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■ 全76件中、110件目を表示しています。

  • 2024.10.15

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    中国におけるパリルート出願とPCTルート出願の手続の相違点

    外国出願人が中国に特許または実用新案の出願を行う際、パリ優先権を主張して出願する方法(以下「パリルート出願」という。)と、PCT出願の中国国内段階への移行によって中国に出願する方法(以下「PCTルート出願」という。)がある。パリルート出願とPCTルート出願の手続上の相違点は、以下のとおりである。

  • 2024.05.07

    • 欧州
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ロシアにおける特許制度のまとめ-手続編

    ロシアでは、発明、実用新案、工業意匠について権利が付与される。特許出願は、特許を受ける権利を有する者がロシア連邦知的財産・特許・商標庁(ロシア特許庁、ROSPATENT)に提出する。特許を受ける権利を有する者は、発明者、使用者またはこれらの権利承継者である。外国人は、ロシア特許庁に対応するために弁理士を利用しなければならず、外国出願人から弁理士への委任状が必要である。

  • 2023.12.26

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    台湾における特許の早期権利化の方法

    台湾において、発明特許出願を早期に審査する二つの方法である、「発明特許早期審査の運用方案(AEP)」と「台日特許審査ハイウェイ(PPH MOTTAINAI)」について、両制度の要件や事由、その効果を紹介する。

  • 2023.03.09

    • 中南米
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    メキシコにおける特許の補正の制限

    メキシコ特許および特許出願の補正は、出願人が自発的に、またはメキシコ産業財産庁(Instituto Mexicano de la Propiedad Industrial:IMPI)からの庁指令に応じて行うことができる手続である。補正は、手続の時期によって、PCT国内移行の提出時の内容変更、特許付与前および特許付与後補正に分けられ、適用される内容的な制限もそれぞれ異なる。

  • 2023.02.14

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許審査迅速化の方法

    シンガポール特許出願、またはシンガポールに国内移行したPCT出願において、特許を早期に取得するためにはいくつかの方法がある。これらの方法について2014年2月14日に施行された改正特許法により導入された2種類の審査オプションに基づき説明する(補充審査請求については、2020年1月1日以降利用できなくなった)。
    また、2020年5月1日に開始されたSG IP Fast Trackについても説明する。

  • 2022.11.29

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    韓国における特許・実用新案の審査請求の留意点

    (2024年6月13日訂正:
    本記事のソース「韓国特許法」、「特許法施行規則」、「特許法施行令」、「特許・実用新案審査基準」および「韓国実用新案法」のURLを修正いたしました。)

    韓国における特許(2017年3月1日から)および実用新案の審査請求期間は出願日から3年以内であり、その期間内に審査請求をしなければ出願は取下げられたものとみなされる。なお、分割出願、分離出願および変更出願は、その出願日から30日以内に審査請求することができる。また、優先審査を申請することができ、2021年6月から優先審査の対象となる出願が追加された。

  • 2022.11.22

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    中国における早期審査のための「特許審査ハイウェイ(PPH)」活用

    中国における特許出願の早期審査を請求する方法として、「特許審査ハイウェイ(Patent Prosecution Highway:PPH)」の活用が挙げられる。日本との間では、通常型PPH、PCT-PPH、PPH MOTTAINAIの全ての利用が可能である。また、中国は、欧州特許庁、日本特許庁、韓国特許庁、中国国家知識産権局および米国特許商標庁の5大特許庁(IP5)による特許審査ハイウェイ試行プログラム(IP5 PPH)にも合意しているため、ガイドラインに基づきPPH申請(早期審査)を請求することができる。

  • 2022.10.13

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    インドにおける特許、意匠、商標の実務について

    「インドにおける特許・意匠・商標に係る実務実態調査報告書」(2022年5月、日本貿易振興機構 ニューデリー事務所(知的財産権部))では、インドにおける特許、商標および意匠の実務についての調査結果を報告している。具体的には、特許についてはFirst Examination Report(FER)、新規性・進歩性、補正・記載要件、ヒアリング、分割出願、付与前・付与後異議、特許権の回復およびその他の関連実務(PPH、早期公開および実施報告書)について、商標についてはFER、ヒアリング、付与前異議および著名商標について、意匠についてはFER、原本の扱い、部分意匠および意匠実務手続マニュアルについて紹介している。また、インド特許意匠商標総局のウェブサイト、法律事務所・調査事業体、インド出願実務の重要なポイントについて紹介している。

  • 2022.07.26

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    台湾における特許出願制度概要

    特許出願(中国語「發明專利申請」)手続は、一般的に、方式審査、出願公開、審査請求、実体審査、特許査定、公告の順で進められる。

  • 2022.07.05

    • 中南米
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ブラジルにおける主な知的財産関連サイトのリンク情報

    ブラジルの主な知的財産関連サイトであるブラジル産業財産庁(Instituto Nacional da Propriedade Industrial)および日本貿易振興機構(JETRO)の中南米の知的財産に関する情報について、掲載されているリンク情報を一覧にして示した。