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■ 全163件中、110件目を表示しています。

  • 2022.11.24

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    台湾における実用新案登録出願制度概要

    実用新案(中国語「新型専利」)出願手続は、一般的に、方式審査、形式審査、許可処分、公告という順で進められる。なお、実体審査に代わりうるものとして技術評価書がある。

  • 2022.11.24

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    台湾における意匠出願制度概要

    意匠(中国語「設計專利」)出願手続は、一般的に、方式審査、実体審査、登録査定、公告の順で進められる。

  • 2022.11.22

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    中国における特許出願の単一性の審査について

    中国において、1つの全体的発明構想に属する2つ以上の発明/実用新案は、単一性を有していれば、1件の専利出願に含めることができる。特許の実体審査実務において、2つの独立形式請求項が単一性を有するか否かは、同一のまたは対応する特定の技術的特徴の有無により判断され、「特定の技術的特徴」の認定においては、進歩性の判断基準が採用されている。

  • 2022.11.22

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    中国知財法と日本知財法の相違点

    中国進出にあたっては有効な知財戦略を立てる必要があるが、そのためにはまず、中国と日本の知財法の相違点を理解することが重要である。本稿では、専利(日本における特許、実用新案、意匠に相当)制度と日本の特許・実用新案・意匠制度について、存続期間、保護対象、審査・審判における相違点の概略を紹介する。

  • 2022.11.01

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    韓国における特許・実用新案出願制度概要

    特許および実用新案の出願から登録までの手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)審査請求および実体審査、(5)登録の手順で進められる。2017年3月1日以降の出願については、審査請求期間が特許および実用新案どちらも出願日(国際出願の場合は国際出願日)から3年に変更された。権利は設定の登録日から生じるが、特許権の存続期間は出願日から20年、実用新案権の存続期間は出願日から10年である。2021年10月19日の韓国特許法改正により分離出願制度が新設され、また、拒絶査定後の応答期間が30日から3か月に変更された。

  • 2022.10.13

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    インドにおける特許、意匠、商標の実務について

    「インドにおける特許・意匠・商標に係る実務実態調査報告書」(2022年5月、日本貿易振興機構 ニューデリー事務所(知的財産権部))では、インドにおける特許、商標および意匠の実務についての調査結果を報告している。具体的には、特許についてはFirst Examination Report(FER)、新規性・進歩性、補正・記載要件、ヒアリング、分割出願、付与前・付与後異議、特許権の回復およびその他の関連実務(PPH、早期公開および実施報告書)について、商標についてはFER、ヒアリング、付与前異議および著名商標について、意匠についてはFER、原本の扱い、部分意匠および意匠実務手続マニュアルについて紹介している。また、インド特許意匠商標総局のウェブサイト、法律事務所・調査事業体、インド出願実務の重要なポイントについて紹介している。

  • 2022.10.11

    • アジア
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 商標

    インドネシアにおける商標制度・運用実態について

    「インドネシアにおける商標制度・運用に係る実態調査」(2022年3月、日本貿易振興機構バンコク事務所(知的財産権部))では、インドネシアの商標制度を紹介している。具体的には、制度概要、保護対象、審査フロー、審査指針、異議申立、無効取消、不使用取消、登録後の注意事項およびエンフォースメントの他、制度改正動向、2017年から2021年までの出願件数の統計情報、知的財産総局のデータベース、料金表などを紹介している。

  • 2022.09.20

    • アジア
    • 統計
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    韓国における審査・審判サービスについて

    「2020年度 知的財産白書」(2021年5月発行、韓国特許庁(日本貿易振興機構 仮訳))では、韓国の知的財産における2020年の国内外の動向、行政戦略システム、審査・審判の品質および制度の改善状況、特許基盤産業競争力および韓国国内知的財産保護基盤の強化、海外知的財産紛争対応の支援、国際協力の現状、知的財産金融および知的財産活用の促進、企業の育成、知的財産人材育成および国民向けサービスの改善について解説している。また、出願・登録及び審査・審判の統計状況を紹介している。本稿では特許・実用新案の審査、商標・デザイン審査および審判、方式審査の品質および制度などの改善状況について解説している「第2編 信頼される審査・審判サービスの提供」を紹介する。

  • 2022.07.26

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    台湾における特許出願制度概要

    特許出願(中国語「發明專利申請」)手続は、一般的に、方式審査、出願公開、審査請求、実体審査、特許査定、公告の順で進められる。

  • 2022.05.26

    • 欧州
    • 出願実務
    • 制度動向
    • 商標

    ロシアにおける商標制度のまとめ-手続編

    ロシアにおける商標登録プロセスは、「ロシア連邦民法第4法典第7編第76章」(以下「民法」という。)および「2015年7月20日のロシア連邦経済開発省の命令第482号」(以下「規則」という。)により規定されている。本稿では、手続きに関連するロシアの商標制度を紹介する。