■ 全36件中、1～10件目を表示しています。
-
2023.10.17
チリにおける特許法の概要チリでは、特許出願がなされると、方式審査、実体審査を経て、新規性、進歩性、及び産業上利用可能性を有する発明に特許権が付与される。チリへの特許出願に際しては、スペイン語の明細書が必要である。なお、チリにおける特許に関する規定は、1991年1月25日に施行された産業財産に関する法律第19039号（以下「産業財産法」という。）に定められており、この産業財産法は、2021年7月5日の法No.21355により改正され、改正産業財産法は2022年5月9日より施行されている。この改正により、仮出願制度の導入や追加保護（特許権存続期間の延長）の請求期限の短縮などが行われた。
以下、チリにおける特許法の概要について説明する。 -
2023.10.10
メキシコ商標制度概要メキシコ商標制度は、2018年8月10日に施行されたメキシコ産業財産法において、音の商標、匂いの商標、ホログラム等の非伝統的商標およびトレードドレスの保護対象への追加（メキシコ産業財産法第172条）、一部の無効理由について無効審判請求期間の延長（メキシコ産業財産法第258条）、登録時および更新時に指定商品・役務に関する真実宣誓書の提出義務を導入（メキシコ産業財産法第178条）など、多くの改正がなされたが、その後2020年11月5日に施行されたメキシコ産業財産法（以下「産業財産法」という。）においても、施行日である2020年11月5日以降に出願された商標の権利期間は、出願日ではなく登録日から10年間となる（産業財産法第178条）、異議申立に対する応答期限が1か月から2か月になる（産業財産法第225条）などの改正がなされた。
-
2023.08.24
インドネシアにおける冒認商標出願対策について「冒認出願対策リーフレット」（2022年11月、ジェトロ・バンコク事務所 知的財産部、ジェトロ・シンガポール事務所 知的財産部）では、インドネシアにおける商標制度の概要、商標検索方法、冒認商標出願を発見した際の対策および予防策について紹介している。
-
2023.01.12
台湾における商標出願制度の概要台湾における商標出願手続は、一般的に、方式審査、実体審査、登録査定、公告の順で進められる。なお、公告日から3か月以内であれば、誰でも異議申立をすることができる。
-
2022.11.24
台湾における実用新案登録出願制度概要実用新案（中国語「新型専利」）出願手続は、一般的に、方式審査、形式審査、許可処分、公告という順で進められる。なお、実体審査に代わりうるものとして技術評価書がある。
-
2022.11.01
韓国における特許・実用新案出願制度概要特許および実用新案の出願から登録までの手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)審査請求および実体審査、(5)登録の手順で進められる。2017年3月1日以降の出願については、審査請求期間が特許および実用新案どちらも出願日（国際出願の場合は国際出願日）から3年に変更された。権利は設定の登録日から生じるが、特許権の存続期間は出願日から20年、実用新案権の存続期間は出願日から10年である。2021年10月19日の韓国特許法改正により分離出願制度が新設され、また、拒絶査定後の応答期間が30日から3か月に変更された。
-
2022.07.26
台湾における特許出願制度概要特許出願（中国語「發明專利申請」）手続は、一般的に、方式審査、出願公開、審査請求、実体審査、特許査定、公告の順で進められる。
-
2022.06.23
ラオスにおける主な知的財産関連サイトのリンク情報ラオスの主な知的財産関連サイトであるラオス知的財産局と、日本貿易振興機構（JETRO）のラオスに関する情報について、掲載されているリンク情報を一覧にして示した。
-
2021.05.20
中国における特許・実用新案・意匠（中国語「専利」）の拒絶査定不服審判制度概要（中国語「専利復審請求制度」）（2022年7月15日訂正：
本記事のソース「中国特許庁（国務院専利行政部門（専利再審、無効））（中国語「国家知识产权局专利复审和无效」）ウェブサイト」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）中国特許庁審査部の決定に不服の場合は、国務院専利行政部門（中国語「国务院专利行政部门」）に対して、審判請求をすることができる。審判手続は、主に(1)方式審査、(2)審査部における前置審査、(3)前置審査において拒絶査定を維持しないと判断場合は元の審査部で再審査、前置審査において拒絶査定を維持すると判断した場合は審判合議体による審判の手順で進められる。出願人は、国務院専利行政部門の決定に不服がある場合、人民法院に訴訟を提起することができる。
-
2021.05.13
韓国における特許・実用新案出願制度概要（本記事は、2022/11/1に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/26894/特許および実用新案の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)審査請求および実体審査、(5）登録の手順で進められる。2017年3月1日出願からは、審査請求期間が特許および実用新案どちらも出願日（国際出願の場合は国際出願日）より3年に変更された。権利は設定の登録日から生じるが、特許権の存続期間は出願日から20年、実用新案権の存続期間は出願日から10年を越えることはできない。