ホーム サイト内検索

■ 全1件中、1件目を表示しています。

  • 2015.03.31

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける第一国出願制度

    (2022年4月28日訂正:
    本記事の「第34条申請様式」と「シンガポール知的財産権庁ウェブサイト(国家セキュリティクリアランス)」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。
    また、2022年5月4日からオンラインシステムがIP2SGからIP4SGに変更されます。)

    シンガポール特許法第34条に基づき、「シンガポールに居住する発明者または出願人は、(i)シンガポール国外で出願する2ヶ月以上前に、シンガポールにおいて特許出願すること、または(ii)シンガポール知的財産権庁(Intellectual Property Office of Singapore : IPOS)から書面による許可を取得すること」を満たさない限り、シンガポール国外で特許を出願できない。留意すべきは、特許法第34条は、発明が着想された場所とは無関係であり、(シンガポール国外で出願する、または出願させる人の)市民権も無関係である。あくまでシンガポールにおける「居住」が基準となる。