主な意匠登録出願手続は、出願、方式審査、登録証の発行および意匠登録の公告の手順で進められる。意匠登録出願手続では、実体審査が行われず、方式審査のみが行われる。意匠権の存続期間は、登録日から5年であるが、2回まで存続期間を5年間延長でき、最長で登録日から15年である。
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2019.07.30
シンガポールにおける商標登録出願制度概要シンガポールにおける主な商標登録出願手続は、出願、方式審査、実体審査、商標登録出願の公告、登録証の発行の手順で進められる。商標登録出願の公告日から2月の期間内に異議申立てをすることができ、異議申立てがなかった場合または異議申立てが却下された場合に、登録証が発行される。商標権の存続期間は、登録日から10年であり、更新により10年間延長できる。
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2019.07.25
シンガポールにおける特許出願制度概要注目コンテンツシンガポールにおける主な特許出願手続は、出願、出願日の通知、方式審査、出願公開、調査および審査、特許付与の通知、特許付与、特許証の発行および公告の手順で進められる。調査および審査では、シンガポール知的財産庁が調査および実体審査を行うオプション、対応外国出願の調査結果を用いて実体審査を行うオプション、対応外国出願の調査結果および審査結果を用いて補充審査を行うオプションが選択可能である。特許権の存続期間は、出願日から20年である。
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2019.06.11
シンガポールの法令へのアクセス方法―AGCウェブサイト注目コンテンツシンガポールにおける法令は、シンガポール司法長官室（Attorney General’s Chambers: AGC）のウェブサイトにて検索閲覧が可能である。サイトは英語で運営されている。
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2019.04.02
シンガポールの意匠関連の法律、規則等シンガポールの意匠関連の法律、規則等を示す。
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2019.04.02
シンガポールの商標関連の法律、規則、審査基準等注目コンテンツシンガポールの商標関連の法律、規則、審査基準等を示す。
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2019.03.19
シンガポールにおけるスタートアップおよび知的財産に関する政策および支援注目コンテンツ「スタートアップが直面する知的財産の課題および支援策の在り方に関する調査研究」平成30年3月、三菱UFJリサーチ＆コンサルティング）資料V.2では、シンガポールにおける産業政策の概況、スタートアップ政策、知的財産政策について紹介している。また、スタートアップ支援や知的財産支援に関連する大学、ベンチャーキャピタル、および公的技術移転機関として、南洋理工大学（NTUitive）、Rebright PartnersおよびETPL（Exploit Technologies Pte Ltd）について紹介している。
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2019.02.21
シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等注目コンテンツシンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等を示す。
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2019.02.05
シンガポールにおける悪意（Bad-faith）の商標出願に関する法制度、運用および判例注目コンテンツ「悪意（Bad-faith）の商標出願に関する調査研究報告書」（平成30年3月、知的財産研究教育財団 知的財産研究所）II.4.(3)では、シンガポールにおける悪意の商標出願に関する法制度及び運用に関する情報として、悪意の商標出願に関する定義の有無や悪意であるとの主張に関する規定を紹介している。また、資料2では、シンガポールにおける悪意の商標出願に関する判例を紹介している。
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2019.01.15
シンガポールにおけるコンピュータソフトウエア関連発明等の特許保護の現状注目コンテンツ「各国における近年の判例等を踏まえたコンピュータソフトウエア関連発明等の特許保護の現状に関する調査研究報告書」（平成29年11月、日本国際知的財産保護協会）第2部Nでは、シンガポールにおけるコンピュータソフトウエア(CS)やビジネスモデル（BM）関連発明等の特許保護の現状について紹介している。具体的には、法律や審査基準に基づく、これらの発明に特有の要件を中心に紹介している。