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■ 全132件中、110件目を表示しています。

  • 2019.10.15

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおけるパリ条約ルートおよびPCTルートの特許出願の差異

    シンガポールにおいては、2014年2月14日に施行された改正特許法により、パリ条約ルートおよびPCTルートの特許出願審査手続きの大部分が統一された。審査請求に関する重要な期限は両ルートとも同一である。しかしならが、両ルートの手続きには、依然として留意すべき差異が存在する。また、2017年10月30日付けで改正された特許法により、2020年1月1日以降の出願では、補充審査が利用できなくなることにも留意する必要がある。
    なお詳細は以下のサイトを参照されたい。
    https://www.jpo.go.jp/news/kokusai/sg/foreign_route.html

  • 2019.10.15

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許法改正の概要(2014年2月14日施行、2017年10月30日一部改正)

    シンガポールでは、改正特許法が2012年7月10日に成立し、2014年2月14日に施行された。同改正により、自己査定型の特許制度(self-assessment patent system)から肯定的結果に基づく付与制度(positive grant system)へシフトし、シンガポール知的財産局が発行する審査内容に関する報告書が肯定的な出願のみが特許を付与されることになった。その後、特許法および規則が2017年10月30日に改正(補充審査廃止)され、2020年1月1日以降の出願から補充審査の制度は利用できなくなる。

  • 2019.10.15

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願制度

    本稿ではシンガポールにおける特許出願制度について説明する。特に、シンガポールには2014年2月14日に施行された改正特許法において導入された独自の審査オプションが存在する。これらのオプションを踏まえた上で出願から登録までの流れを説明する。なお、補充審査に関連するオプションは、2020年1月1日以降の出願から廃止される。詳細は以下のサイトを参照されたい。
    https://www.jpo.go.jp/news/kokusai/sg/foreign_route.html

  • 2019.10.10

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    日本とシンガポールにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較

    シンガポールにおける意匠出願の新規性喪失の例外規定の適用要件は、意匠法第8条及び第8A条に規定されている。2017年改正意匠法第6条の施行日(2017年10月30日)以降に生じた開示については、公開から12か月以内(従来は6か月)に出願することを条件として、新規性喪失の例外を主張することが可能である。日本における意匠出願の新規性喪失の例外期間は平成30年改正意匠法により延長され、公開から1年以内(従来は6か月)となった。

  • 2019.10.10

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    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールにおける特許分割出願に関する時期的要件の比較

    日本およびシンガポールにおいては、それぞれ所定の期間、特許出願について分割出願を行うことができる。シンガポールにおいては、(i)原出願の登録料の納付、(ii)原出願の拒絶、放棄または取下げのいずれかの前まで分割出願を行うことができる。

  • 2019.09.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    シンガポールにおける意匠の公開延期請求について

    シンガポールにおいては、意匠は、登録意匠法または著作権法によって保護される。意匠を登録意匠法により保護するために出願すると、その意匠は登録により公開されるが、出願日から18か月間にわたって登録意匠の公開を延期するよう請求することが可能である。また、意匠を美術著作物として著作権法で保護する場合、当該意匠が産業的な利用をされない限り、これを秘密に保つことができる。

  • 2019.09.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許新規性喪失の例外注目コンテンツ

    シンガポールにおいて発明が新規とみなされるのは、絶対的新規性要件を満たしている場合だけである。ただし、シンガポールの法律が規定する猶予期間(グレースピリオド、日本と同様12か月)内であれば、出願の提出日より前の一般開示は、発明の新規性評価の際に無視される。2017年10月の改正により、発明者により行われた開示、または発明者から直接的または間接的に発明の主題を知った者が行うあらゆる開示を包括的に対象とすべく、発明の新規性喪失の例外規定の適用範囲が拡大された。シンガポール知的財産庁(IPOS)は、発明の新規性喪失の例外規定の拡大は、発明が出願に先立って公知となった場合の限定的なセーフティネットを提供するものであり、各国で同様の例外規定があるわけではないため、出願前に発明を公知とすることのないよう、出願人に注意を呼び掛けている。

  • 2019.07.30

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    シンガポールにおける意匠登録出願制度概要

    シンガポールにおける主な意匠登録出願手続は、出願、方式審査、登録証の発行および意匠登録の公告の手順で進められる。意匠登録出願手続では、実体審査が行われず、方式審査のみが行われる。意匠権の存続期間は、登録日から5年であるが、2回まで存続期間を5年間延長でき、最長で登録日から15年である。

  • 2019.07.30

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標

    シンガポールにおける商標登録出願制度概要注目コンテンツ

    シンガポールにおける主な商標登録出願手続は、出願、方式審査、実体審査、商標登録出願の公告、登録証の発行の手順で進められる。商標登録出願の公告日から2月の期間内に異議申立てをすることができ、異議申立てがなかった場合または異議申立てが却下された場合に、登録証が発行される。商標権の存続期間は、登録日から10年であり、更新により10年間延長できる。

  • 2019.07.25

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願制度概要注目コンテンツ

    シンガポールにおける主な特許出願手続は、出願、出願日の通知、方式審査、出願公開、調査および審査、特許付与の通知、特許付与、特許証の発行および公告の手順で進められる。調査および審査では、シンガポール知的財産庁が調査および実体審査を行うオプション、対応外国出願の調査結果を用いて実体審査を行うオプション、対応外国出願の調査結果および審査結果を用いて補充審査を行うオプションが選択可能である。特許権の存続期間は、出願日から20年である。