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■ 全6件中、16件目を表示しています。

  • 2016.06.02

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ペルーにおける特許法の概要注目コンテンツ

     ペルーでは、アンデス共同体内の共通法規である「アンデス共同体委員会決議第486号」(以下、決議第486号、と記載)が、ペルー国内の知的財産制度に適用されている。また、「工業所有権の共通制度を制定するアンデス共同体委員会決議486の補足規定を承認する法定命令第1075号」が、決議486号の補足規定として制定されている。
     以下、ペルーにおける特許法および特許審査の概要に関して説明する。

  • 2016.05.25

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    チリにおける特許法の概要注目コンテンツ

    チリでは、特許出願がなされると、方式審査、実体審査を経て、新規性、進歩性、及び産業上利用可能性を有する発明に特許権が付与される。チリへの特許出願に際しては、スペイン語の明細書が必要である。
    以下、チリにおける特許法の概要について説明する。

  • 2015.03.31

    • 欧州
    • 出願実務
    • 意匠

    ロシアにおける意匠の出願制度注目コンテンツ

    ロシアでは、物品の外観を決定する、工業的にまたは職人により製造された当該物品の審美的表現およびデザイン表現に対して意匠権が与えられる。保護期間は5年で、5年毎に4回の更新が可能(最大保護期間は25年間)である。出願された意匠については、方式審査および実体審査が行われる。新規性については、絶対的新規性が採用されているが、一定の条件を満たす出願日前の開示については、当該開示から12ヶ月以内(グレースピリオド)に意匠出願を行うことにより、新規性喪失の例外が適用される。

  • 2014.05.16

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    中国における証明商標制度注目コンテンツ

    「商標法における認証・証明マークの保護の在り方に関する調査研究報告書」(2012年2月、知的財産研究所)II.7(4)、「地理的表示・地名等に係る商標の保護に関する調査研究報告書」(2011年2月、知的財産研究所)II.4(6)では、中国における証明商標制度について紹介されている。具体的には、証明商標の定義、証明商標制度における主体要件、提出書類、使用管理規則の審査等が紹介されている。

  • 2014.04.11

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 商標

    韓国における証明商標制度注目コンテンツ

    「商標法における認証・証明マークの保護の在り方に関する調査研究報告書」(2012年2月、知的財産研究所)II.7(5)、及び「地理的表示・地名等に係る商標の保護に関する調査研究報告書」(2011年2月、知的財産研究所)II.4(7)では、韓国における証明標章制度について、提出書類及び使用規則の記載項目等が紹介されている。

  • 2013.09.20

    • アジア
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 意匠

    マレーシアにおける意匠制度注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル マレーシア編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第2章第3節では、マレーシアにおける意匠制度の説明がされている。具体的には、意匠出願、出願手続、組物の意匠、意匠の利用、強制ライセンス、侵害の判断の判断基準とその事例、意匠の無効、手続に係る手数料等についての説明がされている。