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2023.11.21
中国での商標出願における商品/役務名称の記載に関する留意点中国で商標を出願する際、出願人はその商品/役務の区分を指定するだけでなく、商品/役務の名称まで記載しなければならず、商品/役務名称の記載は、原則、中国の「類似商品及び役務の区分表」に基づいて行う。区分表に記載されていない商品/役務名称の場合についても具体的な商品/役務名称を記載した方が良く、審査において補正命令が出された場合には、商品等をより明確に特定するために、資料を提出して審査官にその商品/役務の詳細を説明することができる。
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2023.11.02
ベトナムにおける特許制度のまとめ－実体編ベトナムにおける特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2023.10.10
インドにおける商標制度のまとめ－実体編インドにおける商標制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2023.10.10
メキシコ商標制度概要メキシコ商標制度は、2018年8月10日に施行されたメキシコ産業財産法において、音の商標、匂いの商標、ホログラム等の非伝統的商標およびトレードドレスの保護対象への追加（メキシコ産業財産法第172条）、一部の無効理由について無効審判請求期間の延長（メキシコ産業財産法第258条）、登録時および更新時に指定商品・役務に関する真実宣誓書の提出義務を導入（メキシコ産業財産法第178条）など、多くの改正がなされたが、その後2020年11月5日に施行されたメキシコ産業財産法（以下「産業財産法」という。）においても、施行日である2020年11月5日以降に出願された商標の権利期間は、出願日ではなく登録日から10年間となる（産業財産法第178条）、異議申立に対する応答期限が1か月から2か月になる（産業財産法第225条）などの改正がなされた。
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2023.09.26
中国における特許制度のまとめ－実体編中国における特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2023.05.02
南アフリカにおける特許出願の出願書類南アフリカにおける特許出願の書類の要件について、パリ条約に基づく各国への直接出願（パリルート）と特許協力条約に基づく出願（PCTルート）からの国内移行特許出願の場合を説明する。
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2023.04.11
南アフリカにおける商標制度概要南アフリカの商標法は、1993年法律第194号の商標法、施行規則およびコモンローにより規定されている。南アフリカでは、指定する分類（区分）ごとに別々の出願をする必要があり、絶対的拒絶理由および相対的拒絶理由の双方について審査される。審査後、異議申立の為に公告され、異議が無ければ登録証発行となる。商標出願が登録へ進むまで実務において、約24か月を要している。
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2023.04.06
中国における明細書のサポート要件、および開示要件に関する無効審判事例中国国家知識産権局（以下「知識産権局」という。）の専利復審委員会（現「复审和无效审理部」、日本の「審判部」に相当。以下「審判部」という。）合議体は、本特許明細書の記載は明瞭かつ十分に発明を開示しており、かつ請求項記載の発明は、明細書に支持されているため、本特許は、専利法第26条第3項および第4項のいずれの規定にも違反しておらず、審判請求人の無効理由は成立しない、と判断し、本特許権を維持する審決を下した（第8823号審決）。
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2023.04.06
ブラジルにおける商標出願の指定商品または役務についての取扱いブラジル国家産業財産庁（Instituto Nacional da Propriedade Industrial 以下「INPI」という。）は、2000年1月、それまでの国内分類に代わって、「商品およびサービスの国際分類」（ニース分類）を採用した。2023年1月現在、INPIは、ニース分類第11版を使用している。ニース分類の採用以降、INPIは、類見出し（クラスヘディング）による記載を認めなくなり、具体的な商品または役務の指定を要求するようになった。商品または役務の記載は、ニース分類に基づく商品およびサービスの国際分類表に準拠した記載を用いることが望ましい。
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2023.03.23
韓国における関連意匠制度関連意匠制度（「関連デザイン制度」）とは、意匠権者または意匠登録出願人が自己の登録意匠または出願した意匠（基本意匠）とのみ類似した意匠に係っており、その基本意匠の意匠登録出願日から1年以内に意匠登録出願された場合に限って関連意匠として意匠登録を受けることができる制度である。なお、「デザイン保護法の一部改正法律案」では、関連意匠の出願可能な期間を、基本意匠の意匠登録出願日から3年以内に拡大する提案がなされている。
従前は類似意匠制度を採用していたが、デザイン保護法の全面改正（2013年5月28日改正、2014年7月1日施行）によって関連意匠制度を新たに導入した。
関連意匠は、類似意匠とは異なって独自の効力範囲を有し、基本意匠権が消滅しても消滅せず、独自の権利として存続する。ただし、存続期間は基本意匠の意匠権存続期間満了日となる。基本意匠権の存続期間は、意匠登録日より発生し、出願日から20年である。