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2023.02.02
マレーシアにおける2022年特許法改正の概要（前編）マレーシア（改正）特許法2022が、10年以上にわたる議論、提案、国民投票を経て、2021年12月22日に国会上院（Dewan Negara）で可決され、2022年3月4日に王室承認され、2022年3月18日に施行規則とともに施行された。本稿では、マレーシアの（改正）特許法・特許規則により導入された新条項のうち優先権の回復、配列表、特許出願の公開、第三者による情報提供、担保権、外国出願のための許可書、実体審査請求規定、自発補正、分割出願、特許出願から実用新案出願への変更、付与後補正、失効した特許権の回復、強制実施権、手数料について紹介する。また、後編ではブタペスト条約加盟に基づく改正とその他の改正点について紹介する。（https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/27709/）
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2022.04.21
韓国におけるデザイン審査基準韓国のデザイン審査基準は、2014年6月に全面改正された後、毎年部分的に改正されてきたが、2021年10月20日付で全面改正（特許庁例規第122号）された。本稿では、同審査基準の主要な改正内容について紹介する。
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2021.10.21
タイにおけるマドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続「マドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続の情報収集作業報告書」（2020年2月、発明推進協会）I.タイでは、タイにおけるマドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続について紹介している。タイでは、2017年11月7日からマドリッド協定議定書を発効しており、マドリッドプロトコルに基づく国際商標登録に関する省令（2017年12月18日公示）も存在する。タイ知的財産局（DIP）は、WIPO国際事務局からタイが領域指定された旨の通知を受け取ると、当該出願はタイにおける出願とみなされ、国内商標法に基づき手続が進められる。
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2021.10.07
インドネシアにおけるマドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続「マドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続の情報収集作業報告書」（2020年2月、発明推進協会）II.インドネシアでは、インドネシアにおけるマドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続について紹介している。インドネシアでは、2018年1月2日からマドリッド協定議定書が発効しており、議定書に基づく国際商標登録に関するインドネシア規則（2018年6月6日交付）も規定されている。インドネシア知的財産総局（DGIPR）は、WIPO国際事務局からインドネシアが領域指定された旨の通知を受け取ると、商標法の規定に基づき15日以内に公開を行う。
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2021.09.21
台湾における意匠保護の戦略「台湾模倣対策マニュアル（台湾における意匠保護の戦略）」（2019年3月、日本台湾交流協会）では、台湾における意匠の保護（出願から権利化）から活用について、より実務的な視点で調査した内容を紹介している。また、2013年に導入された部分意匠、画像意匠、関連意匠および組物意匠等の新しい意匠制度を反映させ、商標の保護の可能性を含め権利化の実務や警告を受領した場合や模倣品の対処法についても解説している。
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2021.06.10
台湾における商標関連手続に必要な書類商標の手続きは、出願、取り下げ、補完、変更出願、登録延長、商標権異動、争議処理等に分けることができ、商標出願人または商標権者は、それぞれの手続において関連法律条文により定められた書類を提出しなければならない。
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2020.05.12
台湾における特許および実用新案の分割出願2011年および2019年の台湾専利法（日本における特許法、実用新案法、意匠法に相当。）改正により、特許および実用新案の分割出願を行う時期に関する規制が緩和された。
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2020.02.13
韓国における実用新案法「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第II編 韓国の知的財産制度と関連法 第3章 実用新案法」では、韓国における実用新案法に基づく登録要件、手続概要、登録取消制度等が紹介されている。
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2019.01.29
台湾における商標関連手続に必要な書類（本記事は、2021/6/10に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20114/商標の手続きは、出願、取り下げ、補完、変更出願、登録延長、商標権異動、争議処理等に分けることができ、商標出願人又は商標権者は、それぞれの手続において関連法律条文により定められた書類を提出しなければならない。
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2017.12.05
オマーンにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアル「中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」（平成29年3月、日本国際知的財産保護協会）第2部Hでは、オマーンにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルについて、出願制度の概要や審査の実態が、特許、実用新案、意匠、商標の権利種別毎に条文やフローチャートを交えて説明されている。なお、審査基準・審査マニュアルについては情報が得られていない。