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2018.11.20
インドネシアにおける意匠権の取得「模倣対策マニュアル インドネシア編」（2018年3月、日本貿易振興機構知的財産・イノベーション部知的財産課シンガポール事務所知的財産部）第1章第3節では、意匠権の取得に関する情報が紹介されている。具体的には、産業意匠法の概要、出願から登録までの手続き、意匠出願･登録件数等の統計、意匠権の効力、出願費用について紹介されている。
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2018.11.15
インドネシアにおける特許権の取得「模倣対策マニュアル インドネシア編」（2018年3月、日本貿易振興機構知的財産・イノベーション部知的財産課シンガポール事務所知的財産部）第1章第2節では、特許権の取得に関する情報が紹介されている。具体的には、特許法の概要、出願から登録までの手続き、特許出願･登録件数等の統計、特許審判に関する制度の概要等、特許権の効力、強制実施権に関する規定や実例、出願費用、特許維持年金について紹介している。
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2015.12.08
アフリカ広域知的所有権機関（ARIPO）における知的財産権関連制度の運用実態「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」（平成26年2月、日本国際知的財産保護協会）4-(11)では、アフリカ広域知的所有権機関（ARIPO）における知的財産権関連制度の運用実態について、ARIPOの一般情報、ARIPOの各議定書、外国政府との協力、知的財産権関連制度（特許・意匠・商標）や運用実態上の課題・留意点・リスク、権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト等が紹介されている。
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2015.03.31
中国における商標登録出願の流れと審査期間および期間短縮への動き（本記事は、2022/2/24に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/22613/中国では、商標登録出願に関する早期権利化のニーズはあるものの、早期審査（優先審査）の制度は設けられていない。しかしながら、2014年5月1日の中国商標法第三次改正に伴い、商標出願の審査期間が厳格に定められ、出願書類を受理してから9ヶ月以内に審査を終了しなければならないと規定された。このことにより、従来は登録までに出願から2～3年かかることもあった商標出願の審査期間が大幅に短縮されることになった。
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2015.01.08
インドネシアにおける著作権の取得「模倣対策マニュアル インドネシア編」（2008年3月、日本貿易振興機構）2(6)では、インドネシアにおける著作権の取得について、著作権法の概要、出願に必要な書類、出願費用等について説明され、添付資料として、著作権法全文、著作権登録出願様式も紹介されている。
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2015.01.06
インドネシアにおける商標の取得（本記事は、2018/11/22に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16164/「模倣対策マニュアル インドネシア編」（2008年3月、日本貿易振興機構）2(5)では、インドネシアにおける商標の取得について、商標法の概要、出願に必要な書類、商標権の効力、出願費用、他人の権利に対する対抗手段、出願・登録状況に関する統計等について紹介され、出願から登録までの手続きがフローチャートを交えて説明されている。また、添付資料として、商標法全文、商標出願様式、不使用に基づく商標取消事例、冒用出願への対抗事例も紹介されている。
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2014.12.26
インドネシアにおける産業意匠の取得（本記事は、2018/11/20に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16142/「模倣対策マニュアル インドネシア編」（2008年3月、日本貿易振興機構）2(4)では、インドネシアにおける産業意匠の取得について、産業意匠法の概要、出願に必要な書類、産業意匠権の効力、出願費用、出願・登録状況に関する統計等について紹介され、出願から登録までの手続きがフローチャートを交えて説明されている。また、添付資料として産業意匠法全文、産業意匠出願様式、模倣意匠の同一性に関する判決例も紹介されている。
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2014.12.22
インドネシアにおける特許の取得（本記事は、2018/11/15に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16141/「模倣対策マニュアル インドネシア編」（2008年3月、日本貿易振興機構）2(3)では、インドネシアにおける特許の取得について、特許法の概要、出願に必要な書類、特許権の効力、出願費用、出願・登録状況に関する統計等について紹介され、出願から登録までの手続きがフローチャートを交えて説明されている。また、添付資料として特許法全文及び特許出願様式も紹介されている。
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2014.02.19
韓国におけるデザイン保護制度（本記事は、2020/2/13に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18280/「模倣対策マニュアル 韓国編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第４章では、韓国のデザイン保護制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持、デザイン無審査登録異議申立、デザイン審判手続等について紹介されている。韓国のデザイン登録出願は物品により、実体審査を経ないで登録になるものと、実体審査を経て登録になるものがある。「デジタル社会におけるデザイン保護に即した意匠制度の在り方に関する調査研究」（2012年2月、知的財産研究所）II．２．（３）では、表示器等の物品に表示された、物品の部分としての画面デザインの保護について紹介されている。
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2014.02.18
台湾進出における知的財産関連の留意事項「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」（2013年3月、交流協会）Ｂ．第三章第一節では、台湾進出おける知的財産関連の留意事項について説明されている。具体的には、特許、実用新案、意匠、商標の権利化の具体的な費用の額を示すと共に、出願手続のフローチャートを用いて知的財産権取得の際の検討事項を説明し、ライセンス契約時の留意点やロイヤリティ等にも説明している。