■ 全10件中、1~10件目を表示しています。
-
2016.04.25
韓国における特許法改正(2015年1月/7月施行)が出願実務に与える影響【その1】韓国では、昨年、2回の特許法改正が施行された(2015年1月1日施行および2015年7月29日施行)。これらの改正では、特許出願人、特に、韓国外から韓国特許出願を行う者にとって、より手続きを行いやすくなる改正事項が含まれている。以下の改正事項に関して、ポイントと出願実務に与える影響を解説する。
1. 外国語書面出願制度の導入
2. PCT国内移行 翻訳文提出期間の延長
3. PCT国内移行 翻訳文の誤訳訂正の導入
4. 公知例外主張(日本の「新規性喪失例外適用」にあたる)の補完
5. 特許査定後の分割出願韓国における特許法改正が出願実務に与える影響について、SUNYOUNG IP GROUPの弁理士 許 容録氏が全2回シリーズで解説しており、本稿は、【その1】として、1.外国語書面出願制度の導入、2.PCT国内移行 翻訳文提出期間の延長、3.PCT国内移行 翻訳文の誤訳訂正の導入についての解説である。
-
2014.08.22
ロシアにおける意匠の表現に関する制度・運用ロシアにおいて、意匠の表現は、図面のほか写真若しくはCGによる特定が可能である。図面について必要最小図面数の限定や提出可能図面数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する図面、即ち斜視図、正面図、背面図、上面図、底面図、左側面図、右側面図を提出しなければならない。提出図面の大きさはA4サイズという制約があり、拡大図の提出も可能である。写真についても必要最小写真数の限定や提出可能写真数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する写真の提出が求められており、写真は鮮明なものである必要がある(白黒/カラーいずれでも良い)。CGによる意匠の特定は静止状態のもののみ認められる(他の条件は写真と同様)。
-
2014.03.05
サウジアラビアにおける半導体回路配置および意匠制度本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第2部第2章第2節では、サウジアラビアにおける半導体回路配置及び意匠制度について紹介されている。サウジアラビアでは、回路配置及び意匠は、「特許、集積回路の回路配置、植物品種及び工業意匠に関する法律」によって保護されるが、本節では、意匠における登録要件、出願、優先権主張及び新規性喪失の例外、並びに、集積回路の回路配置における登録要件、譲渡、実施許諾及び強制実施権等について紹介されている。
-
2014.03.05
アラブ首長国連邦における意匠及び工業モデル制度本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第1部第2章第2節では、アラブ首長国連邦(UAE)における意匠及び工業モデル制度について紹介されている。具体的には、新規性喪失の例外適用期間、意匠登録出願手続き、意匠および工業モデル登録の効果、譲渡、救済措置等、意匠及び工業モデル制度全般について紹介されている。
-
2014.02.19
韓国におけるデザイン保護制度(本記事は、2020/2/13に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18280/「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II編第4章では、韓国のデザイン保護制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持、デザイン無審査登録異議申立、デザイン審判手続等について紹介されている。韓国のデザイン登録出願は物品により、実体審査を経ないで登録になるものと、実体審査を経て登録になるものがある。「デジタル社会におけるデザイン保護に即した意匠制度の在り方に関する調査研究」(2012年2月、知的財産研究所)II.2.(3)では、表示器等の物品に表示された、物品の部分としての画面デザインの保護について紹介されている。
-
2014.02.11
ベトナムにおけるハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)III.2では、ベトナムにおけるハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題について紹介されている。具体的には、ジュネーブ改正協定について、複数意匠一括出願制度、拒絶通報期間、秘密の写しの受理、新規性喪失の例外規定等に分けて説明すると共に、それぞれについてのベトナムの課題に言及している。
-
2013.12.27
マレーシアにおけるハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)III.4では、マレーシアにおけるハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題について紹介されている。具体的には、複数意匠一括出願制度、拒絶通報期間、秘密の写しの受理、新規性喪失の例外規定等のそれぞれの制度の説明及び検討課題について紹介している。
-
2013.12.20
シンガポールにおける意匠登録制度及びその運用実態(2022年5月13日訂正:
本記事のソース「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)II.5、III.5では、シンガポールにおける意匠登録制度全般について詳しく説明されている。具体的には、意匠登録制度の法令、規則等の整備状況や、管轄部局の組織図、出願書類、登録要件、権利の効力範囲、裁判例等が説明され、資料編では、ガイドラインや審査フロー図等が掲載されている。
-
2013.09.06
ロシアにおける意匠制度(本記事は、2017/7/11に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/statistics/13891/「模倣対策マニュアル ロシア編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第1章第2節では、ロシアにおける意匠制度の概要、出願から登録までの流れ(方式審査、実体審査等)、審判、手数料、譲渡・ライセンス等について記載されている。
-
2012.12.21
(中国)無効理由の提出期限超過の例外無効審判請求の無効理由は法定期間内に提出しなければならない。本件は、意匠権が無効審判で特許庁審判部によって維持決定がなされ、それを不服とした無効審判請求人が審決取消訴訟を起こしたもので、証拠補充期間経過後に提出した無効理由の扱いについて争った事案である。