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■ 全303件中、110件目を表示しています。

  • 2024.06.27

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他

    シンガポールにおけるロイヤルティ送金に関する法制度と実務運用の概要

    シンガポールの実施権者に対して、特定の知的財産に関するライセンスを付与した日本の実施許諾者が、シンガポールから日本へのロイヤルティの送金を検討する際に、留意すべき重要なシンガポールの税務上の考慮事項について解説する。

  • 2024.06.13

    • アジア
    • 法令等
    • その他参考情報
    • その他

    インドにおいてOIモデル契約書ver2.0技術検証(PoC)契約書(新素材編、AI編)を活用するに際しての留意点

    日本国特許庁は、オープンイノベーションポータルサイト(https://www.jpo.go.jp/support/general/open-innovation-portal/index.html)において、研究開発型スタートアップ企業と事業会社のオープンイノベーション促進のために各種のOIモデル契約書を公開しており、新興国等知財情報データバンクでは、下記【ソース】に記載の契約書およびタームシート(英訳)を作成・公開している。
    本稿では、それらのOIモデル契約書(英訳)を参照した上で、インドにおける法律等を踏まえた、OIモデル契約書を活用する際の留意点について説明する。

  • 2024.01.23

    • アジア
    • 法令等
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    香港における知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編

    本記事は、「新興国等知財情報データバンク」に掲載されている香港の知的財産に関連する基礎的な情報へのアクセス性を向上させるために、当該基礎的な情報の全体像をマップ的に示すものである。
    具体的に、「実体編」の本記事では、香港の知的財産に関連する基礎的な情報について、原文およびその翻訳文(日本語でアクセスできるもの)のURLアドレスを掲載し、これらに関連する「新興国等知財情報データバンク」内の記事(関連記事)およびその他の情報(関連情報)の主なものについて、URLを掲載した。

  • 2023.11.21

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    マレーシアにおける特許の新規性について

    マレーシアにおける特許出願は、その発明が、刊行物、口頭の開示、使用等により、出願日もしくは優先日前に開示されていた場合、新規性を失い特許権の付与が認められない。しかし、マレーシアにおいても、一定の期間に限って、定められた行為による開示については、グレースピリオドが認められる。

  • 2023.10.17

    • アジア
    • 法令等
    • その他

    ベトナムのその他の法律、規則、審査基準等

    特許・実用新案、意匠、商標を除く、その他ベトナムの知的財産関連の法律、規則等を示す。

  • 2023.10.17

    • アジア
    • 法令等
    • その他

    フィリピンのその他の法律、規則、審査基準等

    特許・実用新案、意匠、商標を除く、その他フィリピンの知的財産関連の法律、規則等を示す。

  • 2023.05.11

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    中国における進歩性(創造性)の審査基準(専利審査指南)に関する一般的な留意点(後編)

    中国の審査基準(専利審査指南)のうち進歩性(創造性)に関する事項について、日本の審査基準と比較して留意すべき点を中心に前編・後編に分けて紹介する。ただし、本稿では、各技術分野に共通する一般的な事項についてのみ取扱うこととし、コンピュータソフトウエア、医薬品など、特定の技術分野に特有の審査基準については省略する。また、発明の認定・対比などについては、「中国における新規性の審査基準に関する一般的な留意点」を参照されたい。後編では、進歩性の具体的な判断、数値限定、選択発明について解説する。進歩性に関する法令等の記載個所、進歩性判断の基本的な考え方、用語の定義については「中国における進歩性(創造性)の審査基準(専利審査指南)に関する一般的な留意点(前編)」(https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/34480/)をご覧ください。

  • 2023.03.23

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    韓国における関連意匠制度

    関連意匠制度(「関連デザイン制度」)とは、意匠権者または意匠登録出願人が自己の登録意匠または出願した意匠(基本意匠)とのみ類似した意匠に係っており、その基本意匠の意匠登録出願日から1年以内に意匠登録出願された場合に限って関連意匠として意匠登録を受けることができる制度である。なお、「デザイン保護法の一部改正法律案」では、関連意匠の出願可能な期間を、基本意匠の意匠登録出願日から3年以内に拡大する提案がなされている。
    従前は類似意匠制度を採用していたが、デザイン保護法の全面改正(2013年5月28日改正、2014年7月1日施行)によって関連意匠制度を新たに導入した。
    関連意匠は、類似意匠とは異なって独自の効力範囲を有し、基本意匠権が消滅しても消滅せず、独自の権利として存続する。ただし、存続期間は基本意匠の意匠権存続期間満了日となる。基本意匠権の存続期間は、意匠登録日より発生し、出願日から20年である。

  • 2023.02.16

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    中国における新規性の審査基準(専利審査指南)に関する一般的な留意点(後編)

    中国の審査基準(専利審査指南)のうち新規性に関する事項について、日本の特許・実用新案審査基準と比較して留意すべき点を中心に紹介する。ただし、ここでは、各技術分野に共通する一般的な事項についてのみ取扱うこととし、コンピュータソフトウエア、医薬品など、特定の技術分野に特有の事項については省略する。本稿では、前編・後編に分けて専利審査基準の新規性の留意すべき点などを紹介する。後編では、請求項に係る発明と引用発明との対比、特定の表現を有する請求項についての取扱い、その他の留意点について説明する。法律や新規性に関する専利審査基準の記載個所などの情報、新規性判断の基本的な考え方、請求項に記載された発明の認定、引用発明の認定については「中国における新規性の審査基準に関する一般的な留意点(前編)」(https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/33728/)をご覧ください。

  • 2023.02.16

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    中国における新規性の審査基準(専利審査指南)に関する一般的な留意点(前編)

    中国の審査基準(専利審査指南)のうち新規性に関する事項について、日本の特許・実用新案審査基準と比較して留意すべき点を中心に紹介する。ただし、ここでは、各技術分野に共通する一般的な事項についてのみ取扱うこととし、コンピュータソフトウエア、医薬品など、特定の技術分野に特有の事項については省略する。本稿では、前編・後編に分けて専利審査基準の新規性の留意すべき点などを紹介する。前編では、法律や新規性に関する専利審査基準の記載箇所などの情報、新規性判断の基本的な考え方、請求項に記載された発明の認定、引用発明の認定について説明する。請求項に係る発明と引用発明との対比、特定の表現を有する請求項についての取扱い、その他の留意点については「中国における新規性の審査基準に関する一般的な留意点(後編)」(https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/33755/)をご覧ください。