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2022.07.28
ブルネイにおける主な知的財産関連サイトのリンク情報（その１）ブルネイの主な知的財産関連サイトであるブルネイ知的財産庁に関する情報について、掲載されているリンク情報を一覧にして示した。
なお、日本貿易振興機構（JETRO）のブルネイの知的財産に関する情報については、（その２）を参照されたい。
その２：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/24181/ -
2022.06.23
タイ、ベトナム、インドネシア、シンガポール、マレーシアの意匠制度比較タイ、ベトナム、インドネシア、シンガポール、マレーシアの意匠に関する制度情報を比較一覧する。
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2022.01.25
韓国におけるデザイン一部審査登録制度および対象物品の拡大韓国ではデザイン（意匠）出願に対して、新規性等の実体的要件を審査してデザイン権を付与する審査主義を採用していたが、出願件数の増加に伴い、迅速に権利化できない問題が生じたため、一部の物品については審査をせず登録する「無審査登録制度」を1998年3月1日付で導入した。しかし、制度上の様々な問題が生じたために2014年7月1日付で「一部審査登録制度」へと名称を変更し、登録基本要件を審査することになった。また、2020年12月にデザイン一部審査登録出願の対象物品の分類区分が拡大された。
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2021.11.23
ロシア、ブラジル、インド、トルコ、メキシコの意匠制度比較ロシア、ブラジル、インド、トルコ、メキシコの意匠に関する制度情報を比較一覧する。
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2021.11.23
フィリピン、ミャンマー、カンボジア、ラオス、ブルネイの意匠制度比較フィリピン、ミャンマー、カンボジア、ラオス、ブルネイの意匠に関する制度情報を比較一覧する。
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2021.11.09
中国、韓国、台湾、香港の意匠制度比較中国、韓国、台湾、香港の意匠に関する制度情報を比較一覧する。
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2020.08.25
中国における画像意匠の保護制度中国における画像意匠の保護制度について、平面パターンとグラフィカルユーザインターフェース（GUI）に分けて解説する。
平面パターンは中国専利法第2条の規定に基づき意匠専利として申請できる。また、2019年11月1日に改正が施行された『専利審査指南』において、第1部分第3章に「4.4 グラフィカルユーザインタ-フェースに係る製品意匠」という節が新たに設けられた。 -
2020.07.30
香港における画像意匠の保護制度香港では、「画像意匠」に対する専門的な意匠分類、および制定された保護制度がないが、ロカルノ分類における「グラフィックシンボル・ロゴ、表面の図案、装飾」の意匠であって物品に適用されたものや、ほかの国や地区で登録されたグラフィカルユーザーインターフェース（GUI）に関する意匠等、画像が意匠として登録され得る場合がある。
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2020.02.25
韓国における条約加入の現況「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第II編 韓国の知的財産制度と関連法」「第11章 条約加入の現況」では、韓国における条約加入の現況が紹介されている。
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2017.12.05
ヨルダンにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアル「中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」（平成29年3月、日本国際知的財産保護協会）第2部Kでは、ヨルダンにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルについて、出願制度の概要や審査の実態が、特許、意匠、商標の権利種別毎に条文やフローチャートを交えて説明されている。審査基準・審査マニュアルは特許については整備されているが公開されていない。なお、実用新案制度はない。