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2024.11.12
中国における実用新案出願制度概要実用新案の出願手続は、主に、(i)出願、(ii)初歩審査、(iii)登録・公告の手順で進められる。実体審査は行われず、登録後の無効請求により対応する。実用新案特許権の存続期間は、出願日から10年である。
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2024.10.24
中国における特許出願制度概要特許の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)実体審査、(5)登録・公告の手順で進められる。特許権の存続期間は、出願日から20年である。
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2024.10.01
中国における商標出願制度概要中国における商標出願は、国家知識産権局に属する商標局に対して行い、出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)実体審査、(4)出願公告、(5)登録公告の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に何度でも更新可能である。
本稿は、2014年5月1日に施行された改正商標法実施条例（以下「条例」という。）および2019年11月1日に施行された改正商標法（以下「商標法」という。）に基づき説明する。 -
2023.10.17
チリにおける特許法の概要チリでは、特許出願がなされると、方式審査、実体審査を経て、新規性、進歩性、及び産業上利用可能性を有する発明に特許権が付与される。チリへの特許出願に際しては、スペイン語の明細書が必要である。なお、チリにおける特許に関する規定は、1991年1月25日に施行された産業財産に関する法律第19039号（以下「産業財産法」という。）に定められており、この産業財産法は、2021年7月5日の法No.21355により改正され、改正産業財産法は2022年5月9日より施行されている。この改正により、仮出願制度の導入や追加保護（特許権存続期間の延長）の請求期限の短縮などが行われた。
以下、チリにおける特許法の概要について説明する。 -
2021.11.30
中国における実用新案出願制度概要（本記事は、2024/11/12に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/40142/中国実用新案出願の流れ
実用新案の出願手続は、主に、(i)出願、(ii)方式審査、(iii)登録・公告の手順で進められる。実体審査は行われず、登録後の無効請求により対応される。実用新案特許権の存続期間は出願日から10年。 -
2020.04.28
中国における意匠出願制度概要（本記事は、2022/12/6に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27296/中国意匠出願の流れ
意匠の出願手続は、主に、(i)出願、(ii)方式審査、(iii)登録・公告の手順で進められる。実体審査は行われず、登録後の無効請求により対応される。意匠特許権の存続期間は出願日から10年。 -
2020.04.16
中国における商標出願制度概要（本記事は、2024/10/1に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/40033/（2020年6月10日訂正：
本記事の詳細及び留意点の(5)登録公告の部分において当初「権利の存続期間は出願日より10年であり（商標法第39条）、登録日は初日に算入する。」と記載しておりましたが、「権利の存続期間は登録日より10年であり（商標法第39条）、登録日は初日に算入する。」が正しい記載でした。お詫びして訂正いたします。）中国における商標出願は、国家知識産権局に属する商標局に対して行い、出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)実体審査、(4)出願公告、(5)登録公告の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に何度でも更新可能である。
また、2014年5月1日より商標法の改正により音声商標、一商標多区分出願制度が導入され、2019年11月1日施行予定の改正法では「使用を目的としない悪意の商標登録出願」への対応が示されている。 -
2020.03.19
韓国における意匠（韓国語「デザイン」）出願制度概要韓国デザイン出願制度の概要
韓国デザイン登録は、実体審査を経るものと経ないもの（方式審査のみ）に分かれている。
デザイン一部審査登録の対象物品は指定されており、出願後、実体審査なしに登録されるが、異議申立制度がある。
審査登録出願は、実体審査、登録、年金納付等の順序で行われ、異議申立制度はない。 -
2020.03.17
中国における特許出願制度概要（本記事は、2024/10/24に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/40114/（2021年4月13日訂正：
本記事のソースにおいて「特許庁委託事業 外国産業財産権侵害対策等支援事業」のURLを記載しておりましたが、リンク切れとなっていたため、URLを修正いたしました。 ）中国特許出願の流れ
特許の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)実体審査、(5)登録・公告の手順で進められる。特許権の存続期間は出願日から20年。 -
2019.11.21
カンボジアにおける商標出願制度の概要商標出願の手続は主に、出願、方式審査、実体審査、登録の順に進行する。商標権の存続期間は、カンボジアにおける出願日から10年であるが、10年間の更新が可能である。商務省（MOC：Ministry of Commerce）の知的財産局（DIPR：Department of Intellectual Property Rights）は、標章、商号および不正競争行為に関する法律（以下、「商標法」という。）、並びに、標章、商号および不正競争行為に関する法律の施行に関する規則（以下、「商標法施行規則」という。）に従い、カンボジアにおける商標関連事項を所管する。