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2025.05.01
ベトナムにおける商標制度のまとめ－手続編ベトナムにおける商標制度の手続面について、2022年改正の知的財産法 07/2022/QH15（以下「知的財産法」という。）およびその関連法令にもとづいて紹介する。ここでは、通常の手続を網羅するように典型的な出願手続について説明する。商標登録の適格性、商品・役務については、関連記事「ベトナムにおける商標制度のまとめ－実体編」https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/40963/を参照されたい。
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2025.05.01
ベトナムにおける商標制度のまとめ－実体編ベトナムにおける商標制度の実体面について、2022年改正の知的財産法およびその関連法令に基づいて、紹介する。手続面については、関連記事「ベトナムにおける商標制度のまとめ－手続編」https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/40950/を参照されたい。
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2025.02.27
シンガポールにおける特許を受けることができる発明と特許を受けることができない発明シンガポール特許法において、「発明」は定義されていない。シンガポール特許法第13条(1)では、特許を受けることができる発明は、(a)発明が新規である、(b)発明に進歩性がある、(c)発明が産業上利用できる、という条件を満たすものであると規定されている。シンガポール特許法では、ごく限られた特許性の具体的例外しか規定されていない。ある種の主題における特許適格性については、不明瞭なままである。その中で、本稿では、ソフトウェアに関連した発明と治療方法に関連した発明の特許適格性を中心に説明する。
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2025.02.06
中国におけるコンピュータプログラムに関わる特許出願中国においてコンピュータプログラムに関わる特許出願を行う場合、方法、装置として請求項に記載すれば特許を受けることができるが、コンピュータプログラム自体が記録された記録媒体の場合は、特許を受けることはできない。コンピュータプログラムのフローが記録された記録媒体の場合は、特許を受けることができる。2023年の専利審査指南の改正で、コンピュータプログラムのフローを含むコンピュータプログラム製品を発明の主題とすることが許容され、特許を受けることが可能となった。
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2025.02.04
オーストラリアにおける特許を受けることができる発明とできない発明オーストラリア特許法は、総じてかなり広範囲に特許の保護を認めている。ただし、違法性阻却（特許性に関する法規定違反であっても、特別の事情があるために違法としないケース）や、裁判所が言い渡した重要な判決の結果として、特許保護を受けることができない発明もいくつか存在している。
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2024.12.17
韓国における特許権存続期間の延長制度韓国特許法は、特許権を設定登録した日から特許出願日後20年になる日までが、特許権の存続期間であると明示している。一方、特別な事由により、同法における特許権の存続期間を延長する制度が明文化されており、いわゆる「1.他の法律に基づく許認可による場合」、および「2.登録遅延による場合」の2種類の制度がある。本稿では、最新判例の内容も踏まえ、韓国における特許権存続期間の延長制度を紹介する。
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2024.12.05
インドにおいて特許を受けることができない発明（2025年4月3日訂正：
本記事のソース「インド特許法（英語）」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）インド特許法（以下「特許法」という。）では、第3条において、公序良俗違反、「単なる」発見、既知の物質についての新たな形態、農業についての方法、植物および動物、コンピュータプログラムおよびビジネス方法、文学および芸術作品、精神的行為、集積回路、伝統的知識などは、特許を受けることができない旨規定されている。また、特許法第4条において、原子力に関する発明には、特許を付与しない旨が規定されている。
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2024.11.07
韓国における関連意匠制度韓国の関連デザイン制度（以下「関連意匠制度」という。）とは、意匠権者または意匠登録出願人が自己の登録意匠または出願した意匠（基本意匠）とのみ類似した意匠に関して、その基本意匠の意匠登録出願日から3年以内に当該類似した意匠が登録出願された場合に限って関連意匠として意匠登録を受けることができる制度である。韓国デザイン保護法（以下「デザイン保護法」という。）の改正（2013年5月28日改正、2014年7月1日施行）によって導入された関連意匠は、類似意匠とは異なって独自の効力範囲を有し、基本意匠権が消滅しても関連意匠権は消滅せず、独自の権利として存続する。ただし、存続期間は、基本意匠権の存続期間満了日となる。基本意匠権の存続期間は、意匠登録日より発生し、出願日から20年である。また、デザイン保護法の改正（2023年6月20日改正、2023年12月21日施行）によって、基本意匠の意匠登録出願日から3年以内に関連意匠を出願することが可能になった。
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2024.05.09
中国における仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査「仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査研究報告書」（令和5年3月、知的財産研究教育財団 知的財産研究所）では、仮想空間に関する知的財産について、日本国および外国の現行の知的財産法で保護される対象、保護が及ばない対象を整理するとともに、仮想空間でビジネスを行う企業や有識者等に対して行った、保護の状況、課題、ニーズ等についてのヒアリング調査結果を報告している。本稿では、中国に関する調査報告を紹介する。
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2024.05.09
韓国における仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査「仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査研究報告書」（令和5年3月、知的財産研究教育財団 知的財産研究所）では、仮想空間に関する知的財産について、日本国および外国の現行の知的財産法で保護される対象、保護が及ばない対象を整理するとともに、仮想空間でビジネスを行う企業や有識者等に対して行った、保護の状況、課題、ニーズ等についてのヒアリング調査結果を報告している。本稿では、韓国に関する調査報告を紹介する。