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2021.10.21
台湾のインターネット取引における模倣対策「台湾模倣対策マニュアル（インターネット取引編）」（2019年3月、日本台湾交流協会）では、台湾のインターネット取引における模倣対策を紹介している。具体的には、台湾のインターネットを介した模倣品販売の現状、取締りに関連する法令や実務を紹介している。また、実例を上げながら具体的な模倣対策を紹介している。
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2021.10.21
タイにおけるマドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続「マドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続の情報収集作業報告書」（2020年2月、発明推進協会）I.タイでは、タイにおけるマドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続について紹介している。タイでは、2017年11月7日からマドリッド協定議定書を発効しており、マドリッドプロトコルに基づく国際商標登録に関する省令（2017年12月18日公示）も存在する。タイ知的財産局（DIP）は、WIPO国際事務局からタイが領域指定された旨の通知を受け取ると、当該出願はタイにおける出願とみなされ、国内商標法に基づき手続が進められる。
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2021.10.07
インドネシアにおけるマドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続「マドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続の情報収集作業報告書」（2020年2月、発明推進協会）II.インドネシアでは、インドネシアにおけるマドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する手続について紹介している。インドネシアでは、2018年1月2日からマドリッド協定議定書が発効しており、議定書に基づく国際商標登録に関するインドネシア規則（2018年6月6日交付）も規定されている。インドネシア知的財産総局（DGIPR）は、WIPO国際事務局からインドネシアが領域指定された旨の通知を受け取ると、商標法の規定に基づき15日以内に公開を行う。
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2021.09.28
香港における意匠の権利取得手続「香港知的財産保護マニュアル」（2021年1月改訂、日本貿易振興機構香港事務所（知的財産部））第2章 権利取得手続 第4節 意匠権の取得では、香港における意匠の出願および登録件数の統計、出願から登録の手順、取消について紹介している。また、意匠権取得または維持に関する判例を紹介している。
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2021.09.23
香港における特許の権利取得手続「香港知的財産保護マニュアル」（2021年1月改訂、日本貿易振興機構香港事務所（知的財産部））第2章 権利取得手続 第2節 特許権の取得では、香港における特許の出願および登録件数の統計、出願から登録の手順、審判制度等について紹介している。また、特許権取得または維持に関する判例を紹介している。第3節 特許代理制度の改定では、特許代理人について、新特許条例で示されている規制について紹介している。
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2021.09.21
台湾における意匠保護の戦略「台湾模倣対策マニュアル（台湾における意匠保護の戦略）」（2019年3月、日本台湾交流協会）では、台湾における意匠の保護（出願から権利化）から活用について、より実務的な視点で調査した内容を紹介している。また、2013年に導入された部分意匠、画像意匠、関連意匠および組物意匠等の新しい意匠制度を反映させ、商標の保護の可能性を含め権利化の実務や警告を受領した場合や模倣品の対処法についても解説している。
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2021.06.01
韓国における特許制度のまとめ－実体編韓国における特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2021.05.25
中国における商標の「識別力」「識別力」は商標登録の要件の一つであり、通常、識別力を有しない標章は、商標として登録できない。ただし、使用により識別力を有するに至った商標はこの限りではない。商標の識別力の有無を判断する際は、商標の標章自体（観念、称呼および外観の構成）、商標の指定商品、指定商品の関連公衆の認知習慣、指定商品の所属業界の実際の使用状況などを総合的に考慮しなければならない（審査基準第2部分）。
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2020.10.27
カンボジアにおける優先権主張の手続カンボジアでは、特許および実用新案登録の出願は、パリ条約に基づいて12か月以内に優先権主張を伴う出願が可能である。また、意匠および商標の出願は、パリ条約に基づいて6か月以内に優先権主張を伴う出願が可能である。優先権を主張するために、出願人は、先の出願に関連する情報を提出し、先の出願の認証謄本を提出する必要がある。優先権主張するために必要な手続きが完了していない場合、登録官は優先権主張が行われていないものと見なす。
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2020.08.20
韓国における特許および実用新案登録を受けることができない発明韓国では、特許法第32条にて特許を受けることができない発明として“公共の秩序または善良な風俗に反し公衆の衛生を害するおそれがある発明”は第29条第1項柱書き（特許要件、産業上の利用可能性）の要件を満たしていても特許を受けることができないと定められている。
また、実用新案においては特許と同様に公序良俗に反する考案、国旗・勲章と同一または類似する考案、方法に関する考案は、実用新案法第4条第1項の要件を満たしていても登録を受けることができない。