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2023.11.09
日本と中国における意匠の新規性喪失の例外に関する比較日本および中国いずれにおいても意匠の新規性喪失の例外規定は存在し、ともに例外が認められる期間は6か月であったが、日本では法改正により、平成30年6月9日以降の出願から1年となった。また、日本においては、意匠登録を受ける権利を有する者（創作者または承継人）の行為に基づく公知行為自体は限定されていないのに対し、中国においては公知行為自体に限定が設けられている。なお、2021年6月1日施行の専利法第4次改正により、新規性喪失の例外として新たに専利法第24条第1項第1号が追加された。
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2021.09.07
韓国ライセンスマニュアル「韓国ライセンスマニュアル」（2021年3月、日本貿易振興機構ソウル事務所）では、韓国におけるライセンスの手順について紹介している。具体的にはライセンスの目的の検討、ライセンシーの探索、ライセンス戦略の樹立、交渉、契約締結、ライセンス条件の履行、事後管理について説明している。
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2019.10.15
シンガポールにおける特許出願制度（2024年6月13日訂正：
本記事のソース「シンガポール司法長官室」が、異なるサイトにリンクしていたため、修正いたしました。）（2022年6月17日訂正：
本記事のソース「シンガポール知的財産局Eサービスポータル」が、異なるサイトにリンクしていたため、修正いたしました。）本稿ではシンガポールにおける特許出願制度について説明する。特に、シンガポールには2014年2月14日に施行された改正特許法において導入された独自の審査オプションが存在する。これらのオプションを踏まえた上で出願から登録までの流れを説明する。なお、補充審査に関連するオプションは、2020年1月1日以降の出願から廃止される。詳細は以下のサイトを参照されたい。
https://www.jpo.go.jp/news/kokusai/sg/foreign_route.html -
2019.10.01
日本とインドにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較インドでは、中央政府に承認された展示会での開示や意匠権者の意に反する開示について、新規性喪失の例外が認められている。展示会での開示に関しては、開示日から6月以内に意匠出願する必要がある。
日本では、2018年の意匠法改正により新規性喪失の例外期間が6月から1年に延長された。 -
2019.01.24
日本と中国における意匠の新規性喪失の例外に関する比較（本記事は、2023/11/9に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37701/日本および中国いずれにおいても意匠の新規性喪失の例外規定は存在し、ともに例外が認められる期間は6か月間であったが、日本では法改正により、平成30年6月9日以降の出願から1年となった。また、日本においては、意匠登録を受ける権利を有する者（創作者または承継人）の行為に基づく公知行為自体は限定されていないのに対し、中国においては公知行為自体に限定が設けられている。
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2017.12.21
中国における専利行政取締りに関する適用状況「中国における専利行政取締りに関する法制度・適用状況」（2016年8月、日本貿易振興機構東京本部知的財産課・上海事務所知識産権部）では、中国における専利行政取締りに関する適用状況について、中国企業と日本企業によるそれぞれの事例、展示会における専利権行使の法的根拠や手続きの概要、展示会における専利権行使事例、専利権侵害を主張された場合の対応方法、近年の動向や日本企業に対するアドバイス等が紹介されている。
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2017.04.25
インドネシアにおける特許発明の新規性喪失の例外インドネシアにおける特許制度は「先願主義」である。クレーム発明は、絶対的新規性の基準を満たさなければならない。これは、発明が、特許出願の出願より前に公衆に利用可能であってはならないことを意味する。インドネシア特許法第13/2016号の第6条は、発明者による自己開示について6ヶ月のグレースピリオドを、第三者による不正開示について12ヶ月のグレースピリオドを規定することにより、新規性喪失の例外を含んでいる。
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2017.04.25
中国における展示会調査報告書（2015年）「2015年展示会調査報告書」（2016年3月、日本貿易振興機構（JETRO）東京本部知的財産課、北京事務所知識産権部）では、2015年に開催された中国での各種展示会において実施した模倣品実態調査を通じて確認および把握された、中国で製造された模倣品が世界に拡散する実態、展示会における出展業者の侵害形態等の特徴や傾向等が紹介されている。
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2016.02.12
シンガポールにおける特許出願制度（本記事は、2019/10/15に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17804/本稿ではシンガポールにおける特許出願制度について説明する。特に、シンガポールには2014年2月14日に施行された改正特許法において導入された独自の審査オプションが存在する。これらのオプションを踏まえた上で出願から登録までの流れを説明する。
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2015.10.16
日本とタイにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較タイでは、新規性喪失の例外規定について、特許法の関連条文を引用し、政府公認のタイ国内で開催された博覧会で展示した場合のみ、新規性喪失の例外規定の適用を認めている。適用を受けるためには、公開日から12ヶ月以内に出願する必要がある。