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2023.12.26
中国で完成した発明に関する秘密保持審査制度中国国内で完成した発明が、国家の安全または重大な利益に関わる場合、秘密保持が必要になる。いかなる機関、組織または個人も、中国国内で完成した発明を外国に出願する場合、先ず中国国家知識産権局（以下「CNIPA」という。）による秘密保持審査（中国語「保密审查」）を受けなければならない。秘密保持審査を受けずに外国に特許または実用新案を出願した場合、当該出願の発明または実用新案については、中国で権利付与されない。
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2022.11.24
台湾における実用新案登録出願制度概要実用新案（中国語「新型専利」）出願手続は、一般的に、方式審査、形式審査、許可処分、公告という順で進められる。なお、実体審査に代わりうるものとして技術評価書がある。
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2021.05.13
韓国における特許・実用新案出願制度概要（本記事は、2022/11/1に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/26894/特許および実用新案の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)審査請求および実体審査、(5）登録の手順で進められる。2017年3月1日出願からは、審査請求期間が特許および実用新案どちらも出願日（国際出願の場合は国際出願日）より3年に変更された。権利は設定の登録日から生じるが、特許権の存続期間は出願日から20年、実用新案権の存続期間は出願日から10年を越えることはできない。
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2020.12.22
ロシアにおける特許および実用新案登録を受けることができる発明とできない発明ロシアにおいて、特許および実用新案の保護については、ロシア民法典第4部の第72章に規定されており、不特許事由に該当する客体は、A. 特許を受けることができない客体、B. 発明に該当しない客体、C. 発明として保護しない客体、の3つのカテゴリーに分けて示されている。
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2020.09.22
メキシコにおける特許出願制度概要メキシコでは、産業財産法に基づき、発明を特許制度によって保護することができる。メキシコの特許出願制度について、産業財産権法の関連条文や方式審査での手続を中心に説明する。
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2020.08.27
トルコにおける特許および実用新案登録を受けることができる発明とできない発明トルコでは、発明は知的財産法第6769号(Sınai Mülkiyet Kanunu：SMK)に従って特許および実用新案によって保護することができる。特許権は、技術のすべての分野の発明が新規であり、進歩性を有し、産業上の利用可能性があることを条件として付与される。また、実用新案権は、産業上の利用可能性がある新しい発明（考案）に与えられる。しかし、指定された要件を満たしていても、発見、数学的方法、人間のクローン作成手順など、特許や実用新案では保護できない出願がある。
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2020.08.27
カンボジアにおける特許および実用新案登録を受けることができる発明とできない発明カンボジアでは、産業手工芸省（the Ministry of Industry and Handicraft：MIH）に特許または実用新案登録出願を行うことで、特許または実用新案を保護することができる。特許・実用新案・意匠法（以下、「特許法」という）第3条により、発明は新規で、進歩性をともない、産業用途に用いられる場合に特許可能である、と規定される。また、特許法第69条により、新規であり、何らかの産業上利用可能な考案は実用新案証を受けることができる、と規定される。
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2020.02.13
韓国における実用新案法「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第II編 韓国の知的財産制度と関連法 第3章 実用新案法」では、韓国における実用新案法に基づく登録要件、手続概要、登録取消制度等が紹介されている。
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2020.02.11
韓国における保護対象の種類と根拠法「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第II編 韓国の知的財産制度と関連法 第１章 保護対象の種類と根拠法」では、韓国における知的財産の保護対象の種類と根拠法が紹介されている。
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2017.07.20
韓国における特許・実用新案出願制度概要（本記事は、2021/5/13に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19854/特許および実用新案の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)審査請求および実体審査、(5）登録の手順で進められる。2017年3月1日出願からは、審査請求期間が特許および実用新案どちらも出願日（国際出願の場合は国際出願日）より3年に変更された。権利は設定の登録日から生じるが、権利は設定の登録日から特許権の存続期間は出願日から20年、実用新案権の存続期間は出願日から10年を越えることはできない。