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2013.12.20
中国における知的財産権侵害に対する司法救済（民事訴訟）（本記事は、2021/9/21に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20866/「模倣対策マニュアル 中国編」（2013年3月、日本貿易振興機構）第５章では、中国における知的財産権侵害に対する司法救済（民事訴訟）に関して、関連法令、管轄、訴訟手続の流れ、証拠やその収集方法、侵害判定、被疑侵害者の抗弁、日本企業が留意すべき点等について説明されており、判例も紹介されている。「中国特許権侵害訴訟マニュアル 2012年改訂版」（2012年12月、日本貿易振興機構北京事務所知識産権部）IIIでは、特許権が侵害された場合の民事訴訟手続についてフローチャートを交えて詳細に解説されており、各種申立書等の例も掲載されている。
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2013.12.10
シンガポールにおける知的財産権取得の流れ「アセアン・インド知財保護ハンドブック」（2013年3月、日本貿易振興機構）第2章5では、シンガポールにおける特許、意匠、商標の出願から権利の取得までの流れがフローチャートを用いて説明され、6年分の出願件数等の統計情報も掲載されている。また、著作権、機密情報、集積回路レイアウトデザインの保護の概要についても説明されている。
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2013.11.22
マレーシアにおける知的財産権取得の流れ「アセアン・インド知財保護ハンドブック」（2013年3月、日本貿易振興機構）第2章4では、マレーシアにおける知的財産権取得の流れについて紹介されている。具体的には、特許、実用新案、意匠、商標については、出願のフローチャート、出願件数等の表、審査に関する簡単な説明等が記載されている。また、著作権、地理的表示、集積回路についても簡単に紹介されている。
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2013.11.05
（ロシア）統計へのアクセス方法（ROSPATENTウェブサイト）ロシア特許庁（ROSPATENT）ウェブサイト上に掲載されている年報において、知的財産関連の統計を確認することができる。
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2013.09.20
マレーシアにおける集積回路の回路配置「模倣対策マニュアル マレーシア編」（2013年3月、日本貿易振興機構）第2章第7節IIIでは、マレーシアにおける集積回路の回路配置の保護について説明されている。2000年集積回路配置法により保護される集積回路の回路配置は、独創性等、3つの要件を満たす必要がある。保護期間は、回路配置がマレーシア国内又はそれ以外で初めて商用利用された時から10年間であるが、当該回路配置が創作された日から15年が経過したときに消滅する。保護を受ける資格を有する者には、マレーシア国民又はマレーシアの居住者、マレーシアで設立された法人、WTO（世界貿易機関）加盟国に住所を有する自然人又は法人が含まれる。
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2013.09.20
ベトナムにおける半導体集積回路の回路配置の保護について「模倣対策マニュアル ベトナム編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第II章A.II第7節4は、ベトナムにおける半導体集積回路の回路配置の保護について解説している。ベトナム知的財産法によると、「半導体集積回路の回路配置」（以下「回路配置」という）とは、半導体集積回路における素子とその相互接続の立体的配置をいい、回路配置が独創性及び商業的新規性を有する場合に保護を受けることができる。半導体集積回路により実行される原則、プロセス等は回路配置として保護されない。回路配置の出願は方式審査のみで、実体審査はない。回路配置の保護期間は、出願日若しくは世界のいずれかの場所における回路配置の最初の商業利用の日から10年間、又は回路配置の創出日から15年間のいずれか早い方となる。登録の一連の流れをまとめた「回路配置登録手続フローチャート」が掲載されている（p.161）。
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2013.09.06
ロシアにおける知的財産権侵害に対する民事上の救済措置（本記事は、2017/7/18に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/13904/「模倣対策マニュアル ロシア編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第2章第3節では、ロシアにおける知的財産権侵害に対する民事上の救済措置に関し、民事裁判制度の特徴、民事裁判の手続の流れ、訴えるための条件、判決に基づく執行手続、民事事件の事例、ロシアにおける並行輸入問題等ついて記載されている。
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2013.09.06
ロシアにおける技術移転（本記事は、2017/7/25に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/13920/「模倣対策マニュアル ロシア編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第1章第8節では、ロシアにおける技術移転に関するロシア政府の政策についての動向や、外国企業がロシアに技術を移転する場合に留意すべき主なポイント（ロイヤルティ額や税金等）等について説明されている。技術には、発明、実用新案、意匠、コンピュータ・プログラム、データベース、集積回路の回路配置、植物品種及び動物品種（選択交配の成果）とともに、ノウハウ（製造上の秘密、営業秘密）も含まれる。
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2013.09.06
ブラジルにおける集積回路の回路配置保護ブラジルでは、集積回路の回路配置は、ブラジル知財庁（INPI）に登録することにより保護が与えられる（集積回路保護法No.11484/2007第30条）。出願、INPIによる方式審査を経て登録され、保護期間は出願日又は最初の実施日から起算して10年間である（第35条）。
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2013.09.06
ロシアにおける半導体配置設計の保護（本記事は、2017/7/18に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/13902/「模倣対策マニュアル ロシア編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第1章第6節(3)では、ロシアにおける半導体配置設計の保護について記載されている。配置設計は、最初に使用されてから2年以内であればロシア特許庁（Rospatent）に登録できる。当該配置設計に対する権利の存続期間は、最初に使用された時又は登録された時のいずれか早い方から10年間である。配置設計が登録されている場合、譲渡、ライセンス付与、担保権設定契約及び契約によらない配置設計の譲渡（組織再編等）は、登録しなければ無効になる。