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■ 全430件中、110件目を表示しています。

  • 2019.12.03

    • アジア
    • 統計
    • 特許・実用新案

    台湾における特許、実用新案の出願の多い技術分野

    2012年~2016年において、台湾における特許、実用新案の出願件数の多い技術分野上位20位の推移を示す。

  • 2019.11.26

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    ラオスにおける産業財産権権利化費用

    ラオスにおける産業財産権の権利化に係る出願、中間処理、維持等の主な費用(知的財産局に対する費用および代理人費用)について、特許、小特許、意匠、商標の出願種別ごとに表形式で紹介している。

  • 2019.11.21

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    カンボジアにおける産業財産権権利化費用

    カンボジアにおける産業財産権の権利化に係る出願、中間処理、維持等の主な費用(知的財産局に対する費用および代理人費用)について、特許、実用新案、意匠、商標の出願種別ごとに表形式で紹介している。

  • 2019.11.19

    • 中東
    • その他参考情報
    • その他

    トルコにおける政府による知的財産に関する各種優遇・支援制度

    トルコにおいては、中小企業や個人の特許出願等に対する出願費用等の減免措置は行われていないが、特許・実用新案の登録により、税法上の優遇措置を受けることができる。

  • 2019.11.19

    • 中東
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    トルコにおける産業財産権権利化費用

    トルコにおける特許、実用新案、意匠、商標についての出願、中間処理、登録、維持に係る費用を一覧にして紹介する。

  • 2019.11.12

    • 欧州
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    ロシアにおける産業財産権権利化費用

    ロシアにおける特許、実用新案、意匠、商標についての出願、中間処理、登録、維持に係る庁費用を一覧にして紹介する。

  • 2019.11.05

    • 中南米
    • その他参考情報
    • その他

    メキシコにおける政府による知的財産に関する各種優遇・支援制度

    メキシコ産業財産庁の手数料は、メキシコ国内の中小企業等を対象として50%減額される。
    また、メキシコ政府の施策として、研究開発を行っている企業に対し、税制上の各種優遇制度を設け、支援を行っている。

  • 2019.10.29

    • 中南米
    • 統計
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ブラジルの知的財産権関連統計へのアクセス方法―出願関係

    ブラジルにおける知的財産に係る統計は、ブラジル産業財産庁(INPI)のウェブサイトに掲載されている。商標の出願・登録数、特許の出願・登録数(居住者・非居住者別、技術分野別)、技術契約登録数や海外送金件数、地理的表示・ソフトウェアの出願・登録数等に係る統計が掲載されている。

  • 2019.10.24

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    メキシコにおける特許・実用新案出願制度概要注目コンテンツ

    特許の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)実体審査、(5)登録の手順で進められる。実用新案もほぼ同様であるが、進歩性を求められず、また、出願公開はされずに登録後に公告となる。特許および実用新案の存続期間はそれぞれ出願から20年および10年である。特許および実用新案とも審査請求制度は採用されておらず、出願全数が審査される。

  • 2019.10.21

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ブラジルにおける特許・実用新案出願制度概要注目コンテンツ

    ブラジルにおける発明特許(以下、「特許」。)および実用新案特許(以下、「実用新案」。)の出願手続は、主に(1)出願、(2)⽅式審査、(3)出願公開、(4)審査請求および実体審査、(5)登録の手順で進められる。特許および実用新案の存続期間は、それぞれ出願日から少なくとも20年および15年であるが、審査に時間がかかった場合、それぞれ権利付与日から10年および7年は存続が認められる。特許と実用新案で審査の流れは同じであり、実用新案でも実体審査が行われ、また、進歩性が求められる。