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2023.12.07
日本とフィリピンの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較日本とフィリピンの特許の実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されている日本とは異なり、フィリピンにおける応答期間は、在外者か否かにかかわらず通常2か月以内である。また、日本とフィリピンのいずれにおいても応答期間の延長は可能であるが、延長可能な応答期間の長さが異なる。
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2023.11.30
日本とブラジルの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較日本とブラジルの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されている日本とは異なり、ブラジルでは拒絶理由通知への応答期間は90日であり、応答期間の延長は、正当な事由があれば認められる。
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2023.10.26
日本とインドの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較日本とインドの実体審査では、拒絶理由通知への応答に関する規定が異なる。日本は拒絶理由通知への応答期間が定められている。一方、インドは最初の拒絶理由通知書への応答期間は定められていないが、出願を特許付与のために整備する期間（拒絶理由解消期間）が定められており、拒絶理由解消期間を過ぎると、その特許出願は放棄されたものとみなされる。
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2023.09.28
日本と台湾の特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較日本と台湾の特許の実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、日本では、実体審査において60日（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されているのに対して、台湾の実体審査においては2か月（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されている。また、日本と台湾とでは、延長可能な応答期間の長さが異なる。
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2023.09.21
日本と中国の特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較日本と中国の特許の実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、日本では実体審査において60日（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されているのに対し、中国の実体審査においては最初の拒絶理由通知書であるか再度の（2回目以降の）拒絶理由通知書であるかにより応答期間が異なる。また、日本と中国とでは、延長可能な応答期間の長さが異なる。
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2023.01.05
インドネシアにおける特許出願の実体審査と特許庁からの指令書に対する応答期間インドネシアの特許出願における方式指令、拒絶理由通知に対する最初の応答期間は3か月であり、その後2か月の延長に加えて、さらに1か月の延長が可能である。期間の起算日は、方式審査は発送の日であるが、実体審査は通知の日である。実体審査結果の通知の送達に遅れが生じていることにより、出願人に与えられる準備期間が短くなることがあるが、審査官の裁量による期間延長が認められる。
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2022.11.15
インドネシアにおける商標異議申立制度インドネシアでは、商標出願に対する異議申立制度が、「商標及び地理的表示法」に規定されており、2016年11月25日から実施されている。また、2020年11月2日に成立した法律第11/2020号（通称オムニバス法）により、その一部（第20条、第23条、第25条）が改正された。商標出願は、全ての方式要件を満たした時点で出願日が付与され、遅くとも出願日の15日後から始まる2か月の公告期間に異議申立が可能である。出願人は、異議申立書の写しの送達日から2か月以内に、答弁書を提出することができる。答弁書の提出期限から1か月以内に、当該出願の実体審査において、異議申立書および答弁書が審査資料として検討される。
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2022.11.08
日本と韓国の特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較日本と韓国の特許の実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されている日本とは異なり、韓国の実体審査では通常2か月の応答期間が設定される。また、応答期間の延長についても両国は相違する。
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2022.11.08
オーストラリアにおける庁指令に対する応答期間オーストラリアにおける実体審査においては、実体審査の結果、拒絶理由が見出された場合、拒絶理由を指摘する第一回庁指令の日付から起算する所定期間内に、全ての拒絶理由を解消し、出願の受理を受けなければならない。この受理期限は、通常の特許出願である標準特許出願において、2013年4月15日より前に審査請求した場合は第一回庁指令の日から21か月であり、2013年4月15日以降に審査請求した場合は第一回庁指令の日から12か月である（2013年4月15日、2012年法律第35号で改正された1990年特許法が施行）。
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2022.05.10
メキシコにおける産業財産権保護法（商標関連）についてメキシコの新しい産業財産権保護法（Ley Federal de Protección a la Propiedad Industrial）は2020年７月１日に公布、2021年11月5日に施行され、商標を含む、さまざまな分野の知的財産に変更をもたらした。本稿では、商標に関する主な変更について紹介する。