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  • 2018.01.25

    • アフリカ
    • 法令等
    • 統計
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    エジプトにおける知的財産権侵害事案の刑罰制度およびその運用

    「主要各国における知的財産権侵害事案の刑罰制度及びその運用に関する調査研究」(2017年2月、日本技術貿易株式会社)エジプトQ&Aでは、エジプトにおける知的財産権侵害事案の刑罰制度およびその運用にかかる25の質問に対する現地代理人からの回答の和文と英文が紹介されているとともに、知的財産権侵害件数が紹介されている。また、資料として、調査対象14ヵ国の比較対照表および刑事統計資料、ならびにエジプトのケースリストが添付されている。

  • 2017.11.30

    • アフリカ
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    エジプトにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアル

    「中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」(平成29年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部Lでは、エジプトにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルについて、出願制度の概要や審査の実態が、特許、実用新案、意匠、商標の権利種別毎に条文やフローチャートを交えて説明されている。なお、審査基準・審査マニュアルは特にない。