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2024.11.28
オーストラリアにおける商標制度概要オーストラリアにおける商標の登録は、1995年商標法および商標規則に準拠している。また、コモンローの国であるため、商標の所有者は、コモンロー上の詐称通用を根拠として訴訟を提起することができる。商標の所有者は、オーストラリアにおいて最初に商標を使用する者または最初に商標出願を申請する者のうち、いずれか早い方である。
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2024.11.28
日本とインドにおける特許審査請求期限の比較日本における特許の審査請求期限は、日本出願日（優先権主張の有無にかかわらず）から3年であり、インドにおける特許の審査請求期限は出願日（優先権主張を伴う場合には優先日）から31か月である｡日本とインドの審査請求期限に関する規定を比較紹介する。また、審査請求後に手続可能である早期審査に関連する規定を併せて紹介する。
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2024.11.26
中国における特許出願の新規性喪失の例外について中国では、先願主義を採用しており、特許出願に係る発明の新規性の判断は出願日（または優先日）を基準とする。出願日（優先日）前に開示された発明は、たとえ出願人自身による開示であっても、原則として新規性は喪失する。しかし､この原則は科学技術の促進にマイナスの影響があるため、国際慣例に鑑み、一定の猶予期間に限って、定められた行為についてのみ、新規性喪失の例外が認められている。
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2024.11.21
中国における意匠出願制度概要中国における意匠の出願手続は、主に、(1)出願、(2)方式審査、(3)登録・公告の手順で進められる。方式審査において、明らかに創作非容易性の要件に反する等の一定の実体的な登録要件の審査が行われるが、その他の要件については登録後の無効請求により対応する。意匠権の存続期間は、出願日から15年である。
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2024.11.14
中国への特許出願における誤訳訂正の機会外国から中国への特許出願は、パリ優先権を主張して出願するルート（以下「パリルート出願」という。）とPCT出願を中国国内段階に移行して出願するルート（以下「PCTルート出願」という。）がある。外国語明細書を中国語明細書に翻訳する際に生じた誤訳については、PCTルート出願の場合、PCT出願書類を根拠に誤訳訂正ができるが、パリルート出願の場合、国務院専利行政部門へ提出した中国語明細書のみが根拠となるため、基礎出願の外国語明細書に正しい記載があっても、当該外国語明細書に基づく誤訳訂正は認められない。
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2024.11.14
トルコにおける商標異議申立制度トルコにおける商標出願は、絶対的拒絶理由の観点から実体審査された後、公告され、異議申立は、利害関係人のみが、公告後2か月以内に申し立てることが可能である。その期間は、延長されない。異議理由としては、絶対的拒絶理由および／または相対的拒絶理由を挙げることができる。国際登録出願もトルコへの指定通報後、同様に審査、公告され、異議申立があれば、WIPO国際事務局を経由して出願人に通知される。
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2024.11.12
ブラジルにおける商標の調べ方―ブラジル産業財産庁（INPI）の調査サイトブラジルにおける商標の無料検索サイトとして、ブラジル産業財産庁（INPI）が提供するウェブサイトがある。本稿では、これを利用したブラジルの商標の検索方法を紹介する。
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2024.11.12
中国における実用新案出願制度概要実用新案の出願手続は、主に、(i)出願、(ii)初歩審査、(iii)登録・公告の手順で進められる。実体審査は行われず、登録後の無効請求により対応する。実用新案特許権の存続期間は、出願日から10年である。
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2024.10.31
韓国における商標出願制度概要韓国の商標出願手続は、主に出願、方式審査、実体審査、出願公告、登録査定の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に継続して更新可能である。
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2024.10.24
中国における進歩性（創造性）の審査基準（専利審査指南）に関する一般的な留意点（後編）中国の審査基準（専利審査指南）のうち特許の進歩性（創造性）に関する事項について、日本の審査基準と比較して留意すべき点を中心に前編・後編に分けて紹介する。ただし、本稿では、各技術分野に共通する一般的な事項についてのみ取扱うこととし、コンピュータソフトウエア、医薬品など、特定の技術分野に特有の審査基準については省略する。また、発明の認定・対比などについては、「中国における新規性の審査基準に関する一般的な留意点」を参照されたい。後編では、進歩性の具体的な判断、数値限定、選択発明について解説する。進歩性に関する法令等の記載個所、進歩性判断の基本的な考え方、用語の定義については「中国における進歩性（創造性）の審査基準（専利審査指南）に関する一般的な留意点（前編）」（https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/34480/）をご覧ください。