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■ 全196件中、110件目を表示しています。

  • 2023.11.28

    • アジア
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    中国における主な知的財産関連サイトのリンク情報(その3)

    中国における主な知的財産関連サイトである、专利局复审和无效审理(国家知識産権局専利局復審・無効審判部)および国家知识产权局商标局 中国商标网(国家知識産権局商標局 中国商標ネットワーク)、ならびに日本貿易振興機構(JETRO)の中国知的財産に関する情報に関するリンク情報を一覧にして示した。
     なお、国家知识产权战略网(国家知識産権戦略網)のリンク情報については(その1)を、国家知识产权局(国家知識産権局)のリンク情報については(その2)を参照されたい。
      その1:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/23190/
      その2:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/23192/

     また、新興国等知財情報データバンク内における関連記事リンク情報については、「中国における特許制度のまとめ-実体編」において既に紹介済みなので、省略する。
    https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37360/

  • 2023.10.19

    • アジア
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ベトナムにおける主な知的財産関連サイトのリンク情報

    ベトナム国家知的財産庁(National Office of Intellectual Property of Vietnam:NOIP、英語名はIP Viet Nam)および日本貿易振興機構(JETRO)のウェブサイトに掲載されている、ベトナムの知的財産に関する情報について、そのリンク情報を一覧にして示す。

  • 2023.10.17

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    チリにおける特許法の概要

    チリでは、特許出願がなされると、方式審査、実体審査を経て、新規性、進歩性、及び産業上利用可能性を有する発明に特許権が付与される。チリへの特許出願に際しては、スペイン語の明細書が必要である。なお、チリにおける特許に関する規定は、1991年1月25日に施行された産業財産に関する法律第19039号(以下「産業財産法」という。)に定められており、この産業財産法は、2021年7月5日の法No.21355により改正され、改正産業財産法は2022年5月9日より施行されている。この改正により、仮出願制度の導入や追加保護(特許権存続期間の延長)の請求期限の短縮などが行われた。
    以下、チリにおける特許法の概要について説明する。

  • 2023.04.04

    • アジア
    • 法令等
    • その他

    インドネシアのその他の法律、規則、審査基準等

    インドネシアの特許・実用新案、意匠、商標を除く、その他の知的財産に関連する法律、規則等を示す。

  • 2022.12.22

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    韓国における商標制度のまとめ-手続編

    韓国における商標制度の運用について、その手続面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2022.11.15

    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標

    インドネシアにおける商標異議申立制度

    インドネシアでは、商標出願に対する異議申立制度が、「商標及び地理的表示法」に規定されており、2016年11月25日から実施されている。また、2020年11月2日に成立した法律第11/2020号(通称オムニバス法)により、その一部(第20条、第23条、第25条)が改正された。商標出願は、全ての方式要件を満たした時点で出願日が付与され、遅くとも出願日の15日後から始まる2か月の公告期間に異議申立が可能である。出願人は、異議申立書の写しの送達日から2か月以内に、答弁書を提出することができる。答弁書の提出期限から1か月以内に、当該出願の実体審査において、異議申立書および答弁書が審査資料として検討される。

  • 2022.09.27

    • アジア
    • 統計
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    韓国の知的財産保護政策執行年次報告書(2020年)

    「2020 ANNUAL REPORT 知的財産保護政策執行年次報告書」(2021年12月、国家知識財産委員会(日本貿易振興機構 仮訳))では、韓国の知的財産保護水準の紹介(米国、日本、中国およびEUの知的財産保護状況ならびに国際水準との比較分析)、韓国国内の知的財産保護状況(出願・登録状況および法律・政策)、知的財産保護執行の成果(法令の制定・改正、取締り、紛争解決など)、今後の展望および政策提言を紹介している。

  • 2022.07.21

    • 中南米
    • 法令等
    • その他

    メキシコのその他の法律、規則、審査基準等

    特許・実用新案、意匠、商標を除き、その他メキシコの知的財産関連の法律、規則、審査基準等を示す。

  • 2022.07.05

    • 中南米
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ブラジルにおける主な知的財産関連サイトのリンク情報

    ブラジルの主な知的財産関連サイトであるブラジル産業財産庁(Instituto Nacional da Propriedade Industrial)および日本貿易振興機構(JETRO)の中南米の知的財産に関する情報について、掲載されているリンク情報を一覧にして示した。

  • 2022.07.05

    • アジア
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    シンガポールにおける主な知的財産関連サイトのリンク情報(その1)

    シンガポールの主な知的財産関連サイトであるシンガポール知的財産庁(IPOS)について、掲載されているリンク情報を一覧にして示した。
     なお、Singapore Statutes Online(シンガポール法令オンライン)および日本貿易振興機構(JETRO)のシンガポール知的財産に関する情報については、(その2)を参照されたい。
      その2:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/23975/
     また、「シンガポールにおける特許制度のまとめ-実体編」(2020.5.19)(https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18575/)、「シンガポールにおける特許制度のまとめ-手続編」(2020.7.9)(https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19306/)、「シンガポールにおける商標制度のまとめ-実体編」(2020.6.9)(https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18623/)、「シンガポールにおける商標制度のまとめ-手続編」(2020.9.3)(https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19446/)において紹介されている新興国等知財情報データバンク内の情報については省略する。