ホーム サイト内検索

■ 全294件中、110件目を表示しています。

  • 2020.09.03

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    シンガポールにおける商標制度のまとめ-手続編

    シンガポールにおける商標制度の運用について、その手続き面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2020.09.01

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    インドにおける特許制度のまとめ-手続編

    インドにおける特許制度運用について、その手続面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2020.07.09

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ベトナムにおける特許制度のまとめ-手続編

    ベトナムにおける特許制度運用について、その手続き面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2020.07.09

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許制度のまとめ-手続編

    シンガポールにおける特許制度の運用について、その手続面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2020.07.02

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • 特許・実用新案

    タイにおける特許制度のまとめ-手続編

    タイにおける特許制度運用について、その手続面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2020.05.12

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    台湾における特許および実用新案の分割出願

    2011年および2019年の台湾専利法(日本における特許法、実用新案法、意匠法に相当。)改正により、特許および実用新案の分割出願を行う時期に関する規制が緩和された。

  • 2020.05.07

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    韓国における特許制度のまとめ-手続編

    韓国における特許制度運用について、その手続き面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2020.05.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    日本とシンガポールの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)の応答期間が設定されている日本とは異なり、シンガポールにおいては、審査請求のオプションによって応答期間が異なり、シンガポール知的財産庁(IPOS)に審査を請求するオプションの場合は5か月、シンガポール知的財産庁に補充審査を請求するオプションの場合は3か月である。なお、2017年10月30日付けで改正された特許法により、2020年1月1日以降の出願から補充審査は利用できなくなる。また、日本と異なり、シンガポールにおいては応答期間の延長ができない。

  • 2020.04.23

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とマレーシアの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    日本とマレーシアの特許の実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)の応答期間が設定されている日本とは異なり、マレーシアにおける応答期間は2か月である。また、日本とマレーシアのいずれにおいても応答期間の延長は可能であるが、延長可能な応答期間の長さが異なる。

  • 2020.04.21

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 制度動向
    • 商標

    ベトナムにおける商標規則の改正

    ベトナムにおいて、科学技術省通達01/2007/TT-BKHCNを改正する通達16/2016/TT-BKHCN(以下「2016通達」)が2018年1月15日付で発効した。2016通達では、約50か所にのぼる科学技術省通達01/2007/TT-BKHCNの条文改正を行っている。本稿では商標に関する内容を抜粋して紹介する。