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2024.12.17
韓国における特許権存続期間の延長制度韓国特許法は、特許権を設定登録した日から特許出願日後20年になる日までが、特許権の存続期間であると明示している。一方、特別な事由により、同法における特許権の存続期間を延長する制度が明文化されており、いわゆる「1.他の法律に基づく許認可による場合」、および「2.登録遅延による場合」の2種類の制度がある。本稿では、最新判例の内容も踏まえ、韓国における特許権存続期間の延長制度を紹介する。
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2024.12.05
インドにおいて特許を受けることができない発明インド特許法（以下「特許法」という。）では、第3条において、公序良俗違反、「単なる」発見、既知の物質についての新たな形態、農業についての方法、植物および動物、コンピュータプログラムおよびビジネス方法、文学および芸術作品、精神的行為、集積回路、伝統的知識などは、特許を受けることができない旨規定されている。また、特許法第4条において、原子力に関する発明には、特許を付与しない旨が規定されている。
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2024.11.07
韓国における関連意匠制度韓国の関連デザイン制度（以下「関連意匠制度」という。）とは、意匠権者または意匠登録出願人が自己の登録意匠または出願した意匠（基本意匠）とのみ類似した意匠に関して、その基本意匠の意匠登録出願日から3年以内に当該類似した意匠が登録出願された場合に限って関連意匠として意匠登録を受けることができる制度である。韓国デザイン保護法（以下「デザイン保護法」という。）の改正（2013年5月28日改正、2014年7月1日施行）によって導入された関連意匠は、類似意匠とは異なって独自の効力範囲を有し、基本意匠権が消滅しても関連意匠権は消滅せず、独自の権利として存続する。ただし、存続期間は、基本意匠権の存続期間満了日となる。基本意匠権の存続期間は、意匠登録日より発生し、出願日から20年である。また、デザイン保護法の改正（2023年6月20日改正、2023年12月21日施行）によって、基本意匠の意匠登録出願日から3年以内に関連意匠を出願することが可能になった。
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2024.05.09
中国における仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査「仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査研究報告書」（令和5年3月、知的財産研究教育財団 知的財産研究所）では、仮想空間に関する知的財産について、日本国および外国の現行の知的財産法で保護される対象、保護が及ばない対象を整理するとともに、仮想空間でビジネスを行う企業や有識者等に対して行った、保護の状況、課題、ニーズ等についてのヒアリング調査結果を報告している。本稿では、中国に関する調査報告を紹介する。
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2024.05.09
韓国における仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査「仮想空間に関する知的財産の保護の状況に関する調査研究報告書」（令和5年3月、知的財産研究教育財団 知的財産研究所）では、仮想空間に関する知的財産について、日本国および外国の現行の知的財産法で保護される対象、保護が及ばない対象を整理するとともに、仮想空間でビジネスを行う企業や有識者等に対して行った、保護の状況、課題、ニーズ等についてのヒアリング調査結果を報告している。本稿では、韓国に関する調査報告を紹介する。
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2023.12.19
ベトナムにおけるコンピュータプログラム関連発明の特許審査ガイドラインの改正日本国際協力機構（JICA）との協力による特許審査能力強化プロジェクトの一環として、ベトナム国家知的財産庁は、2010年に、附属書の形でベトナム特許審査ガイドラインを補足する、コンピュータプログラムに関連する発明の審査に関する具体的な規則を作成した。さらに、2021年の附属書Iに続き、2023年4月3日に附属書IIを発行し、開示の充足性の評価、請求項の特徴の特定、新規性および進歩性の評価に関するガイドラインを提供し、コンピュータプログラム関連発明に関して2010年ガイドラインの第5.7項および第3章の適用を容易にする道を開いた。本稿では、附属書IIの発行に至るまでの経緯とその内容について解説する。
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2023.10.10
メキシコ商標制度概要メキシコ商標制度は、2018年8月10日に施行されたメキシコ産業財産法において、音の商標、匂いの商標、ホログラム等の非伝統的商標およびトレードドレスの保護対象への追加（メキシコ産業財産法第172条）、一部の無効理由について無効審判請求期間の延長（メキシコ産業財産法第258条）、登録時および更新時に指定商品・役務に関する真実宣誓書の提出義務を導入（メキシコ産業財産法第178条）など、多くの改正がなされたが、その後2020年11月5日に施行されたメキシコ産業財産法（以下「産業財産法」という。）においても、施行日である2020年11月5日以降に出願された商標の権利期間は、出願日ではなく登録日から10年間となる（産業財産法第178条）、異議申立に対する応答期限が1か月から2か月になる（産業財産法第225条）などの改正がなされた。
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2023.03.23
韓国における関連意匠制度（本記事は、2024/11/7に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/40140/関連意匠制度（「関連デザイン制度」）とは、意匠権者または意匠登録出願人が自己の登録意匠または出願した意匠（基本意匠）とのみ類似した意匠に係っており、その基本意匠の意匠登録出願日から1年以内に意匠登録出願された場合に限って関連意匠として意匠登録を受けることができる制度である。なお、「デザイン保護法の一部改正法律案」では、関連意匠の出願可能な期間を、基本意匠の意匠登録出願日から3年以内に拡大する提案がなされている。
従前は類似意匠制度を採用していたが、デザイン保護法の全面改正（2013年5月28日改正、2014年7月1日施行）によって関連意匠制度を新たに導入した。
関連意匠は、類似意匠とは異なって独自の効力範囲を有し、基本意匠権が消滅しても消滅せず、独自の権利として存続する。ただし、存続期間は基本意匠の意匠権存続期間満了日となる。基本意匠権の存続期間は、意匠登録日より発生し、出願日から20年である。 -
2022.12.20
ニュージーランド商標制度概要ニュージーランドにおける商標保護は、2002年商標法および2003年商標規則の規定にしたがって保護される。ニュージーランドは「先使用主義」の国であるため、市場における商標の最初の使用者が、商標の真正な「所有者」または「所有権者」とみなされる。未登録商標の先使用者は、先使用を無視して第三者の出願がなされたとしても、当該出願の登録を阻止する、または既存の第三者の商標登録を取り消すことができる。また、2012年12月10日からニュージーランドではマドリッド協定議定書が発効している。
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2022.10.18
フィリピンにおける商標制度・運用について「フィリピンにおける商標制度・運用に係る実態調査」（2022年3月、日本貿易振興機構 バンコク事務所(知的財産権部)）では、フィリピンにおける商標制度について紹介している。具体的には2017年から2021年までの統計情報、法律等の改正動向、制度の特徴、保護対象、出願および審査、異議申立および取消請求、登録後の注意事項、エンフォースメント、フィリピン知的財産庁（IPOPHL）が提供するオンラインツール、料金などを紹介している。