■ 全12件中、1～10件目を表示しています。
-
2018.01.25
エジプトにおける知的財産権侵害事案の刑罰制度およびその運用「主要各国における知的財産権侵害事案の刑罰制度及びその運用に関する調査研究」（2017年2月、日本技術貿易株式会社）エジプトQ&Aでは、エジプトにおける知的財産権侵害事案の刑罰制度およびその運用にかかる25の質問に対する現地代理人からの回答の和文と英文が紹介されているとともに、知的財産権侵害件数が紹介されている。また、資料として、調査対象14ヵ国の比較対照表および刑事統計資料、ならびにエジプトのケースリストが添付されている。
-
2017.11.30
エジプトにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアル「中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」（平成29年3月、日本国際知的財産保護協会）第2部Lでは、エジプトにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルについて、出願制度の概要や審査の実態が、特許、実用新案、意匠、商標の権利種別毎に条文やフローチャートを交えて説明されている。なお、審査基準・審査マニュアルは特にない。
-
2017.06.08
エジプトにおけるマドリッド協定議定書の基礎商標の同一性の認証「マドリッド協定議定書の利用促進の観点からの調査研究報告書」（平成28年3月、日本国際知的財産保護協会）4.3.51では、エジプトにおけるマドリッド協定議定書の基礎商標の同一性の認証について、基礎商標の同一性認証に関する実態・運用の文献調査結果が紹介されている。
-
2016.08.19
エジプトにおける模倣品被害実態調査「エジプトにおける模倣品被害実態調査」（2016 年5 月、日本貿易振興機構ドバイ事務所）では、エジプトの主要経済指標や経済の変遷が紹介され、模倣品の現状と国内模倣品市場および模倣品の地下工場についても紹介されている。
-
2016.06.29
エジプトにおける営業秘密保護に関する法規概要および運用実態エジプトはTRIPS協定に基づいて営業秘密（非公開情報）の保護を図っている。具体的には、エジプト知的財産権法で保護対象や保護要件などを定めている。営業秘密の侵害行為に対しては、知的財産法以外にも、民法、商標に基づく損害賠償等の救済を求めることが可能である。
本稿では、エジプトにおける営業秘密保護に関する法規概要および運用実態について、Maddock & Bright IP Law Officeのパートナー弁護士Abdelwahab Moustafa氏が解説している。
-
2016.06.20
イスラム法（シャリーア）と知的財産法「シャリーア及びファトワーと知的財産法」（2016 年6 月、日本貿易振興機構ドバイ事務所）では、中東･北アフリカ地域（MENA）のおよそ18の国におけるイスラム法（シャリーア）の存在全般と、MENA諸国で施行されている知的財産法にシャリーアが及ぼす影響を詳細に論じるとともに、シャリーアに伴う明白な制限及び問題について解説している。また、知的財産権取得の際の障害やその対策についても概説している。
-
2016.06.14
エジプトにおける著作権保護エジプトでは、エジプト知的財産権法（2002年法律第82号）の第III章にて著作権に関する規定が存在する。著作権侵害に対しては、侵害行為の停止や侵害物品の差押えや押収、損害賠償等の救済策に加えて、刑事罰も規定されている。著作権法の執行を担当する機関は、警察、検察官、司法機関、情報技術産業開発庁、文化省、税関など多岐にわたる。
本稿では、エジプト著作権保護について、MADDOCK & BRIGHT IP LAW OFFICE 弁護士 Abdel Wahab Moustafa氏が解説している。
-
2016.04.27
エジプトにおける遺伝資源の利用と特許制度「各国における遺伝資源の利用と特許制度に関する調査研究報告書」（平成28年2月、日本国際知的財産保護協会）第Ⅰ部16.では、エジプトでの特許出願における遺伝資源の出所開示義務を含む、遺伝資源の利用と特許制度の関係等について説明されている。
-
2016.04.05
エジプトにおける先使用権制度「先使用権制度に関する調査研究報告書」（平成23年3月、日本国際知的財産保護協会）Ⅲ-3-「1」では、エジプトにおける先使用権制度について、先使用権制度の有無と条文規則、先使用権の成立要件、基準日、先使用権の対象となる行為、実施と新規性の関係、先使用権者が実施できる範囲、先使用権の移転に関わる問題等が、Q&A形式で説明されている。
-
2016.03.11
エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」（平成26年2月、日本国際知的財産保護協会）4-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態について、エジプトの一般情報、知的財産権関連制度（特許・意匠・商標）の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約／海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。