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■ 全473件中、110件目を表示しています。

  • 2020.09.22

    • 中南米
    • 法令等
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    メキシコにおける特許出願制度概要

    メキシコでは、産業財産法に基づき、発明を特許制度によって保護することができる。メキシコの特許出願制度について、産業財産権法の関連条文や方式審査での手続を中心に説明する。

  • 2020.08.27

    • 中東
    • 法令等
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    トルコにおける特許および実用新案登録を受けることができる発明とできない発明

    トルコでは、発明は知的財産法第6769号(Sınai Mülkiyet Kanunu:SMK)に従って特許および実用新案によって保護することができる。特許権は、技術のすべての分野の発明が新規であり、進歩性を有し、産業上の利用可能性があることを条件として付与される。また、実用新案権は、産業上の利用可能性がある新しい発明(考案)に与えられる。しかし、指定された要件を満たしていても、発見、数学的方法、人間のクローン作成手順など、特許や実用新案では保護できない出願がある。

  • 2020.08.27

    • アジア
    • 法令等
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    カンボジアにおける特許および実用新案登録を受けることができる発明とできない発明

    カンボジアでは、産業手工芸省(the Ministry of Industry and Handicraft:MIH)に特許または実用新案登録出願を行うことで、特許または実用新案を保護することができる。特許・実用新案・意匠法(以下、「特許法」という)第3条により、発明は新規で、進歩性をともない、産業用途に用いられる場合に特許可能である、と規定される。また、特許法第69条により、新規であり、何らかの産業上利用可能な考案は実用新案証を受けることができる、と規定される。

  • 2020.08.25

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    中国において専利権を受けることができる客体とできない客体注目コンテンツ

    中国専利法の第2条、第5条および第25条には、専利権(日本の特許権、実用新案権、意匠権に対応する権利を含む)の付与対象である客体について規定されている。専利法第2条では、専利権を受けることができる客体について概括的に規定されており、専利法第5条、第25条では、専利権を受けることができない客体が列挙されている。また、第20条には「専利権を付与しない」場合が規定されている。本稿では、上記条文について解説する。

  • 2020.08.20

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    韓国における特許および実用新案登録を受けることができない発明注目コンテンツ

    韓国では、特許法第32条にて特許を受けることができない発明として“公共の秩序または善良な風俗に反し公衆の衛生を害するおそれがある発明”は第29条第1項柱書き(特許要件、産業上の利用可能性)の要件を満たしていても特許を受けることができないと定められている。
    また、実用新案においては特許と同様に公序良俗に反する考案、国旗・勲章と同一または類似する考案、方法に関する考案は、実用新案法第4条第1項の要件を満たしていても登録を受けることができない。

  • 2020.08.18

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    韓国での特許出願における優先権主張の手続(外国優先権)注目コンテンツ

    韓国での特許出願について条約による優先権主張をする場合には、韓国で特許出願と同時に出願書に趣旨等を記載しなければならない。優先権証明書類は優先日から1年4か月以内に提出しなければならない。適法に優先権を主張する特許出願については、該優先権の基礎となる出願の発明と同一の発明に対する特許要件(特許法第29条および第36条)等の適用において、該特許出願の出願日は、該優先権の基礎となる出願の出願日(優先日)に遡及される。優先権主張が適法でない場合、その特許出願については優先権主張を伴わない通常の出願として審査する。

  • 2020.08.13

    • アジア
    • 統計
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    香港における特許(標準特許)および実用新案(短期特許)の出願・登録に関する統計情報へのアクセス方法

    香港における特許(標準特許)および実用新案(短期特許)の出願・登録に関する統計情報は、香港知識産権署ウェブサイト(https://www.ipd.gov.hk/sc/home.htm)において確認することが可能である。香港には標準特許と短期特許という2種類の特許があり、後者は日本の実用新案に相当する。当該ページにアクセスすると、当該2種類の特許の出願・登録に関する統計データをPDF形式で入手することができる。

  • 2020.08.11

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    台湾における専利法の一部改正注目コンテンツ

    台湾専利法(日本の特許法、実用新案法、意匠法に相当)は、1949年に施行されて以来、業界の要求、国際規範との調和などに応じて、13回の改正がなされた。
    2019年11月1日に最新の改正法が施行された。主な改正点5点について旧法(2017年1月18日に改正された専利法)と比較し解説する。

  • 2020.08.04

    • アジア
    • 法令等
    • 制度動向
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    中国における専利審査指南の改正(後編)注目コンテンツ

    中国において2019年9月23日に改正された「専利審査指南」は、2019年11月1日から実施され、2019年11月1日(当日を含む)以降に受理された新たな専利出願および審査段階にある案件に適用される。本稿では前編、後編に分けて今回の指南の改正の背景、改正内容、および出願人に対する影響について解説を行う。

  • 2020.08.04

    • アジア
    • 法令等
    • 制度動向
    • 特許・実用新案

    中国における専利出願集中管理弁法(試行)

    中国において、「専利出願集中審査管理弁法(試行)」が、2019年8月30日から実施された。本稿では本弁法の起草の背景・目的、主要な内容、および実務について解説する。