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■ 全382件中、110件目を表示しています。

  • 2019.11.21

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標

    カンボジアにおける商標出願制度の概要

    商標出願の手続は主に、出願、方式審査、実体審査、登録の順に進行する。商標権の存続期間は、カンボジアにおける出願日から10年であるが、10年間の更新が可能である。商務省(MOC:Ministry of Commerce)の知的財産局(DIPR:Department of Intellectual Property Rights)は、標章、商号および不正競争行為に関する法律(以下、「商標法」という。)、並びに、標章、商号および不正競争行為に関する法律の施行に関する規則(以下、「商標法施行規則」という。)に従い、カンボジアにおける商標関連事項を所管する。

  • 2019.11.21

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    カンボジアにおける意匠出願制度の概要

    意匠出願の手続きは主に、出願、方式審査、実体審査、登録の順に進行する。意匠権の存続期間は、カンボジアにおける出願日から5年であるが、5年間の更新が2回可能であり、最長の存続期間は15年間である。工業手工芸省(MIH:Ministry of Industry and Handicrafts)の工業財産局(DIP: Department of Industrial Property)は、特許、実用新案証および意匠に関する法律(以下、「特許法」という。)および意匠登録手続に関する省令(以下、「意匠省令」という。)に従い、特許、実用新案および意匠を含むすべての産業財産関連事項を所管する。

  • 2019.11.19

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標

    メキシコにおける商標出願制度概要

    メキシコにおける商標制度は、1)出願、2)方式審査、3)出願の公開、4)実体審査および5)登録の手順で進められる。登録になった場合、存続期間は、出願日から10年で、10年ごとに更新することができる。

  • 2019.11.14

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    メキシコにおける意匠出願制度概要

    メキシコ産業財産権法の意匠に関する条項を改正及び追加する法令が2018年3月13日に公布され、改正法が2018年4月27日に施行された。それによって、意匠制度にいくつかの改正が行われた。
    メキシコでの出願の手続は、1)出願、2)方式審査、3)審査請求、4)登録の順で行われる。存続期間は5年であり、5年ごとの延長により最長25年まで可能である。

  • 2019.11.14

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    ブラジルにおける意匠出願制度概要

    ブラジルにおける意匠制度の特徴としては、無審査主義が挙げられる。したがって、出願の手続は、1)出願、2)方式審査、3)登録の順で行われる。
    一方、登録の後で4)審査請求が可能である。権利行使を考えると、審査請求を行ったほうが望ましいといえる。
    存続期間は10年であり、5年ごと3回の延長が可能なため、最長25年となる。

  • 2019.11.14

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標

    ブラジルにおける商標出願制度概要

    ブラジルにおける商標制度は、1)出願、2)方式審査、3)出願の公開、4)実体審査および5)登録の手順で進められる。登録になった場合、存続期間は、出願日から10年で、10年ごとに更新することができる。

  • 2019.11.07

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較注目コンテンツ

    日本とシンガポールの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)の応答期間が設定されている日本とは異なり、シンガポールにおいては、審査請求のオプションによって応答期間が異なり、シンガポール知的財産庁(IPOS)に審査を請求するオプションの場合は5か月、シンガポール知的財産庁に補充審査を請求するオプションの場合は3か月である。また、日本と異なり、シンガポールにおいては応答期間の延長ができない。

  • 2019.11.07

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールにおける特許出願書類・手続の比較

    日本で出願された特許出願を優先権の基礎としてシンガポールに特許出願する際に、必要となる出願書類および関連する法令についてまとめた。日本とシンガポールにおける特許出願について、出願書類と手続言語についての規定および優先権主張に関する手続を比較した。

  • 2019.10.31

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とインドの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較注目コンテンツ

    日本とインドの実体審査では、拒絶理由通知への応答に関する規定が異なっている。具体的には、応答期間が定まっている日本とは異なり、インドでは最初の拒絶理由通知書への応答期間は定められないが、代わりに特許付与のために整備する期間(拒絶理由解消期間)が定められる。そして、拒絶理由解消期間を過ぎると、その特許出願は放棄されたものとみなされる。

  • 2019.10.29

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とインドにおける特許出願書類・手続の比較注目コンテンツ

    主に日本で出願された特許出願を優先権の基礎としてインドに特許出願する際に、必要となる出願書類についてまとめた。日本とインドにおける特許出願について、出願書類と手続言語についての規定および優先権主張に関する要件を比較した。