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■ 全200件中、110件目を表示しています。

  • 2024.05.23

    • 中南米
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標

    メキシコにおけるTMマークおよびRマーク「Ⓡ」の使用

    メキシコでは、登録商標の使用を開始する場合、「Marca Registrada」(登録商標を意味するスペイン語)、またはその略称である「M.R.」、またはRマーク「Ⓡ」を商品やパッケージに表示する必要がある。これらのマークが表示されていない場合、商標登録の有効性そのものには悪影響が生じることはないものの、商標権者が民事訴訟、刑事訴訟、またはその他の権利行使を行う際に悪影響が生ずる。

  • 2024.02.15

    • アジア
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    カンボジアにおける主な知的財産関連サイトのリンク情報(その1)

    カンボジアの主な知的財産関連サイトの一つであるカンボジア知的財産局(Department of Intellectual Property)のウェブサイトについて、サイト内のリンク情報を一覧にして示し、どのような情報が掲載されているかを紹介する。
     なお、日本貿易振興機構(JETRO)におけるカンボジア知的財産関連リンク情報については、(その2)を参照されたい。

  • 2024.02.01

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    中国における商標出願と他人の先行権利との抵触について(前編)

    2022年12月7日に、中国国家知識産権局商標局は、「商標出願と使用における先行権利との抵触回避ガイドライン」を公表した。ガイドラインでは、中国商標法第32条を中心に、商標出願と使用における先行権利との抵触回避が詳細に説明されている。本稿では、ガイドラインと商標審査審理指南を参照しながら、商標出願と先行権利との抵触について、より理解しやすくするために豊富な事例に基づいて解説する。前編では、商標出願と「企業名称における字号の権益(日本でいう商号に関する権利)との抵触」、「著作権との抵触」、「外観設計専利権(意匠権)との抵触」について取り上げる。
    (後編:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/38167/

  • 2024.02.01

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    中国における商標出願と他人の先行権利との抵触について(後編)

    2022年12月7日に、中国国家知識産権局商標局は、「商標出願と使用における先行権利との抵触回避ガイドライン」を公表した。ガイドラインでは、中国商標法第32条を中心に、商標出願と使用における先行権利との抵触回避が詳細に説明されている。本稿では、ガイドラインと商標審査審理指南を参照しながら、商標出願と先行権利との抵触について、より理解しやすくするために豊富な事例に基づいて解説する。後編では、商標出願と「氏名権との抵触」、「肖像権との抵触」、「地理的表示との抵触」、「周知・著名な商品または役務の名称、包装、装飾との抵触」、「その他保護すべき合法的な権益との抵触」について取り上げる。
    (前編:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/38163/

  • 2023.11.28

    • アジア
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    中国における主な知的財産関連サイトのリンク情報(その3)

    中国における主な知的財産関連サイトである、专利局复审和无效审理(国家知識産権局専利局復審・無効審判部)および国家知识产权局商标局 中国商标网(国家知識産権局商標局 中国商標ネットワーク)、ならびに日本貿易振興機構(JETRO)の中国知的財産に関する情報に関するリンク情報を一覧にして示した。
     なお、国家知识产权战略网(国家知識産権戦略網)のリンク情報については(その1)を、国家知识产权局(国家知識産権局)のリンク情報については(その2)を参照されたい。
      その1:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/23190/
      その2:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/23192/

     また、新興国等知財情報データバンク内における関連記事リンク情報については、「中国における特許制度のまとめ-実体編」において既に紹介済みなので、省略する。
    https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37360/

  • 2023.10.19

    • アジア
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ベトナムにおける主な知的財産関連サイトのリンク情報

    ベトナム国家知的財産庁(National Office of Intellectual Property of Vietnam:NOIP、英語名はIP Viet Nam)および日本貿易振興機構(JETRO)のウェブサイトに掲載されている、ベトナムの知的財産に関する情報について、そのリンク情報を一覧にして示す。

  • 2023.10.17

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    チリにおける特許法の概要

    チリでは、特許出願がなされると、方式審査、実体審査を経て、新規性、進歩性、及び産業上利用可能性を有する発明に特許権が付与される。チリへの特許出願に際しては、スペイン語の明細書が必要である。なお、チリにおける特許に関する規定は、1991年1月25日に施行された産業財産に関する法律第19039号(以下「産業財産法」という。)に定められており、この産業財産法は、2021年7月5日の法No.21355により改正され、改正産業財産法は2022年5月9日より施行されている。この改正により、仮出願制度の導入や追加保護(特許権存続期間の延長)の請求期限の短縮などが行われた。
    以下、チリにおける特許法の概要について説明する。

  • 2023.04.04

    • アジア
    • 法令等
    • その他

    インドネシアのその他の法律、規則、審査基準等

    インドネシアの特許・実用新案、意匠、商標を除く、その他の知的財産に関連する法律、規則等を示す。

  • 2022.12.22

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    韓国における商標制度のまとめ-手続編

    韓国における商標制度の運用について、その手続面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2022.11.15

    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標

    インドネシアにおける商標異議申立制度

    インドネシアでは、商標出願に対する異議申立制度が、「商標及び地理的表示法」に規定されており、2016年11月25日から実施されている。また、2020年11月2日に成立した法律第11/2020号(通称オムニバス法)により、その一部(第20条、第23条、第25条)が改正された。商標出願は、全ての方式要件を満たした時点で出願日が付与され、遅くとも出願日の15日後から始まる2か月の公告期間に異議申立が可能である。出願人は、異議申立書の写しの送達日から2か月以内に、答弁書を提出することができる。答弁書の提出期限から1か月以内に、当該出願の実体審査において、異議申立書および答弁書が審査資料として検討される。